二乙基二甲基锡 | 4282-05-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机过渡后金属化合物
• 中文名称: 二乙基二甲基锡
• 中文别名: 二甲[基]二乙[基]錫烷
• 英文名称: dimethyl diethyl tin
• 英文别名: diethyl-dimethyl stannane；Diaethyl-dimethyl-stannan；Diaethyl-dimethyl-zinn；diethyl-dimethyl-tin；Diethyl-dimethyl-stannan；Diethyldimethylstannan；Stannane, diethyldimethyl-；diethyl(dimethyl)stannane
• CAS: 4282-05-7
• 化学式: C₆H₁₆Sn
• 分子量: 206.903
• InChiKey: KQEIOCQUCGCMHX-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.73
• 重原子数：
  7
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  二乙基二甲基锡 在 I₂ 作用下， 以 not given 为溶剂， 生成 三乙基碘锡 (IV)
  参考文献：
  名称：

  Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Sn: Org.Verb.2, 1.1.2.2.1, page 157 - 162

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  四乙基锡 、 四甲基锡 生成 二乙基二甲基锡
  参考文献：
  名称：

  The Redistribution Reaction. II. The Analysis of Metal Alkyl Mixtures and the Confirmation of Random Distribution

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01265a057

文献信息

• [EN] ORGANOMETALLIC COMPOUNDS AND METHODS FOR THE DEPOSITION OF HIGH PURITY TIN OXIDE<br/>[FR] COMPOSÉS ORGANOMÉTALLIQUES ET PROCÉDÉS DE DÉPÔT D'OXYDE D'ÉTAIN DE HAUTE PURETÉ
  申请人：SEASTAR CHEMICALS INC

  公开号：WO2019023797A1

  公开（公告）日：2019-02-07

  Disclosed herein are compounds useful for the deposition of high purity tin oxide. Also disclose are methods for the deposition of tin oxide films using such compounds. Such films demonstrate high conformality, high etch selectivity and are optically transparent. Such compounds are those of the Formula as follows R x -Sn-A 4-x wherein: A is selected from the group consisting of (Y a R' z ) and a 3- to 7-membered N- containing heterocyclic group; each R group is independently selected from the group consisting of an alkyl or aryl group having from 1 to 10 carbon atoms; each R' group is independently selected from the group consisting of an alkyl, acyl or aryl group having from 1 to 10 carbon atoms; x is an integer from 0 to 4; a is an integer from 0 to 1; Y is selected from the group consisting of N, O, S, and P; and z is 1 when Y is O, S or when Y is absent and z is 2 when Y is N or P.

  本文揭示了用于沉积高纯度氧化锡的化合物。还披露了使用这些化合物进行氧化锡薄膜沉积的方法。这些薄膜表现出高一致性、高刻蚀选择性并具有光学透明性。这些化合物的化学式如下：Rx-Sn-A4-x，其中：A选自(YaR'z)和含有3至7个成员的含氮杂环基团的群；每个R基独立地选自具有1至10个碳原子的烷基或芳基群；每个R'基独立地选自具有1至10个碳原子的烷基、酰基或芳基群；x为0至4的整数；a为0至1的整数；Y选自N、O、S和P的群；z为1（当Y为O、S或Y不存在时）或z为2（当Y为N或P时）。
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Sn: Org.Verb.3, 1.1.3.1, page 1 - 24
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Charge-transfer mechanism for electrophilic reactions. SE2 cleavage of alkylmetals with iodine
  作者：S. Fukuzumi、J. K. Kochi

  DOI：10.1021/ja00527a001

  日期：1980.3
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Hg: MVol.B2, 105, page 617 - 619
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Manulkin, Z. M., Zhurnal Obshchei Khimii, 1946, vol. 16, p. 235 - 242
  作者：Manulkin, Z. M.

  DOI：——

  日期：——

表征谱图