2,3-二羟基苯基甲烷磺酸酯 | 102305-07-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 酚类
• 中文名称: 2,3-二羟基苯基甲烷磺酸酯
• 英文名称: Methansulfonsaeure-<2,3-dihydroxyphenyl>ester
• 英文别名: 1,2,3-Benzenetriol, 1-methanesulfonate (9CI)；(2,3-dihydroxyphenyl) methanesulfonate
• CAS: 102305-07-7
• 化学式: C₇H₈O₅S
• 分子量: 204.204
• InChiKey: JPLDAPGYWPDJJN-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.8
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  92.2
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,3-二羟基苯基甲烷磺酸酯 在 manganese(IV) oxide 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 生成 Methansulfonsaeure-<2,3-dioxo-2,3-dihydrophenyl>ester
  参考文献：
  名称：

  合成二苯并[ b，e ] [1,4]二恶英-2,3-chinonen，异戊烯酮A和B的化合物

  摘要：

  二苯并[ b，e ] [1,4]二恶英-2,3-醌的合成，包括Ecklonoquinones A和B以及Isoecklonoquinones A和B

  DOI：

  10.1002/hlca.19850680407
• 作为产物：
  描述：

  2,3-二甲氧基苯酚 在 吡啶 、 氢溴酸 作用下， 反应 2.0h， 生成 2,3-二羟基苯基甲烷磺酸酯
  参考文献：
  名称：

  合成二苯并[ b，e ] [1,4]二恶英-2,3-chinonen，异戊烯酮A和B的化合物

  摘要：

  二苯并[ b，e ] [1,4]二恶英-2,3-醌的合成，包括Ecklonoquinones A和B以及Isoecklonoquinones A和B

  DOI：

  10.1002/hlca.19850680407

文献信息

• Methanofullerenes
  申请人：Robinson Alex Philip Graham

  公开号：US20140134843A1

  公开（公告）日：2014-05-15

  The present disclosure relates to novel methanofullerene derivatives, negative-type photoresist compositions prepared therefrom and methods of using them. The derivatives, their photoresist compositions and the methods are ideal for fine pattern processing using, for example, ultraviolet radiation, beyond extreme ultraviolet radiation, extreme ultraviolet radiation, X-rays and charged particle rays.

  本公开涉及新型甲烷富勒烯衍生物，由此制备的负型光刻胶组合物以及使用它们的方法。这些衍生物、它们的光刻胶组合物和方法非常适合使用紫外线辐射、超极紫外线辐射、极紫外线辐射、X射线和带电粒子束进行精细图案加工。
• SILOXANE-BASED RESIN COMPOSITION
  申请人：Suwa Mitsuhito

  公开号：US20100316953A1

  公开（公告）日：2010-12-16

  The present invention is a siloxane-based resin composition including a siloxane-based resin and an imidosilane compound having a specific structure. Moreover, the present invention is a siloxane-based resin composition including a siloxane-based resin which is a reactive product to be obtained by hydrolyzing an alkoxysilane compound and an imidosilane compound having a specific structure and then making the resulting hydrolysate undergo a condensation reaction. According to the present invention, it is possible to form a cured film excellent in adhesion.

  本发明是一种基于硅氧烷的树脂组合物，包括一种基于硅氧烷的树脂和一种具有特定结构的亚氨基硅烷化合物。此外，本发明还是一种基于硅氧烷的树脂组合物，包括一种基于硅氧烷的树脂，该树脂是通过水解烷氧基硅烷化合物和具有特定结构的亚氨基硅烷化合物反应产生的反应产物，然后使所得到的水解产物经历缩合反应而得到的。根据本发明，可以形成具有优异附着力的固化膜。
• Chemically amplified resist and a resist composition
  申请人：——

  公开号：US20030181629A1

  公开（公告）日：2003-09-25

  The present invention relates to a polymer for a chemically amplified resist and a resist composition using the same. The present invention provides a polymer represented by the Formula (1) and a chemically resist composition for deep ultraviolet light comprising the same. The chemically amplified resist composition comprising the polymer represented by the formula (1) of the present invention responds to mono wavelength in a micro-lithography process and can embody a micro-pattern of high resolution on a substrate. 1

  本发明涉及一种用于化学放大光刻胶的聚合物及使用该聚合物的光刻胶组合物。本发明提供了一种由式（1）表示的聚合物，并且还提供了一种深紫外光化学放大光刻胶组合物，该光刻胶组合物包括该聚合物。本发明所述的由式（1）表示的聚合物的化学放大光刻胶组合物在微影工艺中对单色波长做出响应，能够在基板上实现高分辨率的微型图案。
• Photosensitive polymer and chemically amplified photoresist composition including the same
  申请人：Kim Deog-Bae

  公开号：US20050271977A1

  公开（公告）日：2005-12-08

  A photosensitive polymer for forming high-resolution fine circuit patterns with an exposure light source of a short wavelength, and a chemically amplified photoresist composition including the polymer, are disclosed. The photosensitive polymer is represented by the following Formula 1, wherein R 1 is a hydrogen atom, R 2 is a hydrogen atom, R 3 is a chlorine atom, a bromine atom, hydroxy, cyano, t-butoxy, CH 2 NH 2 , CONH 2 , CH═NH, CH(OH)NH 2 or C(OH)═NH group, R 4 is a hydrogen atom or methyl group, each of 1-x-y-z, x, y and z is a degree of polymerization of each repeating unit constituting the photosensitive polymer, x, y and z are 0.01 to 0.8, respectively, and n is 1 or 2.

  本发明公开了一种光敏聚合物，用于利用短波长的曝光光源形成高分辨率的细电路图案，以及包括该聚合物的化学增感光阻剂组合物。该光敏聚合物由以下式子1表示，其中R1为氢原子，R2为氢原子，R3为氯原子、溴原子、羟基、氰基、叔丁氧基、CH2NH2、CONH2、CH═NH、CH(OH)NH2或C(OH)═NH基团，R4为氢原子或甲基基团，1-x-y-z、x、y和z分别为构成光敏聚合物的每个重复单元的聚合度，x、y和z分别为0.01至0.8，n为1或2。
• [EN] METHANOFULLERENES<br/>[FR] MÉTHANOFULLERRÈNES
  申请人：ROBINSON ALEX PHILIP GRAHAM

  公开号：WO2014078097A1

  公开（公告）日：2014-05-22

  The present disclosure relates to novel methanofullerene derivatives, negative- type photoresist compositions prepared therefrom and methods of using them. The derivatives, their photoresist compositions and the methods are ideal for fine pattern processing using, for example, ultraviolet radiation, beyond extreme ultraviolet radiation, extreme ultraviolet radiation, X-rays and charged particle rays.

  本公开涉及新型甲烷富勒烯衍生物，由此制备的负型光刻胶组合物以及使用它们的方法。这些衍生物，它们的光刻胶组合物和方法非常适合使用紫外线辐射、超过极紫外线辐射、极紫外线辐射、X射线和带电粒子射线等技术进行精细图案处理。