在环境条件下用稀释的
四氢呋喃或四烷基
锡烷(烷基 = 甲基、乙基、正丙基、正丁基)或甲
苯磺酸二正丁基
甲基锡酯的
氯仿溶液处理清洁的
金表面会导致由烷基组成的无序单层的自限性生长和氧化
锡。
氘标记的广泛使用表明烷基来源于
锡烷而不是来自环境杂质,并且与先前的提议相反,单层中不存在三烷基
锡烷基。与 Sn 原子相连的甲基不会转移到表面。乙基转移缓慢,丙基和丁基转移迅速。在所有情况下,氧化
锡都以亚单层量共沉积。单层通过椭偏仪、接触角测角仪、偏光调制 IR 反射吸收光谱、X 射线光电子能谱和带有亚
铁氰化物/
铁氰化物的电
化学阻抗谱,显示出非常低的电荷转移电阻。单层的热稳定性及其对溶剂的耐受性与
正十八烷硫醇单层的热稳定性相当。对四正
丁基锡烷的 THF 溶液中单层沉积动力学的初步检查表明,对
锡烷的整体溶液浓度有大约一半的依赖性,这表明可以从单个
锡烷分子转移一个以上的烷基。烷基连接的详细结构是未知的,并且提出它涉及一