【課題】良好なラインエッジラフネス(LER)を有するレジストパターンを製造することができる塩及びこれを含むレジスト組成物を提供する。【解決手段】式(I)で表される塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物。[式中、R1〜R3はそれぞれ独立にハロゲン又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基;R4〜R6はそれぞれ独立にハロゲン、OH、炭素数1〜6のフッ化アルキル基又は炭素数1〜12のアルキル基;m4は0〜2の整数、m5及びm6は0〜4の整数;X1は、単結合、−CH2−、−O−、−S−、−CO−、−SO−又は−SO2−;X0は、置換基を有してもよい炭素数1〜72の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO2−に置き換わっていてもよい。]【選択図】なし
提供含有良好线条边缘粗糙度(LER)的盐和包含该盐的光刻胶组合物,可用于制造光刻图案。解决方案包括由式(I)表示的盐、酸发生剂和包含它们的光刻胶组合物。在公式中,R1-R3分别独立表示卤素或含有1-6个
碳原子的
全氟烷基;R4-R6分别独立表示卤素、OH、含有1-6个
碳原子的
氟化烷基或含有1-12个
碳原子的烷基;m4是0-2的整数,m5和m6是0-4的整数;X1表示单键、-
CH2-、-O-、-S-、-CO-、-SO-或-SO2-;X0表示可能带有取代基的含有1-72个
碳原子的烃基,其中包含在该烃基中的- -可以被替换为-O-、-S-、-CO-或-SO2-。