4-hydroxyphenyldiphenylsulfonium 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-(methacryloyloxy)propane-1-sulfonate | 1322798-00-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 酚类
• 英文名称: 4-hydroxyphenyldiphenylsulfonium 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-(methacryloyloxy)propane-1-sulfonate
• 英文别名: 4-Hydroxyphenyldiphenylsulfonium 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-(methacryloyloxy)propane-1-sulfonate；(4-hydroxyphenyl)-diphenylsulfanium;1,1,3,3,3-pentafluoro-2-(2-methylprop-2-enoyloxy)propane-1-sulfonate
• CAS: 1322798-00-4
• 化学式: C₇H₆F₅O₅S*C₁₈H₁₅OS
• 分子量: 576.562
• InChiKey: DGDYIYFDIZJGLZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.66
• 重原子数：
  38
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.16
• 拓扑面积：
  113
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  11

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  triethylammonium 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-methacryloyloxypropane-1-sulfonate 生成 4-hydroxyphenyldiphenylsulfonium 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-(methacryloyloxy)propane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  NOVEL SULFONIUM SALT, POLYMER, METHOD FOR PRODUCING THE POLYMER, RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS

  摘要：

  本发明公开了一种由下列通式（1）表示的磺鎵盐。在该式中，X和Y分别表示具有可聚合官能团的基团；Z表示具有1至33个碳原子的二价碳氢基团，可选含有杂原子；R1表示具有1至36个碳原子的二价碳氢基团，可选含有杂原子；R2和R3分别表示具有1至30个碳原子的一价碳氢基团，可选含有杂原子，或者R2和R3可以与该式中的硫原子一起形成环。可以提供一种可用作抗蚀剂组成物的磺鎵盐，该组成物在使用高能束如ArF准分子激光、EUV光和电子束作为光源的光刻工艺中提供高分辨率和优异的LER，以及从该磺鎵盐获得的聚合物、含有该聚合物的抗蚀剂组成物和使用该抗蚀剂组成物的图案化工艺。

  公开号：

  US20110189607A1

文献信息

• Sulfonium salt, polymer, method for producing the polymer, resist composition and patterning process
  申请人：Ohashi Masaki

  公开号：US08691490B2

  公开（公告）日：2014-04-08

  There is disclosed a sulfonium salt represented by the following general formula (1). In the formula, X and Y each represents a group having a polymerizable functional group; Z represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 33 carbon atoms optionally containing a hetero atom; R1 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms optionally containing a hetero atom; and R2 and R3 each represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms optionally containing a hetero atom or R2 and R3 may be bonded with each other to form a ring together with a sulfur atom in the formula. There can be provided a sulfonium salt usable as a resist composition providing high resolution and excellent in LER in photolithography using a high energy beam such as an ArF excimer laser, an EUV light and an electron beam as a light source, a polymer obtained from the sulfonium salt, a resist composition containing the polymer and a patterning process using the resist composition.

  本发明涉及一种由下列通式（1）所表示的磺鎵盐。在该式中，X和Y分别表示具有可聚合官能团的基团；Z表示具有1至33个碳原子的双价碳氢基团，可选含有杂原子；R1表示具有1至36个碳原子的双价碳氢基团，可选含有杂原子；R2和R3分别表示具有1至30个碳原子的单价碳氢基团，可选含有杂原子，或者R2和R3可以与该式中的硫原子结合形成环。可以提供一种可用于抗蚀剂组合物的磺鎵盐，其在使用高能光源（例如ArF准分子激光器、EUV光和电子束）进行光刻时具有高分辨率和优异的LER，还可以提供从该磺鎵盐获得的聚合物、含有该聚合物的抗蚀剂组合物以及使用该抗蚀剂组合物进行图案化的方法。
• NOVEL SULFONIUM SALT, POLYMER, METHOD FOR PRODUCING THE POLYMER, RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：OHASHI Masaki

  公开号：US20110189607A1

  公开（公告）日：2011-08-04

  There is disclosed a sulfonium salt represented by the following general formula (1). In the formula, X and Y each represents a group having a polymerizable functional group; Z represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 33 carbon atoms optionally containing a hetero atom; R 1 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms optionally containing a hetero atom; and R 2 and R 3 each represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms optionally containing a hetero atom or R 2 and R 3 may be bonded with each other to form a ring together with a sulfur atom in the formula. There can be provided a sulfonium salt usable as a resist composition providing high resolution and excellent in LER in photolithography using a high energy beam such as an ArF excimer laser, an EUV light and an electron beam as a light source, a polymer obtained from the sulfonium salt, a resist composition containing the polymer and a patterning process using the resist composition.

  本发明公开了一种由下列通式（1）表示的烷基磺鎵盐。在该式中，X和Y分别表示具有可聚合官能团的基团；Z表示具有1至33个碳原子的双价碳氢基团，可选地含有一个杂原子；R1表示具有1至36个碳原子的双价碳氢基团，可选地含有一个杂原子；R2和R3分别表示具有1至30个碳原子的单价碳氢基团，可选地含有一个杂原子，或者R2和R3可以与该式中的硫原子一起形成环。可以提供一种可用作抗蚀剂组分的烷基磺鎵盐，该抗蚀剂组分在使用高能束如ArF准分子激光、EUV光和电子束作为光源的光刻工艺中，提供高分辨率和优异的LER，以及从该烷基磺鎵盐得到的聚合物、包含该聚合物的抗蚀剂组分和使用该抗蚀剂组分进行图案化处理的方法。