Oxidosilicon(1+) | 12359-18-1

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 类金属有机物
• 英文名称: Oxidosilicon(1+)
• 英文别名: oxosilicon(1+)
• CAS: 12359-18-1
• 化学式: OSi
• 分子量: 44.0849
• InChiKey: PWVRFXMLYJICKR-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.5
• 重原子数：
  2
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  17.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Oxidosilicon(1+) 、 一氧化二氮 以 gas 为溶剂， 生成 、 氮气
  参考文献：
  名称：

  Gas-phase oxidation and sulphidation of Si+(2P), SiO+ and SiS+

  摘要：

  DOI：

  10.1039/f29898501643
• 作为产物：
  描述：

  硅烷 在 氧气 作用下， 生成 Oxidosilicon(1+)
  参考文献：
  名称：

  氧气中激光烧蚀Si产生的SiO+离子的形成和激光诱导荧光研究

  摘要：

  我们研究了在氧气环境气体中激光烧蚀 Si 晶片产生的 SiO+ 的激光诱导荧光 (LIF) 光谱。在激光诱导的等离子体羽流中还研究了中性和离子种类的 Si 原子和 SiO 分子的发射。发现分子离子形成的最佳氧压为~120 mTorr。SiO+ 离子的旋转温度显示出在 20 μs 内向室温快速热化。

  DOI：

  10.1063/1.119750

文献信息

• Shornikov; Archakov; Shul'ts, Russian Journal of General Chemistry, 2000, vol. 70, # 3, p. 360 - 370
  作者：Shornikov、Archakov、Shul'ts

  DOI：——

  日期：——
• Gas-phase oxidation and sulphidation of Si+(2P), SiO+ and SiS+
  作者：Stanislaw Wlodek、Diethard K. Bohme

  DOI：10.1039/f29898501643

  日期：——
• Formation and laser-induced-fluorescence study of SiO+ ions produced by laser ablation of Si in oxygen gas
  作者：Yukari Matsuo、Takashi Nakajima、Tohru Kobayashi、Michio Takami

  DOI：10.1063/1.119750

  日期：1997.8.25

  We have studied laser-induced-fluorescence (LIF) spectra of SiO+ produced by laser ablation of a Si wafer in oxygen ambient gas. Emission from neutral and ionic species of Si atoms and SiO molecules is also studied in the laser-induced plasma plume. The optimum oxygen pressure for the formation of molecular ions is found to be ∼120 mTorr. The rotational temperature of SiO+ ions shows rapid thermalization

  我们研究了在氧气环境气体中激光烧蚀 Si 晶片产生的 SiO+ 的激光诱导荧光 (LIF) 光谱。在激光诱导的等离子体羽流中还研究了中性和离子种类的 Si 原子和 SiO 分子的发射。发现分子离子形成的最佳氧压为~120 mTorr。SiO+ 离子的旋转温度显示出在 20 μs 内向室温快速热化。