我的裂解率3种MR化合物(M =
硅,R =米-ClC 6 ħ 4 CH 2,P-NO 2 C ^ 6 ħ 4 CH 2中,Ph 2 CH,9-
芴基,和2-
苯并噻吩基; M =的Sn,R =米-ClC 6 ħ 4 CH 2中,Ph 2 CH,2-
苯并噻吩基)已经被在我测量2 SO /
甲醇/的MeONa中,Me 2 SO /
乙醇/ EtONa,和Me 2 SO / H 2 O / HONMe 4含有不同媒体的羟基组分的量。在日志的斜率变化ķ相对ħ地块是与
水或醇分子提供为
锡化合物的速率决定步骤,其中R =电援助的观点一致米-ClC 6 ħ 4 CH 2和2 -benzothienyl,而对于
硅化合物,以及可能用于与R = PH中的
锡化合物2 CH,碳负离子被在速率决定步骤中解放出来。