configuration of HArF with higher thermal stability. The HF/Ar solid mixtures were studied in a closed-cycle helium cryostat (APD, DE 202A) at temperatures down to 7.5 K. The samples were deposited onto a cold CsI substrate by passing Ar gas (40Ar from AGA and 36Ar from ICON Services) over an HFpyridine polymer (Fluka) at room temperature. Photolysis of HF was performed with a Kr continuum lamp (Opthos) emitting
在过去的十年中,许多 HRgY 分子 (H ) 氢;Rg ) Ar、Kr、Xe;Y ) 电负性片段) 已在稀有气体固体中进行了实验表征,并使用 ab initio 方法进行了计算。1,2 这些物质是由中性片段形成的,3 实验支持它们的内在稳定性。4 这些分子构成了重要的中间体稀有气体主体中 HY 分子的紫外线光解证明了初级光解的位置。5 最近在 Xe 簇中观察到了一种 HRgY 分子 HXeI。6 在 Ar 中鉴定了一种稳定的含 Ar 分子 HArF矩阵。2 HArF 的高级从头算计算证实了它的内在稳定性。 7,8 HArF 的一个不清楚的实验事实是它在 27 K 以上退火时会下降,2 与计算的 0.33 eV 分解势垒相矛盾。7 在本次交流中,我们报告了具有更高热稳定性的 HArF 的额外固态配置。HF/Ar 固体混合物在闭环
氦低温恒温器(APD,DE 202A)中在低至 7.5 K 的温度下进行研究。通过使