Tris-(trimethylsilyl)-methyl | 28882-10-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: Tris-(trimethylsilyl)-methyl
• 英文别名: Tris(trimethylsilyl)radikal；Tris(trimethylsilyl)methylradikal；tris(trimethylsilyl)methyl radical
• CAS: 28882-10-2
• 化学式: C₁₀H₂₇Si₃
• 分子量: 231.581
• InChiKey: OQGNYWVAKBZCAY-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.19
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.9
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  三（三甲代甲硅烷基）甲烷 在 二叔丁基过氧化物 作用下， 以 苯 为溶剂， 生成 Tris-(trimethylsilyl)-methyl
  参考文献：
  名称：

  三（三甲基甲硅烷基）甲硅烷基与三（三甲基甲硅烷基）甲硅烷基：自由基反应性和氧化能力

  摘要：

  提供了三（三甲基甲硅烷基）甲硅烷基I和三（三甲基甲硅烷基）甲锗烷基II自由基反应性的比较。通过激光闪光光解，量子力学计算和电子自旋共振（ESR）实验检查了它们的形成以及在多种化学过程（双键加成，卤素抽象，过氧自由基形成等）中遇到的反应性。起始化合物（TMS）3 GeH比（TMS）3 SiH对叔丁氧基，叔丁基过氧基和膦酰基具有更高的反应性。对于芳族酮三重态也观察到类似的行为。II表现出较低的绝对电负性：因此，向富电子的烯烃中添加的效率低于I的效率。还发现自由基II对于过氧化（II + O2→II-O2）和卤素提取反应均具有较低的反应性。II-O2的重排比I-O2的重排慢；这与过程各自的放热有关。

  DOI：

  10.1016/j.jorganchem.2008.08.039

文献信息

• Tris(trimethylsilyl)silyl versus tris(trimethylsilyl)germyl: Radical reactivity and oxidation ability
  作者：Jacques Lalevée、Nicolas Blanchard、Bernadette Graff、Xavier Allonas、Jean Pierre Fouassier

  DOI：10.1016/j.jorganchem.2008.08.039

  日期：2008.11

  (TMS)3SiH toward the t-butoxyl, the t-butylperoxyl and the phosphinoyl radicals. A similar behavior is noted for an aromatic ketone triplet state. II exhibits a lower absolute electronegativity: accordingly, the addition to electron rich alkenes is less efficient than for I. Radical II is also found less reactive for both the peroxylation (II+O2→II-O2) and the halogen abstraction reactions. The rearrangement

  提供了三（三甲基甲硅烷基）甲硅烷基I和三（三甲基甲硅烷基）甲锗烷基II自由基反应性的比较。通过激光闪光光解，量子力学计算和电子自旋共振（ESR）实验检查了它们的形成以及在多种化学过程（双键加成，卤素抽象，过氧自由基形成等）中遇到的反应性。起始化合物（TMS）3 GeH比（TMS）3 SiH对叔丁氧基，叔丁基过氧基和膦酰基具有更高的反应性。对于芳族酮三重态也观察到类似的行为。II表现出较低的绝对电负性：因此，向富电子的烯烃中添加的效率低于I的效率。还发现自由基II对于过氧化（II + O2→II-O2）和卤素提取反应均具有较低的反应性。II-O2的重排比I-O2的重排慢；这与过程各自的放热有关。