(4R)-4-[(10S,13R,17R)-10,13-dimethyl-3,7,12-trioxo-1,2,4,5,6,8,9,11,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl]pentanoic acid

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 类固醇和类固醇衍生物
• 英文名称: (4R)-4-[(10S,13R,17R)-10,13-dimethyl-3,7,12-trioxo-1,2,4,5,6,8,9,11,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl]pentanoic acid
• 化学式: C₂₄H₃₄O₅
• 分子量: 402.531
• InChiKey: OHXPGWPVLFPUSM-NDGTYXLASA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  29
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.83
• 拓扑面积：
  88.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (4R)-4-[(10S,13R,17R)-10,13-dimethyl-3,7,12-trioxo-1,2,4,5,6,8,9,11,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl]pentanoic acid 在 草酰氯 、 N,N-二甲基甲酰胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 3.0h， 以15.6 g的产率得到(4R)-4-[(10S,13R,17R)-10,13-dimethyl-3,7,12-trioxo-1,2,4,5,6,8,9,11,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl]pentanoyl chloride
  参考文献：
  名称：

  RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, ACID GENERATOR AND COMPOUND

  摘要：

  一种抗蚀组合物，暴露后产生酸并在酸的作用下在显影液中表现出改变的溶解度，其中包括一种碱性组分（A），在酸的作用下在显影液中表现出改变的溶解度，以及一种产生酸的酸发生组分（B），其中酸发生组分（B）包括一种由下式（b0）表示的化合物（B0-1）（在该式中，Yx01表示双价连接基；n表示1至3的整数；M′m+表示具有价态m的有机阳离子）。

  公开号：

  US20160274458A1

文献信息

• RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20170371241A1

  公开（公告）日：2017-12-28

  A resist composition containing a resin component having a structural unit represented by general formula (a0-1), and a compound represented by general formula (b1). In general formula (a0-1), R is a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogenated alkyl group. Va 1 is a divalent hydrocarbon group. n a1 represents an integer of 0 to 2. Ra′ 12 and Ra′ 13 are a monovalent chain saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom. Ra′ 14 is a phenyl group, a naphthyl group, or an anthryl group. In general formula (b1), R b1 represents a cyclic hydrocarbon group. Y b1 represents a divalent linking group containing an ester bond. V b1 represents an alkylene group, a fluorinated alkylene group, or a single bond. m is an integer of 1 or more, and M m+ is an m-valent organic cation.

  一种电阻组分，包含具有一般式（a0-1）所代表的结构单元的树脂组分，以及一种由一般式（b1）所代表的化合物。在一般式（a0-1）中，R是氢原子、烷基或卤代烷基。Va1是双价碳氢基团。na1表示0至2的整数。Ra′12和Ra′13是具有1至10个碳原子的单价链饱和碳氢基团或氢原子。Ra′14是苯基、萘基或蒽基。在一般式（b1）中，Rb1代表环烃基。Yb1代表含有酯键的双价连接基团。Vb1代表烷基、氟化烷基或单键。m是1或更多的整数，Mm+是m价有机阳离子。
• Resist composition and method for forming resist pattern
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US11204551B2

  公开（公告）日：2021-12-21

  A resist composition containing a resin component having a structural unit represented by general formula (a0-1), and a compound represented by general formula (b1). In general formula (a0-1), R is a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogenated alkyl group, Va1 is a divalent hydrocarbon group, na1 represents an integer of 0 to 2, Ya0 is a carbon atom, Xa0 is a group forming a monocyclic aliphatic hydrocarbon group together with Ya0, and Ra00 is an aromatic hydrocarbon group or a specific unsaturated hydrocarbon group. In general formula (b1), Rb1 represents a cyclic hydrocarbon group, Yb1 represents a divalent linking group containing an ester bond, Vb1 represents an alkylene group, a fluorinated alkylene group, or a single bond, and Mm+ is an m-valent organic cation.

  一种抗蚀剂组合物，含有具有通式(a0-1)表示的结构单元的树脂组分和通式(b1)表示的化合物。在通式（a0-1）中，R 是氢原子、烷基或卤代烷基，Va1 是二价烃基，na1 代表 0 至 2 的整数，Ya0 是碳原子，Xa0 是与 Ya0 一起形成单环脂肪族烃基的基团，Ra00 是芳香族烃基或特定的不饱和烃基。通式（b1）中，Rb1 代表环状烃基，Yb1 代表含有酯键的二价连接基团，Vb1 代表亚烷基、氟化亚烷基或单键，Mm+ 是 m 价有机阳离子。
• Reductive Radical Decarboxylation of Aliphatic Carboxylic Acids
  作者：Ko, Eun Jung、Williams, Craig M.、Savage, G. Paul、Tsanaktsidis, John

  DOI：10.15227/orgsyn.089.0471

  日期：——
• US9678423B2
  申请人：——

  公开号：US9678423B2

  公开（公告）日：2017-06-13
• RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, ACID GENERATOR AND COMPOUND
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20160274458A1

  公开（公告）日：2016-09-22

  A resist composition which generates acid upon exposure and exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid, and which includes a base component (A) which exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the acid-generator component (B) including a compound (B0-1) represented by general formula (b0) shown below (in the formula, Yx 01 represents a divalent linking group; n represents an integer of 1 to 3; and M′ m+ represents an organic cation having a valency of m.

  一种抗蚀组合物，暴露后产生酸并在酸的作用下在显影液中表现出改变的溶解度，其中包括一种碱性组分（A），在酸的作用下在显影液中表现出改变的溶解度，以及一种产生酸的酸发生组分（B），其中酸发生组分（B）包括一种由下式（b0）表示的化合物（B0-1）（在该式中，Yx01表示双价连接基；n表示1至3的整数；M′m+表示具有价态m的有机阳离子）。