氟(三碘)甲烷 | 1495-49-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 卤代烷
• 中文名称: 氟(三碘)甲烷
• 英文名称: fluoro-triiodo-methane
• 英文别名: Fluortriiodmethan；Fluortrijodmethan；Triiodfluormethan；Fluorotriiodomethane；fluoro(triiodo)methane
• CAS: 1495-49-4
• 化学式: CFI₃
• 分子量: 411.723
• InChiKey: GXKSSISYTXERRQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.7
• 重原子数：
  5
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  dicobalt octacarbonyl 、 氟(三碘)甲烷 以 further solvent(s) 为溶剂， 生成 、
  参考文献：
  名称：

  Chemistry of methylidynetricobalt nonacarbonyls IV. Synthesis and spectra of Co8(CO)24C6 and similar acetylene derivatives

  摘要：

  DOI：

  10.1016/s0022-328x(00)90206-7
• 作为产物：
  描述：

  三氟碘甲烷 在 钼 作用下， 生成 六氟乙烷 、 五氟碘乙烷 、 二碘二氟甲烷 、 氟(三碘)甲烷
  参考文献：
  名称：

  三氟碘甲烷 (CF3I) 在 Mo(110) 上的表面化学和辐射化学

  摘要：

  在 Mo(110) 上的超高真空条件 (p ∼ 1 × 10-10 Torr) 下研究了三氟碘甲烷 (CF3I) 的表面诱导和电子诱导化学，三氟碘甲烷 (CF3I) 是氯氟烃 (CFC) 和氯氟溴烃 (halons) 的潜在替代品. 程序升温脱附 (TPD) 实验的结果表明，与 CF3I 在其他金属表面上的反应相比，CF3I 的解离吸附仅导致 Mo(110) 上的非选择性分解。在 100 K 凝聚的四个单层 CF3I 厚膜的低能 (10-100 eV) 电子辐照期间，通过质谱检测 CF3 自由基和原子碘的脱附。辐照后程序升温脱附实验的结果用于鉴定 CF2I2、C2F5I 、C2F6、C2F4I2 和 CFI3 作为 CF3I 的电子诱导反应产物。

  DOI：

  10.1021/jp0310192

文献信息

• Structural studies of derivatives of methinyltricobalt enneacarbonyls. III. Crystal structure and reaction studies of bis(methinyltricobalt enneacarbonyl)acetylene (Co6(CO)18C4)
  作者：Robert J. Dellaca、Bruce R. Penfold、Brian Harford Robinson、Ward T. Robinson、J. L. Spencer

  DOI：10.1021/ic50092a002

  日期：1970.10
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Co: Org.Verb.2, 7, page 213 - 215
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Chemistry of methylidynetricobalt nonacarbonyls IV. Synthesis and spectra of Co8(CO)24C6 and similar acetylene derivatives
  作者：B.H. Robinson、J.L. Spencer

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)90206-7

  日期：1971.7
• Surface Chemistry and Radiation Chemistry of Trifluoroiodomethane (CF₃I) on Mo(110)
  作者：Nozomi Nakayama、Elizabeth E. Ferrenz、Denise R. Ostling、Andrea S. Nichols、Janelle F. Faulk、Christopher R. Arumainayagam

  DOI：10.1021/jp0310192

  日期：2004.4.1

  were investigated under ultrahigh vacuum conditions (p ∼ 1 × 10-10 Torr) on Mo(110). Results of temperature-programmed desorption (TPD) experiments indicate that dissociative adsorption of CF3I leads only to nonselective decomposition on Mo(110), in contrast to reactions of CF3I on other metal surfaces. Desorption of CF3 radicals and atomic iodine was detected mass spectrometrically during low-energy (10−100

  在 Mo(110) 上的超高真空条件 (p ∼ 1 × 10-10 Torr) 下研究了三氟碘甲烷 (CF3I) 的表面诱导和电子诱导化学，三氟碘甲烷 (CF3I) 是氯氟烃 (CFC) 和氯氟溴烃 (halons) 的潜在替代品. 程序升温脱附 (TPD) 实验的结果表明，与 CF3I 在其他金属表面上的反应相比，CF3I 的解离吸附仅导致 Mo(110) 上的非选择性分解。在 100 K 凝聚的四个单层 CF3I 厚膜的低能 (10-100 eV) 电子辐照期间，通过质谱检测 CF3 自由基和原子碘的脱附。辐照后程序升温脱附实验的结果用于鉴定 CF2I2、C2F5I 、C2F6、C2F4I2 和 CFI3 作为 CF3I 的电子诱导反应产物。