N-[(2-acrylolyl)ethoxy]-1,8-naphthalimide | 40459-72-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 异喹啉及其衍生物
• 英文名称: N-[(2-acrylolyl)ethoxy]-1,8-naphthalimide
• 英文别名: 2-Naphthalimidoethyl-acrylat；2-(2-acryloyloxy-ethyl)-benzo[de]isoquinoline-1,3-dione；2-(1,3-Dioxobenzo[de]isoquinolin-2-yl)ethyl prop-2-enoate
• CAS: 40459-72-1
• 化学式: C₁₇H₁₃NO₄
• 分子量: 295.295
• InChiKey: JCDFKTFQBWWFEI-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.12
• 拓扑面积：
  63.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-(2-羟基乙基)-1H-苯并[de]异喹啉-1,3(2H-)-二酮 、 丙烯酰氯 在 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 8.0h， 以80%的产率得到N-[(2-acrylolyl)ethoxy]-1,8-naphthalimide
  参考文献：
  名称：

  Synthesis and spectral properties of novel laser copolymers based on modified rhodamine 6G and 1,8­naphthalimide

  摘要：

  含有两个1,8-萘酰亚胺作为天线的三色颜料罗丹明染料（TCR-1和TCR-2）在甲基丙烯酸酯中进行固态激光操作时，观察到了其优秀的光稳定性。要进一步理解这些化合物中运行的稳定机制，需要对其光物理特性进行研究。通过单光子计数技术测量了TCR-1和TCR-2的荧光寿命，并观察到了从萘酰亚胺部分（NA）到罗丹明部分（Rh）的分子内单态能量转移。为了获得具有高激光辐射损伤阈值的激光染料聚合物材料，已将改性罗丹明6G分子（Rh-Al或Rh-Aln）与可聚合双键与1,8-萘酰亚胺衍生物共聚合。这些新共聚物的吸收光谱表明，在其基态中，两个NA与Rh部分之间几乎没有或没有相互作用，然而荧光光谱表明，在共聚物中，NA基团向Rh-Al或Rh-Aln基团的能量转移是确实发生的。相比之下，未观察到对应于共聚物的单体等摩尔混合物中能量转移，这表明在本研究合成的共聚物中，分子内能量转移主要沿着聚合物链发生。

  DOI：

  10.1039/b000141o

文献信息

• Photoradical polymerization initiator, radical generator, photosensitive compound and photosensitive resin composition containing these materials and product or its accessory portions using the composition
  申请人：SAKAYORI Katsuya

  公开号：US20080275154A1

  公开（公告）日：2008-11-06

  The present invention provides a radical generator having a naphthalimide structure or a crosslinking agent and a photosensitive compound having a function as a radical generator. A photoradical polymerization initiator of the present invention comprises a compound (a) having only one naphthalimide structure-containing group in one molecule. The radial generator of the present invention comprises a compound (c) having two or more naphthalimide structure-containing groups in one molecule and also functions as a crosslinking agent. A first photosensitive compound of the present invention comprises a compound (d) having a naphthalimide structure-containing group and an ethylenic unsaturated group in one molecule. A second photosensitive compound of the present invention comprises a polymer (e) of one or more radical polymerizable compounds containing the compound (d). A photosensitive resin composition according to the present invention contains, as an essential component, the above compound (a), compound (c), compound (d) or polymer (e).
• US7410746B2
  申请人：——

  公开号：US7410746B2

  公开（公告）日：2008-08-12
• US8211613B2
  申请人：——

  公开号：US8211613B2

  公开（公告）日：2012-07-03