Zn(OCH2CH2NMe2)2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: Zn(OCH2CH2NMe2)2
• 英文别名: [Zn(N,N-dimethylaminoethanolate)2]
• 化学式: 2C₄H₁₀NO*Zn
• 分子量: 241.649
• InChiKey: NZCBWIRNRCGHEZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -1.09
• 重原子数：
  7.0
• 可旋转键数：
  2.0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  2.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Zn(OCH2CH2NMe2)2 、 乙基氯化镁 以 乙醚 为溶剂， 生成 diethylzinc
  参考文献：
  名称：

  WO2008/134890

  摘要：

  公开号：
• 作为产物：
  描述：

  bis(bis(trimethylsilyl)amido)zinc(II) 、 N,N-二甲基乙醇胺 以 正己烷 为溶剂， 以72%的产率得到Zn(OCH2CH2NMe2)2
  参考文献：
  名称：

  Goel, Subhash C.; Chiang, Michael Y.; Buhro, William E., Inorganic Chemistry, 1990, vol. 29, # 23, p. 4646 - 4652

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Aerosol assisted chemical vapour deposition of Cu–ZnO composite from single source precursors
  作者：Muhammad Shahid、Muhammad Mazhar、Mazhar Hamid、Paul O' Brien、Mohammad A. Malik、Madeleine Helliwell、James Raftery

  DOI：10.1039/b903406d

  日期：——

  composite on glass substrates by aerosol assisted chemical vapor deposition (AACVD) method. The films were characterized by “scotch tape” test for adhesion, thickness measurement as a function of temperature, EDX for composition, SEM for surface morphology and XRD for crystalline phases. Thin film deposition studies at 250, 325, 400, 475 °C indicated the increase in thickness with temperature reaching a

  两种异双金属前体[Zn（TFA）3（μ-OH）Cu 3（dmae）3 Cl]·THF（1）和[Zn（TFA）4 Cu 3（dmae）4 ]（2）[dmae = N，N -二甲基氨基乙醇酸酯和TFA =三氟乙酸]，并通过熔点进行了表征，元素分析， 傅立叶变换红外光谱， 质谱， TGA 和 单晶X射线衍射方法。两种配合物均用于通过以下方法在玻璃基板上沉积Cu-ZnO复合薄膜：气溶胶辅助化学气相沉积 （化学气相沉积） 方法。薄膜通过“透明胶带”粘合力测试，厚度测量随温度的变化进行表征，EDX 对于组成， 扫描电镜 用于表面形态和 X射线衍射 用于结晶相。 薄膜沉积 在250、325、400、475°C下进行的研究表明，随着温度在400°C达到最大值，厚度会增加，然后降低。 EDX 和 射线衍射 结果表明立方金属铜和六角形的均匀分布 氧化锌 使它们可用于结构化表面上的纳米催化的相。