N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二酰胺九氟丁烷磺酸 | 307531-76-6

• 物质功能分类: 化学试剂 - 有机试剂
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 卤代烷
• 中文名称: N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二酰胺九氟丁烷磺酸
• 英文名称: 2-[(1,1,2,2,3,3,4,4,4-Nonafluorobutane-1-sulfonyl)oxy]-3a,4,7,7a-tetrahydro-1H-4,7-methanoisoindole-1,3(2H)-dione
• 英文别名: (3,5-dioxo-4-azatricyclo[5.2.1.02,6]dec-8-en-4-yl) 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate
• CAS: 307531-76-6
• 化学式: C₁₃H₈F₉NO₅S
• 分子量: 461.26
• InChiKey: PNXSDOXXIOPXPY-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  55-59 °C(lit.)
• 沸点：
  363.7±52.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.80±0.1 g/cm3(Predicted)
• 溶解度：
  γ-丁内酯：50%
• 稳定性/保质期：

  在常温常压下稳定，应避免与强氧化物接触。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.1
• 重原子数：
  29
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.69
• 拓扑面积：
  89.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  14

安全信息

• WGK Germany：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  氯化壬氟丁基磺酰 、 N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺 在 碳酸氢钠 作用下， 以 乙醇 、 甲苯 为溶剂， 以98.5%的产率得到N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二酰胺九氟丁烷磺酸
  参考文献：
  名称：

  一种N-羟基-5-冰片烯-2，3-二甲酰亚胺-全氟代丁烷磺酸酯的合成方法

  摘要：

  本发明涉及一种N‑羟基‑5‑冰片烯‑2，3‑二甲酰亚胺‑全氟代丁烷磺酸酯的合成方法，其包括以N‑羟基‑5‑降冰片稀‑2,3‑二酰亚胺和全氟丁烷磺酰氯为原料，以非极性溶剂为反应溶剂，以无机碱的醇溶液为缚酸剂进行混合反应，反应结束后萃取分相，将有机相浓缩得到粗产品，粗产品再重结晶得到纯度≥99％的成品。本发明以全氟丁烷磺酰氯为原料，提高了反应活性和原子利用率，反应回收率≥95％，反应时间短且温度低，安全性高、能耗少；以沸点较低的二氯甲烷等为溶剂，后期易蒸馏回收；使用无机碱作为缚酸剂，生成的无机盐后期易于分离和处理，工艺更环保；重结晶使用石油醚‑甲醇为溶剂，使有机杂质和无机杂质易于分离。

  公开号：

  CN117756702A

文献信息

• NEUTRAL LAYER POLYMER COMPOSITION FOR DIRECTED SELF ASSEMBLY AND PROCESSES THEREOF
  申请人：WU Hengpeng

  公开号：US20130330668A1

  公开（公告）日：2013-12-12

  The present invention relates to a novel polymeric composition comprising a novel polymer having two or more repeat units and a terminus having the structure (1): wherein R 1 represents a C 1 -C 20 substituted or unsubstituted alkyl group, w is a number from 1-8, X is oxygen (O) or nitrogen (N), and R d is a reactive group. The invention also relates to a process for forming a pattern using the novel polymeric composition. The invention further relates to a process of making the novel polymer.

  本发明涉及一种新型聚合物组合物，包括具有两个或更多重复单元和具有结构（1）的末端的新型聚合物：其中R1代表C1-C20取代或未取代的烷基基团，w为1-8的数字，X为氧（O）或氮（N），Rd为反应性基团。该发明还涉及使用该新型聚合物组合物形成图案的方法。该发明还涉及制备该新型聚合物的方法。
• Compositions and Methods Incorporating Photocatalysts
  申请人：Baker Ellen Schmidt

  公开号：US20090285768A1

  公开（公告）日：2009-11-19

  The various embodiments provide a composition including an active material having functional groups capable of covalent attachment to a substrate in the presence of an acid or a base, a photocatalyst capable of generating an acid or a base upon exposure to light, and a vehicle. The compositions may also include surfactants, emulsifiers, oxidants, and other components. A method for treating a substrate is also disclosed. The method includes the steps of applying at least one active material having functional groups to the substrate, applying a photocatalyst to the substrate, and exposing the photocatalyst and the at least one active material to light for forming covalent attachments between the functional groups and constituent groups on the substrate. The compositions and methods described herein are useful in personal care product and consumer care product applications, for example.

  各种实施例提供了一种组合物，包括具有在酸或碱存在下能够与基底共价结合的功能基团的活性材料，能够在光照下生成酸或碱的光催化剂，以及载体。该组合物还可以包括表面活性剂、乳化剂、氧化剂和其他组分。还公开了一种处理基底的方法。该方法包括将至少一种具有功能基团的活性材料应用于基底，将光催化剂应用于基底，并将光照射到光催化剂和至少一种活性材料，以形成功能基团与基底上的成分基团之间的共价结合。这里描述的组合物和方法在个人护理产品和消费者护理产品应用中是有用的。
• Orthogonal Procesing of Organic Materials Used in Electronic and Electrical Devices
  申请人：Ober Christopher K.

  公开号：US20110159252A1

  公开（公告）日：2011-06-30

  An orthogonal process for photolithographic patterning organic structures is disclosed. The disclosed process utilizes fluorinated solvents or supercritical CO 2 as the solvent so that the performance of the organic conductors and semiconductors would not be adversely affected by other aggressive solvent. One disclosed method may also utilize a fluorinated photoresist together with the HFE solvent, but other fluorinated solvents can be used. In one embodiment, the fluorinated photoresist is a resorcinarene, but various fluorinated polymer photoresists and fluorinated molecular glass photoresists can be used as well. For example, a copolymer perfluorodecyl methacrylate (FDMA) and 2-nitrobenzyl methacrylate (NBMA) is a suitable orthogonal fluorinated photoresist for use with fluorinated solvents and supercritical carbon dioxide in a photolithography process. The combination of the fluorinated photoresist and the fluorinated solvent provides a robust, orthogonal process that is yet to be achieved by methods or devices known in the art.

  本文介绍了一种用于光刻有机结构的正交工艺。该工艺利用氟化溶剂或超临界CO2作为溶剂，以使有机导体和半导体的性能不受其他侵蚀性溶剂的不利影响。其中一种方法还可以使用氟化光阻与HFE溶剂结合使用，但也可以使用其他氟化溶剂。在一种实施例中，氟化光阻是一种二苯并呋喃酮，但也可以使用各种氟化聚合物光阻和氟化分子玻璃光阻。例如，一种共聚物全氟癸基甲基丙烯酸酯（FDMA）和2-硝基苯甲酸甲酯（NBMA）是用于与氟化溶剂和超临界二氧化碳在光刻工艺中使用的适用于正交的氟化光阻。氟化光阻和氟化溶剂的组合提供了一种强大的正交工艺，这种工艺尚未被已知的方法或设备实现。
• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：KODAMA Kunihiko

  公开号：US20080138742A1

  公开（公告）日：2008-06-12

  The invention is related to an arylsulfonium salt compound having a polycyclic hydrocarbon structure in a cation moiety.

  本发明涉及一种在阳离子部分具有多环碳氢结构的芳基磺酸盐化合物。
• CROSSLINKING AGENT, NEGATIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE NEGATIVE RESIST COMPOSITION
  申请人：Okuyama Kenichi

  公开号：US20120115084A1

  公开（公告）日：2012-05-10

  Disclosed are a negative resist composition which shows excellent sensitivity and resolution in pattern formation by exposure to electron beams or EUV, a novel crosslinking agent suitable for the resist composition, and a pattern forming method using the resist composition. The negative resist composition comprises: (A) a polyphenol compound comprising two or more phenolic hydroxyl groups in a molecule thereof and having a molecular weight of 300 to 3,000, (B) an acid generator which directly or indirectly produces acid by exposure to active energy rays having a wavelength of 248 nm or less, and (C) a crosslinking agent represented by the following chemical formula (1). (The symbols shown in the formula (1) are defined in the Description).

  本发明涉及一种负型光阻组合物，通过暴露于电子束或极紫外线下表现出优异的感光性和分辨率，以及适用于该光阻组合物的新型交联剂和使用该光阻组合物的图案形成方法。该负型光阻组合物包括：（A）一种聚酚化合物，其分子中包含两个或更多酚羟基，并且分子量为300至3,000，（B）一种酸发生剂，通过暴露于波长为248nm或更短的活性能量射线而直接或间接产生酸，以及（C）一种由以下化学式（1）表示的交联剂。（化学式（1）中所示的符号在说明中有定义）。