naphthalene-1-carboxylic acid 2-(2,2-difluoro-2-sulfoethoxy)-1-phenylethyl ester sodium salt | 1392417-61-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: naphthalene-1-carboxylic acid 2-(2,2-difluoro-2-sulfoethoxy)-1-phenylethyl ester sodium salt
• 英文别名: Sodium;1,1-difluoro-2-[2-(naphthalene-1-carbonyloxy)-2-phenylethoxy]ethanesulfonate
• CAS: 1392417-61-6
• 化学式: C₂₁H₁₇F₂O₆S*Na
• 分子量: 458.415
• InChiKey: URWKEFBADPXONR-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.9
• 重原子数：
  31.0
• 可旋转键数：
  8.0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.19
• 拓扑面积：
  92.73
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  6.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (4-氟苯基)二苯基三氟甲磺酸盐 、 naphthalene-1-carboxylic acid 2-(2,2-difluoro-2-sulfoethoxy)-1-phenylethyl ester sodium salt 生成 naphthalene-1-carboxylic acid 2-(2,2-difluoro-2-sulfoethoxy)-1-phenylethyl ester diphenyl fluorophenyl sulfonium salt
  参考文献：
  名称：

  PHOTOACID GENERATOR, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND RESIST COMPOSITION COMPRISING THE SAME

  摘要：

  提供以下公式（1）所代表的光酸发生剂、生产光酸发生剂的方法以及含有光酸发生剂的抗蚀组合物。在公式（1）中，Y1、Y2、X、R1、R2、n1、n2和A+的含义与发明详细说明中定义的含义相同。该光酸发生剂可以在ArF液体浸没光刻时保持适当的接触角，可以减少液体浸没光刻过程中发生的缺陷，并且在抗蚀溶剂中具有优异的溶解性和与树脂的优异兼容性。此外，该光酸发生剂可以通过使用工业上易获得的环氧化合物进行高效简单的生产方法制备。

  公开号：

  US20120203024A1
• 作为产物：
  描述：

  氧化苯乙烯 在 硫酸 、 三乙胺 作用下， 以 1,1-二氯乙烷 为溶剂， 反应 4.0h， 生成 naphthalene-1-carboxylic acid 2-(2,2-difluoro-2-sulfoethoxy)-1-phenylethyl ester sodium salt
  参考文献：
  名称：

  PHOTOACID GENERATOR, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND RESIST COMPOSITION COMPRISING THE SAME

  摘要：

  提供以下公式（1）所代表的光酸发生剂、生产光酸发生剂的方法以及含有光酸发生剂的抗蚀组合物。在公式（1）中，Y1、Y2、X、R1、R2、n1、n2和A+的含义与发明详细说明中定义的含义相同。该光酸发生剂可以在ArF液体浸没光刻时保持适当的接触角，可以减少液体浸没光刻过程中发生的缺陷，并且在抗蚀溶剂中具有优异的溶解性和与树脂的优异兼容性。此外，该光酸发生剂可以通过使用工业上易获得的环氧化合物进行高效简单的生产方法制备。

  公开号：

  US20120203024A1