2-(4-甲氧基-1-萘基)-4,6-二(三氯甲基)-1,3,5-三嗪 | 69432-40-2

• 物质功能分类: 化学试剂 - 有机试剂 - 多环化合物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 中文名称: 2-(4-甲氧基-1-萘基)-4,6-二(三氯甲基)-1,3,5-三嗪
• 中文别名: 2-(4-甲氧基-1-萘)-4,6-双(三氟甲基)-1,3,5-三嗪；4,6-双(三氯甲基)-2-(4-甲氧基萘)-1,3,5-三嗪
• 英文名称: 2-(4'-methoxynaphthyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine
• 英文别名: 2-(4-methoxy-1-naphthyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine；2-(4-methoxynaphthyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine；2-(4-Methoxynaphthalen-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine
• CAS: 69432-40-2
• 化学式: C₁₆H₉Cl₆N₃O
• 分子量: 471.985
• InChiKey: FVNIIPIYHHEXQA-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 稳定性/保质期：
  远离氧化物、光和热。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.2
• 重原子数：
  26
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.19
• 拓扑面积：
  47.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

安全信息

• 海关编码：
  2933699090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-(4-甲氧基-1-萘基)-4,6-二(三氯甲基)-1,3,5-三嗪 以 乙腈 为溶剂， 生成 alkaline earth salt of/the/ methylsulfuric acid
  参考文献：
  名称：

  2-(4'-甲氧基萘基)-4,6-双(三氯甲基)-1,3,5-三嗪直接和敏化光化学中的离子与自由基途径：光酸生成的相关性

  摘要：

  标题化合物 (2) 的光化学和光物理学，可用作光致抗蚀剂配方中的光酸产生剂，已使用激光闪光光解工作和发射光谱的组合以及酸形成的评估进行了研究。研究在极性（乙腈）和非极性（环己烷、苯）溶剂中进行，采用直接激发和敏化条件，使用异丙基噻吨酮 (ITX) 和丙酮作为敏化剂。在非极性介质中，2 的光解遵循涉及 C-Cl 裂解的常规机制。相比之下，在乙腈中直接激​​发 2 会导致 C−Cl 异解并形成阳离子，这可以通过其被卤化物阴离子、叠氮化物和甲醇等亲核试剂的快速淬灭来容易地识别。有趣的是，2+ 必须重新排列其光谱和动力学参数以与碳正离子结构一致。为 2+ 及其重排异构体提出了几种可能的结构。普...

  DOI：

  10.1021/ja983371c

文献信息

• ANTIREFLECTIVE COMPOSITIONS WITH THERMAL ACID GENERATORS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd.

  公开号：US20190085173A1

  公开（公告）日：2019-03-21

  New methods and substrates are provided that include antireflective compositions that comprise one or more thermal acid generators.

  提供了包括一个或多个热酸发生剂的防反射组分的新方法和基板。
• MONOMERS, POLYMERS AND PHOTORESIST COMPOSITIONS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd.

  公开号：US20180059545A1

  公开（公告）日：2018-03-01

  In one preferred embodiment, polymers are provided that comprise a structure of the following Formula (I): Photoresists that comprises such polymers also are provided.

  在一个首选实施例中，提供了包含以下化学式（I）结构的聚合物： 还提供了包含这种聚合物的光刻胶。
• COMPOUND OR ITS TAUTOMER, METAL COMPLEX COMPOUND, COLORED PHOTOSENSITIVE CURING COMPOSITION, COLOR FILTER, AND PRODUCTION
  申请人：MIZUKAWA Yuki

  公开号：US20120238752A1

  公开（公告）日：2012-09-20

  Provided is a colored photosensitive curing composition useful for color filters in primary colors, including blue, green, and red, having a high molar absorption coefficient and allowing a reduction in film thickness and superior color purity and fastness. A colored photosensitive curing composition, comprising, as its colorant, a dipyrromethene-based metal complex compound obtained from a metal or metal compound and a dipyrromethene-based compound represented by the following Formula (I): wherein in Formula (I), R 1 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or a substituent group; and R 7 represents a hydrogen or halogen atom, or an alkyl, aryl or heterocyclic group.

  提供的是一种有用于原色彩色滤光片的彩色光敏固化组合物，包括蓝色、绿色和红色，具有高摩尔吸收系数，可减少薄膜厚度，具有优越的颜色纯度和牢固度。 一种彩色光敏固化组合物，包括作为其着色剂的从金属或金属化合物获得的基于二吡咯甲烷的金属配合物化合物和由以下式（I）表示的基于二吡咯甲烷的化合物，其中在式（I）中，R1至R6各自独立地表示氢原子或取代基；R7表示氢或卤素原子，或烷基、芳基或杂环基。
• RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYPHENOLIC COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION, AND ALCOHOLIC COMPOUND THAT CAN BE DERIVED THEREFROM
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20160145231A1

  公开（公告）日：2016-05-26

  A resist composition containing a compound represented by the general formula (1) or (2), a method for forming a resist pattern using the composition, a polyphenolic compound for use in the composition, and an alcoholic compound that can be derived therefrom are described.

  描述了一种包含由通式（1）或（2）表示的化合物的光刻胶组合物，使用该组合物形成光刻胶图案的方法，用于该组合物的多酚化合物，以及可以由其衍生的醇化合物。
• COATING COMPOSITIONS SUITABLE FOR USE WITH AN OVERCOATED PHOTORESIST
  申请人：Amara John P.

  公开号：US20110003250A1

  公开（公告）日：2011-01-06

  In one aspect, organic coating compositions, particularly antireflective coating compositions, are provided that comprise that comprise a diene/dienophile reaction product. In another aspect, organic coating compositions, particularly antireflective coating compositions, are provided that comprise a component comprising a hydroxyl-naphthoic group, such as a 6-hydroxy-2-naphthoic group Preferred compositions of the invention are useful to reduce reflection of exposing radiation from a substrate back into an overcoated photoresist layer and/or function as a planarizing, conformal or via-fill layer.

  在一个方面，提供了有机涂层组合物，特别是抗反射涂层组合物，其包括二烯/二烯亲双反应产物。在另一个方面，提供了有机涂层组合物，特别是抗反射涂层组合物，其包括一个含有羟基-萘甲基团的组分，例如6-羟基-2-萘甲基团。本发明的优选组合物可用于减少曝光辐射从基板反射回覆盖的光刻胶层，并/或作为平坦化、整平或填孔层。