申请人:CIBA-GEIGY AG
公开号:EP0057162A1
公开(公告)日:1982-08-04
Eine Methode zur Erzeugung von Abbildungen nach einem Positivresistverfahren besteht darin, dass man (1) eine Photoresistzusammensetzung, die aus (1) einem filmbildenden organischen Material mit mindestens einer substituierten Benzoingruppe der Formel
worin R' für ein Wasserstoffatom, eine Alkyl-, Cycloalkyl-, Cycloalkylalkyl- oder Aralkylgruppe oder eine Gruppe -(CH2)bX, R2 für ein Wasserstoffatom oder eine Alkyl-, Cycloalkyl-, Cycloalkylalkyl-, Aryl- oder Aralkylgruppe, R3 für ein Halogenatom oder eine Alkyl-, Alkoxy-, Cycloalkyl-, Cycloalkylalkyl- oder Phenylgruppe, X für ein Halogenatom, eine Alkoxygruppe, eine Phenoxygruppe, eine Gruppe -COOR4 oder eine Gruppe -OOCR- stehen, wobei Rß eine Alkylgruppe bedeutet, sowie a null oder 1, b eine ganze Zahl von 1 bis 4, m und n je null oder 1, wobei die Summe von m + n = 1 ist, p und q je null oder 1 sind, wobei die Summe von p + q = 1 ist, und c und d je null oder eine ganze Zahl von 1 bis 3 sind, und (b) einer Verbindung, die unter der Einwirkung eines Radikalkatalysators zu höhermolekularem Material polymerisierbar ist, das in einem Entwickler löslicher ist als die Zusammensetzung vor der Belichtung, sodass die Löslichkeit der Zusammensetzung im Entwickler in dem belichteten Teil zunimmt, besteht, mit aktinischer Strahlung bildweise belichtet und (2) die Zusammensetzung mit einem Entwickler behandelt, um den belichteten Teil zu entfernen.
一种通过正抗蚀剂工艺形成图像的方法,它包括(1)形成一种光致抗蚀剂组合物,该组合物由(1)一种成膜有机材料组成,该成膜有机材料具有至少一个取代的苯甲酸基团,其式为
其中 R'代表氢原子、烷基、环烷基、环烷基烷基或芳烷基或基团-(CH2)bX,R2 代表氢原子或烷基、环烷基、环烷基烷基、芳基或芳烷基,R3 代表卤素原子或烷基、烷氧基、环烷基、环烷基烷基或苯基、环烷基烷基或苯基,X 是卤素原子、烷氧基、苯氧基、基团 -COOR4 或基团 -OOCR-,其中 Rß 是烷基,a 是 0 或 1,b 是 1 至 4 的整数,m 和 n 各为 0 或 1,其中 m + n 之和 = 1、(b) 在自由基催化剂作用下可聚合成更高分子量物质的化合物、(b) 在自由基催化剂的作用下可聚合成更高分子量物质的化合物,该化合物在显影剂中的溶解度比曝光前的组合物要高,因此在曝光部分中,组合物在显影剂中的溶解度会增加。