9-phenyl-9-(trifluoromethyl)-2,3,6,7-xanthenetetracarboxylic dianhydride

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 苯并吡喃
• 英文名称: 9-phenyl-9-(trifluoromethyl)-2,3,6,7-xanthenetetracarboxylic dianhydride
• 英文别名: 12-Phenyl-12-(trifluoromethyl)-2,7,17-trioxapentacyclo[11.7.0.03,11.05,9.015,19]icosa-1(13),3(11),4,9,14,19-hexaene-6,8,16,18-tetrone
• 化学式: C₂₄H₉F₃O₇
• 分子量: 466.326
• InChiKey: PQZDSZMKKAQBHF-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.8
• 重原子数：
  34
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  6.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.08
• 拓扑面积：
  96
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  10

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  3,4-二甲基苯酚 在 吡啶 、 potassium permanganate 、 乙酸酐 、 三氟乙酸 作用下， 以 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 反应 96.0h， 生成 9-phenyl-9-(trifluoromethyl)-2,3,6,7-xanthenetetracarboxylic dianhydride
  参考文献：
  名称：

  一种具有氟化刚性结构的四羧酸二酐的合成方法

  摘要：

  本发明提出了一种具有氟化刚性结构的四羧酸二酐的合成方法，通过采用三氟甲磺酸、三氟乙酸和/或硫酸来替代氢氟酸作为催化剂以实现3，4‑二甲基苯酚或3，3'，4，4'‑四甲基二苯醚到氧杂蒽四羧酸二酐的转化，整个合成方法具有高效、安全、可控的优点。

  公开号：

  CN111303183A

文献信息

• THIN FILM TRANSISTOR SUBSTRATE
  申请人：FUKUDA Shunji

  公开号：US20130126860A1

  公开（公告）日：2013-05-23

  A main object of the present invention is to provide a TFT substrate having excellent switching characteristics. The object is attained by providing a thin film transistor substrate comprising: a substrate, and a thin film transistor having an oxide semiconductor layer that is formed on the substrate and is formed from an oxide semiconductor, and a semiconductor layer-adjoining insulating layer formed to be in contact with the oxide semiconductor layer, wherein at least one semiconductor layer-adjoining insulating layer included in the thin film transistor is a photosensitive polyimide insulating layer formed by using a photosensitive polyimide resin composition.

  本发明的主要目的是提供一种具有优异开关特性的TFT基板。该目标通过提供一种薄膜晶体管基板来实现，该基板包括：基板和薄膜晶体管，所述薄膜晶体管具有在基板上形成的氧化物半导体层，该氧化物半导体层由氧化物半导体形成，并且与氧化物半导体层接触的半导体层相邻的绝缘层，其中，在薄膜晶体管中包括的至少一个半导体层相邻的绝缘层是使用光敏聚酰亚胺树脂组合物形成的光敏聚酰亚胺绝缘层来实现的。
• Photosensitive polyimide compositions
  申请人：Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc.

  公开号：US10036952B2

  公开（公告）日：2018-07-31

  This disclosure relates to a photosensitive composition that includes at least one fully imidized polyimide polymer having a weight average molecular weight in the range of about 20,000 Daltons to about 70,000 Daltons; at least one solubility switching compound; at least one photoinitiator; and at least one solvent. The composition is capable of forming a film or a dry film having a dissolution rate of greater than about 0.15 micron/second using cyclopentanone as a developer.

  本公开涉及一种光敏组合物，它包括至少一种重量平均分子量在约 20,000 道尔顿至约 70,000 道尔顿范围内的全亚胺化聚酰亚胺聚合物；至少一种溶解度切换化合物；至少一种光引发剂；以及至少一种溶剂。使用环戊酮作为显影剂，该组合物能够形成溶解速率大于约 0.15 微米/秒的薄膜或干膜。
• Gas separation composite membrane, gas separation module, gas separation device, gas separation method, and method of producing gas separation composite membrane
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US10226743B2

  公开（公告）日：2019-03-12

  Provided are a gas separation composite membrane including a gas separation layer which is formed to include a polyimide compound on the upper side of a gas permeating support, in which the solubility of the polyimide compound in dimethylacetamide at 20° C. is 20 mg/100 g or less, and the thickness of the gas separation layer is 0.1 μm or greater and less than 5.0 μm, a method of producing the same, a gas separation module using the gas separation composite membrane, a gas separation device, and a gas separation method.

  本发明提供了一种气体分离复合膜，包括气体分离层，该气体分离层是在气体渗透支架的上侧形成的，其中包括聚酰亚胺化合物，聚酰亚胺化合物在 20° C 时在二甲基乙酰胺中的溶解度为 20 mg/100 g 或以下，气体分离层的厚度为 0.1 μm 或以上且小于 5.0 μm；本发明还提供了一种生产方法、一种使用该气体分离复合膜的气体分离组件、一种气体分离装置和一种气体分离方法。
• Gas separation membrane, gas separation module, gas separation device, gas separation method, and polyimide compound
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US10537859B2

  公开（公告）日：2020-01-21

  A gas separation membrane includes a gas separation layer containing a polyimide compound having a repeating unit represented by Formula (I), in Formula (I), RI represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen atom, Xa represents a sulfamoyl group, an alkoxysulfonyl group, a carboxy group, a hydroxy group, an acyloxy group, or a halogen atom, and R represents a mother nucleus having a specific structure.

  气体分离膜包括气体分离层，该层含有聚酰亚胺化合物，其重复单元由式（I）表示、 在式（I）中，RI 代表氢原子、烷基或卤素原子，Xa 代表氨基磺酰基、烷氧基磺酰基、羧基、羟基、酰氧基或卤素原子，R 代表具有特定结构的母核。
• PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE COMPOSITIONS
  申请人：FujiFilm Electronic Materials USA, Inc.

  公开号：EP3286606B1

  公开（公告）日：2022-12-28