6-Acetoxy-naphthalene-2-carboxylic acid 2-(2-methyl-acryloyloxy)-ethyl ester | 1258072-07-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 6-Acetoxy-naphthalene-2-carboxylic acid 2-(2-methyl-acryloyloxy)-ethyl ester
• 英文别名: 2-(2-Methylprop-2-enoyloxy)ethyl 6-acetyloxynaphthalene-2-carboxylate
• CAS: 1258072-07-9
• 化学式: C₁₉H₁₈O₆
• 分子量: 342.348
• InChiKey: HQXUHOHLEYGLDQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.6
• 重原子数：
  25
• 可旋转键数：
  9
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.21
• 拓扑面积：
  78.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  甲基丙烯酸羟乙酯 、 6-acetoxy-2-naphthalenecarboxylic acid chloride 在 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 生成 6-Acetoxy-naphthalene-2-carboxylic acid 2-(2-methyl-acryloyloxy)-ethyl ester
  参考文献：
  名称：

  COATING COMPOSITIONS SUITABLE FOR USE WITH AN OVERCOATED PHOTORESIST

  摘要：

  在一个方面，提供了有机涂层组合物，特别是抗反射涂层组合物，其包括二烯/二烯亲双反应产物。在另一个方面，提供了有机涂层组合物，特别是抗反射涂层组合物，其包括一个含有羟基-萘甲基团的组分，例如6-羟基-2-萘甲基团。本发明的优选组合物可用于减少曝光辐射从基板反射回覆盖的光刻胶层，并/或作为平坦化、整平或填孔层。

  公开号：

  US20110003250A1

文献信息

• Coating compositions suitable for use with an overcoated photoresist
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials, LLC

  公开号：EP2261738A2

  公开（公告）日：2010-12-15

  In one aspect, organic coating compositions, particularly antireflective coating compositions, are provided that comprise that comprise a diene/dienophile reaction product. In another aspect, organic coating compositions, particularly antireflective coating compositions, are provided that comprise a component comprising a hydroxyl-naphthoic group, such as a 6-hydroxy-2-naphthoic group Preferred compositions of the invention are useful to reduce reflection of exposing radiation from a substrate back into an overcoated photoresist layer and/or function as a planarizing, conformal or via-fill layer.

  一方面，有机涂层组合物，尤其是减反射涂层组合物，包含二烯/亲二烯反应产物。在另一方面，提供的有机涂层组合物，尤其是抗反射涂层组合物，包含一个由羟基-萘基（如 6-羟基-2-萘基）组成的组分。 本发明的优选组合物有助于减少曝光辐射从基底反射回涂层光刻胶层和/或用作平面化、保形或通孔填充层。
• US8883407B2
  申请人：——

  公开号：US8883407B2

  公开（公告）日：2014-11-11
• US9708493B2
  申请人：——

  公开号：US9708493B2

  公开（公告）日：2017-07-18
• COATING COMPOSITIONS SUITABLE FOR USE WITH AN OVERCOATED PHOTORESIST
  申请人：Amara John P.

  公开号：US20110003250A1

  公开（公告）日：2011-01-06

  In one aspect, organic coating compositions, particularly antireflective coating compositions, are provided that comprise that comprise a diene/dienophile reaction product. In another aspect, organic coating compositions, particularly antireflective coating compositions, are provided that comprise a component comprising a hydroxyl-naphthoic group, such as a 6-hydroxy-2-naphthoic group Preferred compositions of the invention are useful to reduce reflection of exposing radiation from a substrate back into an overcoated photoresist layer and/or function as a planarizing, conformal or via-fill layer.

  在一个方面，提供了有机涂层组合物，特别是抗反射涂层组合物，其包括二烯/二烯亲双反应产物。在另一个方面，提供了有机涂层组合物，特别是抗反射涂层组合物，其包括一个含有羟基-萘甲基团的组分，例如6-羟基-2-萘甲基团。本发明的优选组合物可用于减少曝光辐射从基板反射回覆盖的光刻胶层，并/或作为平坦化、整平或填孔层。