1-[(2-Aminoethyl)amino]butan-1-ol | 62744-71-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: 1-[(2-Aminoethyl)amino]butan-1-ol
• 英文别名: 1-(2-aminoethylamino)butan-1-ol
• CAS: 62744-71-2
• 化学式: C₆H₁₆N₂O
• 分子量: 132.2
• InChiKey: HNTFVLHDHOXDJE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.4
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  58.3
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  3

文献信息

• Amphotere oberflächenaktive Aminoetherverbindungen und Verfahren zu ihrer Herstellung
  申请人：Henkel Kommanditgesellschaft auf Aktien

  公开号：EP0005446A1

  公开（公告）日：1979-11-28

  Ein Gemisch aus amphoteren, oberflächenaktiven Aminoetherverbindungen wird dadurch erhalten, daß man einen Glycidylether der Formel in der R' einen primären C8-22-Fettalkoholrest, einen primären ungesättigten C12-22-Fettalkoholrest oder einen in 2-Stellung verzweigten C10-36-Guerbetalkoholalkylrest, R2 ein Wasserstoffatom oder einen Methylrest und p eine ganze Zahl von 0 - 3 bedeuten, mit einem im Überschuß vorhandenen N-Hydroxy-C2-4-alkyl-C2-6-alkylendiamin umsetzt, den Diaminüberschuß entfernt und den erhaltenen Aminoether mit einer Halogen-C2-4-alkancarbonsäure, einer Halogen-C2-4-alkansulfonsäure oder einer Halogenhydroxy-C3-4- alkansulfonsäure unter alkalischen Bedingungen umsetzt Die neuen oberflächenaktiven Aminoetherverbindungen eignen sich insbesondere als Haarshampookomponente; sie zeichnen sich durch besondere Hydrolysestabilität und starke hydrophile Eigenschaften aus.

  一种两性表面活性氨基醚化合物的混合物是由式如下的缩水甘油醚反应得到的 其中 R'是伯羟基 C8-22 脂肪醇基、伯羟基不饱和 C12-22 脂肪醇基或在 2 位支化的 C10-36 格尔伯特醇烷基，R2 是氢原子或甲基，p 是 0-3 的整数，与过量的 N-羟基-C2-4-烷基-C2-6-烷基二胺反应、除去过量的二胺，然后在碱性条件下将得到的氨基醚与卤代-C2-4-烷基羧酸、卤代-C2-4-烷基磺酸或卤代羟基-C3-4-烷基磺酸反应。 这种新型表面活性氨基醚化合物特别适合用作洗发水成分；它们具有特别的水解稳定性和较强的亲水性。
• Composition for film formation, method of film formation, and insulating film
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1088868A2

  公开（公告）日：2001-04-04

  A polyorganosiloxane-based composition for film formation which gives a film having low dielectric constant and high modulus of elasticity and useful as an interlayer insulating film in semiconductor devices and the like. The composition for film formation comprises: (A) a product of hydrolysis and condensation obtained by hydrolyzing and condensing, in the presence of an alkali catalyst, at least one member selected from the group consisting of compounds (1) represented by RaSi(OR1)4-a (wherein R represents hydrogen, fluorine, or a monovalent organic group; R1 represents a monovalent organic group; and a Is an integer of 1 or 2), compounds (2) represented by Si(OR2)4 (wherein R2 represents a monovalent organic group), and compounds (3) represented by R3b(R4O)3-bSi-(R7)d-Si(OR5)3-cR6c [wherein R3 to R6 may be the same or different and each represent a monovalent organic group; b and c may be the same or different and each are an integer of 0 to 2; R7 represents oxygen, phenylene, or a group represented by -(CH2)n-, wherein n is an integer of 1 to 6; and d is 0 or 1]; and (B) a product of hydrolysis and condensation obtained by hydrolyzing and condensing, in the presence of a metal chelate compound catalyst, at least one member selected from the group consisting of the compounds (1), (2), and (3).

  一种用于成膜的聚有机硅氧烷基组合物，可生成具有低介电常数和高弹性模量的薄膜，可用作半导体器件等的层间绝缘膜。 成膜组合物包括(A) 通过在碱催化剂存在下水解和缩合得到的水解和缩合产物，该产物至少有一个成员选 自由 RaSi(OR1)4-a（其中 R 代表氢、氟或一价有机基团；R1 代表一价有机基团；且 a 是 1 或 2 的整数）、由 Si(OR2)4（其中 R2 代表一价有机基团）代表的化合物 (2) 以及由 R3b(R4O)3-bSi-(R7)d-Si(OR5)3-cR6c 代表的化合物 (3) [其中 R3 至 R6 可以相同或不同，且各自代表一价有机基团；b和c可以相同或不同，且各自为0至2的整数；R7代表氧、亚苯基或由-(CH2)n-代表的基团，其中n为1至6的整数；d为0或1]；以及 (B) 在金属螯合物催化剂存在下，通过水解和缩合得到的至少一种水解和缩合产物，该产物选自由化合物(1)、(2)和(3)组成的组。
• Composition for film formation, method of film formation, and silica-based film
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1127929A2

  公开（公告）日：2001-08-29

  A composition for film formation which is capable of giving a silica-based coating film having an exceeding low dielectric constant and improved mechanical strength and useful as an interlayer insulating film in semiconductor devices and the like, a process for producing the composition, and a silica-based film obtained from the composition. The composition comprises (A) a product of hydrolysis and condensation obtained by hydrolyzing and condensing one or more silane compounds, and (B) an organic solvent.

  一种用于成膜的组合物，该组合物能够生成具有超低介电常数和更高机械强度的硅基涂膜，并可用作半导体器件等的层间绝缘膜；一种生产该组合物的工艺；以及一种由该组合物生成的硅基涂膜。该组合物包括 (A) 通过水解和缩合一种或多种硅烷化合物而得到的水解和缩合产物，以及 (B) 有机溶剂。
• COMPOSITION FOR FORMING INSULATING FILM, METHOD FOR PRODUCING SAME, SILICA INSULATING FILM AND METHOD FOR FORMING SAME
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1705208A1

  公开（公告）日：2006-09-27

  An insulating-film-forming composition of the invention includes: a hydrolysis-condensation product obtained by hydrolyzing and condensing a hydrolyzable-group-containing silane monomer (A) in the presence of a polycarbosilane (B) and a basic catalyst (C); and an organic solvent.

  本发明的绝缘成膜组合物包括：在聚碳硅烷（B）和碱性催化剂（C）存在下，通过水解和缩合含可水解基团的硅烷单体（A）而得到的水解缩合产物；以及有机溶剂。
• INSULATING FILM, METHOD FOR FORMING SAME AND COMPOSITION FOR FORMING FILM
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1696478A1

  公开（公告）日：2006-08-30

  The invention provides a method of forming an insulating film which exhibits resistance against processing such as RIE used when forming a dual-damascene structure while maintaining a low relative dielectric constant of a polysiloxane insulating film. A polysiloxane insulating film is formed on a substrate by hydrolysis and condensation of a silane compound. A solution obtained by dissolving a polycarbosilane compound shown by the following general formula in a solvent is applied to the polysiloxane insulating film, and the resulting coating is heated to form a polycarbosilane insulating film. An organic insulating film is then formed on the polycarbosilane insulating film.

  本发明提供了一种形成绝缘膜的方法，这种绝缘膜既能抵抗在形成双大马士革结构时使用的 RIE 等加工，又能保持聚硅氧烷绝缘膜较低的相对介电常数。聚硅氧烷绝缘膜是通过硅烷化合物的水解和缩合作用在基材上形成的。将下表通式所示的聚碳硅烷化合物溶解在溶剂中得到的溶液涂抹在聚硅氧烷绝缘膜上，然后加热涂层，形成聚碳硅烷绝缘膜。 然后在聚碳硅烷绝缘膜上形成有机绝缘膜。