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sec-butyl 2-naphthoate

中文名称
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中文别名
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英文名称
sec-butyl 2-naphthoate
英文别名
[2]naphthoic acid-(1-methyl-propyl ester);[2]Naphthoesaeure-(1-methyl-propylester);Butan-2-yl naphthalene-2-carboxylate
sec-butyl 2-naphthoate化学式
CAS
——
化学式
C15H16O2
mdl
——
分子量
228.291
InChiKey
WPQDVCYIWOAUOG-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
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  • SDS
  • 制备方法与用途
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  • 反应信息
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  • 同类化合物
  • 相关功能分类
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.9
  • 重原子数:
    17
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.27
  • 拓扑面积:
    26.3
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    2-萘甲醛仲丁醇叔丁基过氧化氢2-(2-甲氧基苯基)吡啶 、 chloroauric acid 作用下, 以 乙腈 为溶剂, 反应 12.0h, 以42%的产率得到sec-butyl 2-naphthoate
    参考文献:
    名称:
    金催化:均相氧化酯化的原位EXAFS研究
    摘要:
    制备金配合物并研究其作为醛氧化酯化的催化剂。吡啶配体的稳定作用可实现良好的转化,反应的原位扩展X射线吸收精细结构(EXAFS)研究表明,反应混合物仅包含单核金。因此,这是均匀金催化氧化反应的第一个证据。可以通过实验排除纳米颗粒的存在。
    DOI:
    10.1002/chem.200903450
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文献信息

  • METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, ACID ETCHING RESISTANCE MATERIAL AND COPOLYMER
    申请人:Asakawa Koji
    公开号:US20070138139A1
    公开(公告)日:2007-06-21
    Disclosed is an acid etching resistance material comprising a compound having a repeating unit represented by the following general formula (1): (in the general formula (1), R 1 is a hydrogen atom or methyl group; R 3 is a cyclic group selected from an alicyclic group and an aromatic group; R 4 is a polar group; R 2 is a group represented by the following general formula (2); and j is 0 or 1): (in the general formula (2), R 5 is a hydrogen atom or methyl group).
  • US7445881B2
    申请人:——
    公开号:US7445881B2
    公开(公告)日:2008-11-04
  • US7714316B2
    申请人:——
    公开号:US7714316B2
    公开(公告)日:2010-05-11
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