4-(dimethylamino)diazobenzene

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: 4-(dimethylamino)diazobenzene
• 英文别名: P-Diazodimethylaniline；4-diazo-N,N-dimethylcyclohexa-1,5-dien-1-amine
• 化学式: C₈H₁₁N₃
• 分子量: 149.195
• InChiKey: LAXPFHMCFLHGKK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.2
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.38
• 拓扑面积：
  5.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  N,N-二甲基-4-亚硝基苯胺 在 盐酸 、 锌 、 sodium nitrite 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 5.0h， 生成 4-(dimethylamino)diazobenzene
  参考文献：
  名称：

  一种阳离子蓝染料的制备方法

  摘要：

  本发明属于染料技术领域，具体涉及一种阳离子蓝染料的制备方法。本发明首次采用化合物II作为重氮组分、化合物I作为偶合组分合成阳离子蓝染料，具有工艺简单，绿色环保，产品纯度、收率高等优点。且发明人经过多次中试以上大规模生产实验发现，反应过程中的母液(例如步骤(2)、(3)、(4)的母液)不需要处理即可循环使用6‑8次，高盐、高COD、高色度的废水量大幅度减少，并且在进一步提高产品收率和节约反应试剂成本的同时，有效改善了工作环境，产品仍保持较高的纯度，使产品的质量得到保证，降低了生产成本，具有明显的经济效益、社会效益和环境效益。

  公开号：

  CN110724395B

文献信息

• Phenylurethane compounds and methods for producing same, asymmetric urea compounds and methods for producing same, barbituric acid derivative, and diazo thermal recording material containing the derivative
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：US20020161225A1

  公开（公告）日：2002-10-31

  Phenylurethane compounds of the following general formula (1); asymmetric urea compounds of the following general formula (10) obtained from the phenylurethane compounds; barbituric acid derivatives of general formula (18) produced from the asymmetric urea compounds, which have specific substituents and are useful in diazo thermal recording materials; and diazo thermal recording materials containing the barbituric acid derivative. 1

  以下为翻译结果： 以下是具有以下通式（1）的苯基脲化合物；从苯基脲化合物获得的具有以下通式（10）的不对称脲化合物；从不对称脲化合物产生的具有特定取代基的巴比妥酸衍生物，可用于重氮热记录材料；以及含有巴比妥酸衍生物的重氮热记录材料。
• Diazotype compositions and materials
  申请人：Andrews Paper and Chemical Co., Inc.

  公开号：EP0122523A2

  公开（公告）日：1984-10-24

  The use of soluble methylol compounds from primary or secondary amines or ammonia with formaldehyde in diazotypes improves solution compatibility and prevents coupler migration upon storage of diazotype materials. The methylol compounds may be reacted with couplers separately or added to the coating preparations.

  在重氮涂料中使用由伯胺、仲胺或氨与甲醛组成的可溶性甲醇化合物，可提高溶液的相容性，并防止重氮涂料储存时耦合剂迁移。甲醇化合物可以单独与耦合剂反应，也可以添加到涂层制剂中。
• Heat-sensitive recording material
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：EP0809145A1

  公开（公告）日：1997-11-26

  A heat-sensitive recording material having excellent lightfastness and raw stock storability is disclosed. The material includes a support and a heat-sensitive recording layer provided on the support, and the heat-sensitive recording layer contains a diazo compound and a coupler. The coupler contains at least one species of pyrazolone compounds represented by the following formula (1): wherein Ar represents a phenyl group, a naphthyl group, or an aromatic heterocyclic group, any one of which may have a substituent bonded to the nucleus, said substituent may be a halogen atom, a cyano group, a trifluoromethyl group, an alkyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, or a sulfamoyl group; R1 and R2 independently represent an alkyl group, an alkenyl group, or an aryl group, or R1 and R2 may be linked to each other so as to form a heterocycle.

  本发明公开了一种热敏记录材料，它具有优异的耐光性和原材料储存性。该材料包括一个支架和一个设置在支架上的热敏记录层，热敏记录层包含一个重氮化合物和一个耦合剂。耦合剂包含至少一种由下式（1）表示的吡唑酮化合物： 其中 Ar 代表苯基、萘基或芳香杂环基，其中任何一个基团的核上都可以键合一个取代基，所述取代基可以是卤素原子、氰基、三氟甲基、烷基、芳基、烷氧羰基、氨基甲酰基或氨基磺酰基；R1 和 R2 独立地代表一个烷基、一个烯基或一个芳基，或者 R1 和 R2 可以相互连接以形成一个杂环。
• Acetal copolymers and use thereof in photosensitive compositions
  申请人：Kodak Polychrome Graphics Company Ltd.

  公开号：EP1162209A1

  公开（公告）日：2001-12-12

  The present invention relates to particular acetal copolymers and radiation-sensitive compositions comprising said copolymers and, inter alia, are excellently suitable for the production of lithographic printing plates. In particular, the invention relates to acetal copolymers containing units of formula wherein each Z is independently selected from the group consisting of O, S, and NR5 with R5 being selected from the group consisting of hydrogen, C1-C4 alkyl and phenyl, the phenyl being optionally substituted with one or two substituents selected from the group consisting of halogen, C1-C4 alkoxy and C1-C4 alkyl; R3 and R4 are independently selected from C1-C4 alkyl and a phenyl group, the phenyl being optionally substituted with one or two substituents selected from the group consisting of halogen, C1-C4 alkoxy and C1-C4 alkyl; m is 0, 1 or 2 and n is 0, 1, 2 or 3; each A being the same or different, each C being the same or different and each D being the same or different.

  本发明涉及特殊的缩醛共聚物和由上述共聚物组成的辐射敏感性组合物，尤其适用于平版印刷板的生产。特别是，本发明涉及含有式中单元的缩醛共聚物 式中 每个 Z 独立地选自由 O、S 和 NR5 组成的组，其中 R5 选自由氢、C1-C4 烷基和苯基组成的组，苯基可选择被一个或两个选自由卤素、C1-C4 烷氧基和 C1-C4 烷基组成的组的取代基取代； R3 和 R4 独立选自 C1-C4 烷基和苯基，苯基可任选被一个或两个选自卤素、C1-C4 烷氧基和 C1-C4 烷基的取代基取代；m 为 0、1 或 2，n 为 0、1、2 或 3； 每个 A 相同或不同，每个 C 相同或不同，每个 D 相同或不同。
• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, DISPLAY MEMBER, AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
  申请人：TORAY INDUSTRIES, INC.

  公开号：EP1980910A1

  公开（公告）日：2008-10-15

  Disclosed is a photosensitive composition comprising 50 to 5% by weight of a photosensitive organic component and 50 to 95% by weight of a glass powder, wherein the glass powder contains 70 to 85% by weight of Bi2O3, 3 to 15% by weight of SiO2, 5 to 20% by weight of B2O3, 0 to 3% by weight of ZrO2 and 1 to 10% by weight of ZnO, expressed in terms of oxide. The present invention provides a photosensitive composition which enables fine pattern work by photolithography to be used in various members of a flat panel display and a fluorescence emission tube.

  本发明公开了一种光敏组合物，该组合物包括50-5%（重量）的光敏有机组分和50-95%（重量）的玻璃粉，其中玻璃粉含有70-85%（重量）的Bi2O3、3-15%（重量）的SiO2、5-20%（重量）的B2O3、0-3%（重量）的ZrO2和1-10%（重量）的ZnO，以氧化物表示。 本发明提供了一种光敏组合物，它可以在平板显示器和荧光发射管的各种部件中使用光刻技术进行精细图案加工。