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trismethoxymethyl trimethylmelamine

中文名称
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中文别名
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英文名称
trismethoxymethyl trimethylmelamine
英文别名
Tris(methoxymethyl)trimethylmelamine;2-N,4-N,6-N-tris(methoxymethyl)-2-N,4-N,6-N-trimethyl-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine
trismethoxymethyl trimethylmelamine化学式
CAS
——
化学式
C12H24N6O3
mdl
——
分子量
300.361
InChiKey
UYNDCIXRLSVBTI-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.2
  • 重原子数:
    21
  • 可旋转键数:
    9
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.75
  • 拓扑面积:
    76.1
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    9

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

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文献信息

  • PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM
    申请人:Enomoto Yuichiro
    公开号:US20120282548A1
    公开(公告)日:2012-11-08
    Provided is a pattern forming method comprising (i) a step of forming a film from an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, (ii) a step of exposing the film, and (iii) a step of developing the exposed film by using an organic solvent-containing developer, wherein the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises (A) a resin capable of decreasing the solubility for an organic solvent-containing developer by the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (D) a solvent, and (G) a compound having at least either one of a fluorine atom and a silicon atom and having basicity or being capable of increasing the basicity by the action of an acid.
    提供的是一种形成图案的方法,包括(i)使用光致或辐射敏感树脂组成物形成薄膜的步骤,(ii)曝光薄膜的步骤,以及(iii)使用有机溶剂含有的显影剂显影曝光后的薄膜的步骤,其中光致或辐射敏感树脂组成物包括(A)一种能够通过酸的作用降低有机溶剂含有的显影剂的溶解度的树脂,(B)一种能够在光致或辐射照射下生成酸的化合物,(D)一种溶剂,以及(G)一种具有氟原子和硅原子中的至少一种,并具有碱性或能够通过酸的作用增加碱性的化合物。
  • [EN] N-ALKYL MELAMINE FORMALDEHYDE CROSS-LINKING AND CURABLE COMPOSITIONS<br/>[FR] COMPOSITIONS RETICULABLES ET DURCISSABLES DE N-ALKYL MELAMINE FORMALDEHYDE
    申请人:CYTEC TECH CORP
    公开号:WO2006007130A3
    公开(公告)日:2009-02-19
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