2-(9-氧代氧杂蒽-2-基)丙酸 | 30087-33-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 苯并吡喃
• 中文名称: 2-(9-氧代氧杂蒽-2-基)丙酸
• 中文别名: 2-(9-氧代苯芴酮-2-基)丙酸
• 英文名称: 2-(9-oxoxanthene-2-yl)propionic acid
• 英文别名: 2-(9-oxo-xanthen-2-yl)propionic acid；2-(9-Oxoxanthen-2-yl)propionic Acid；2-(9-oxoxanthen-2-yl)propanoic acid
• CAS: 30087-33-3
• 化学式: C₁₆H₁₂O₄
• 分子量: 268.269
• InChiKey: JUCCZCZDAPBGIV-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  164.0 to 174.0 °C

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.4
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.12
• 拓扑面积：
  63.6
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

SDS

2-(9-氧代苯芴酮-2-基)丙酸

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模块 1. 化学品
产品名称： 2-(9-OxoxaNThen-2-yl)propionic Acid

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模块 2. 危险性概述
GHS分类
物理性危害 未分类
健康危害
急性毒性（经口） 第4级
皮肤腐蚀/刺激 第2级
严重损伤/刺激眼睛 2A类
环境危害 未分类
GHS标签元素
图标或危害标志
信号词 警告
危险描述 吞咽有害。
造成皮肤刺激
造成严重眼刺激
防范说明
[预防] 使用本产品时切勿吃东西，喝水或吸烟。
处理后要彻底清洗双手。
穿戴防护手套/护目镜/防护面具。
[急救措施] 食入：若感不适，呼叫解毒中心/医生。漱口。
眼睛接触：用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续冲洗。
眼睛接触：求医/就诊
皮肤接触：用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激：求医/就诊。
脱掉被污染的衣物，清洗后方可重新使用。
[废弃处置] 根据当地政府规定把物品/容器交与工业废弃处理机构。
2-(9-氧代苯芴酮-2-基)丙酸

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模块 3. 成分/组成信息
单一物质/混和物 单一物质
化学名(中文名)： 2-(9-氧代苯芴酮-2-基)丙酸
百分比： >98.0%(GC)(T)
CAS编码： 30087-33-3
分子式： C16H12O4

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模块 4. 急救措施
吸入： 将受害者移到新鲜空气处，保持呼吸通畅，休息。若感不适请求医/就诊。
皮肤接触： 立即去除/脱掉所有被污染的衣物。用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激或发生皮疹：求医/就诊。
眼睛接触： 用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续清洗。
如果眼睛刺激：求医/就诊。
食入： 若感不适，呼叫解毒中心/医生。漱口。
紧急救助者的防护： 救援者需要穿戴个人防护用品，比如橡胶手套和气密性护目镜。

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模块 5. 消防措施
合适的灭火剂： 干粉，泡沫，雾状水，二氧化碳
特定方法： 从上风处灭火，根据周围环境选择合适的灭火方法。
非相关人员应该撤离至安全地方。
周围一旦着火：如果安全，移去可移动容器。
消防员的特殊防护用具： 灭火时，一定要穿戴个人防护用品。

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模块 6. 泄漏应急处理
个人防护措施，防护用具， 使用个人防护用品。远离溢出物/泄露处并处在上风处。
紧急措施： 泄露区应该用安全带等圈起来，控制非相关人员进入。
环保措施： 防止进入下水道。
控制和清洗的方法和材料： 清扫收集粉尘，封入密闭容器。注意切勿分散。附着物或收集物应该立即根据合适的
法律法规处置。

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模块 7. 操作处置与储存
处理
技术措施： 在通风良好处进行处理。穿戴合适的防护用具。防止粉尘扩散。处理后彻底清洗双手
和脸。
注意事项： 如果粉尘或浮质产生，使用局部排气。
操作处置注意事项： 避免接触皮肤、眼睛和衣物。
贮存
储存条件： 保持容器密闭。存放于凉爽、阴暗处。
远离不相容的材料比如氧化剂存放。
包装材料： 依据法律。

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模块 8. 接触控制和个体防护
工程控制： 尽可能安装封闭体系或局部排风系统，操作人员切勿直接接触。同时安装淋浴器和洗
眼器。
个人防护用品
呼吸系统防护： 防尘面具。依据当地和政府法规。
手部防护： 防护手套。
眼睛防护： 安全防护镜。如果情况需要，佩戴面具。
皮肤和身体防护： 防护服。如果情况需要，穿戴防护靴。
2-(9-氧代苯芴酮-2-基)丙酸

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模块 9. 理化特性
固体
外形（20°C）：
外观： 晶体-粉末
颜色： 白色类白色
气味： 无资料
pH: 无数据资料
熔点： 164°C
沸点/沸程 无资料
闪点： 无资料
爆炸特性
爆炸下限： 无资料
爆炸上限： 无资料
密度： 无资料
溶解度：
[水] 无资料
[其他溶剂] 无资料

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模块 10. 稳定性和反应性
化学稳定性： 一般情况下稳定。
危险反应的可能性： 未报道特殊反应性。
须避免接触的物质 氧化剂
危险的分解产物: 一氧化碳, 二氧化碳

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模块 11. 毒理学信息
急性毒性： orl-rat LD50:720 mg/kg
对皮肤腐蚀或刺激： 无资料
对眼睛严重损害或刺激： 无资料
生殖细胞变异原性： 无资料
致癌性：
IARC = 无资料
NTP = 无资料
生殖毒性： 无资料
RTECS 号码: ZD5536500

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模块 12. 生态学信息
生态毒性：
鱼类： 无资料
甲壳类： 无资料
藻类： 无资料
残留性 / 降解性： 无资料
潜在生物累积 （BCF): 无资料
土壤中移动性
log水分配系数： 无资料
土壤吸收系数 （Koc）： 无资料
亨利定律 无资料
constaNT(PaM3/mol):

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模块 13. 废弃处置
如果可能，回收处理。请咨询当地管理部门。建议在可燃溶剂中溶解混合，在装有后燃和洗涤装置的化学焚烧炉中
焚烧。废弃处置时请遵守国家、地区和当地的所有法规。
2-(9-氧代苯芴酮-2-基)丙酸

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模块 14. 运输信息
联合国分类： 与联合国分类标准不一致
UN编号： 未列明

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模块 15. 法规信息
《危险化学品安全管理条例》（2002年1月26日国务院发布，2011年2月16日修订）: 针对危险化学品的安全使用、
生产、储存、运输、装卸等方面均作了相应的规定。

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模块16 - 其他信息
N/A

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-(9-氧代氧杂蒽-2-基)丙酸 在 硫酸 、 potassium carbonate 作用下， 以 二甲基亚砜 为溶剂， 反应 3.0h， 生成 methyl 3-hydroxy-2-methyl-2-(9-oxo-9H-xanthen-2-yl)propanoate
  参考文献：
  名称：

  Development of photo-controllable hydrogen sulfide donor applicable in live cells

  摘要：

  Hydrogen sulfide (H2S) has multiple physiological roles, for example, in vasodilation and inflammation. It is a highly reactive gas under ambient conditions, so controllable H2S donors are required for studying its biological functions. Here, we describe the design, synthesis and application of a H2S donor (SPD-2) that utilizes xanthone photochemistry to control H2S release. H2S generation from SPD-2 was completely dependent on UVA-irradiation (325-385 nm), as confirmed by methylene blue assay and by the use of a H2S-selective fluorescent probe. SPD-2 was confirmed to provide controlled H2S delivery in live cells, and should be suitable for various biological applications. (C) 2014 The Authors. Published by Elsevier Ltd.

  DOI：

  10.1016/j.bmcl.2014.11.084
• 作为产物：
  描述：

  在 硫酸 作用下， 反应 2.0h， 以6.32 g的产率得到2-(9-氧代氧杂蒽-2-基)丙酸
  参考文献：
  名称：

  Development of photo-controllable hydrogen sulfide donor applicable in live cells

  摘要：

  Hydrogen sulfide (H2S) has multiple physiological roles, for example, in vasodilation and inflammation. It is a highly reactive gas under ambient conditions, so controllable H2S donors are required for studying its biological functions. Here, we describe the design, synthesis and application of a H2S donor (SPD-2) that utilizes xanthone photochemistry to control H2S release. H2S generation from SPD-2 was completely dependent on UVA-irradiation (325-385 nm), as confirmed by methylene blue assay and by the use of a H2S-selective fluorescent probe. SPD-2 was confirmed to provide controlled H2S delivery in live cells, and should be suitable for various biological applications. (C) 2014 The Authors. Published by Elsevier Ltd.

  DOI：

  10.1016/j.bmcl.2014.11.084

文献信息

• BORATE-BASED BASE GENERATOR, AND BASE-REACTIVE COMPOSITION COMPRISING SUCH BASE GENERATOR
  申请人：WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

  公开号：US20160340374A1

  公开（公告）日：2016-11-24

  An object of the present invention is to provide a compound which is capable of attaining a composition having high storage stability without reacting with a base-reactive compound, even in the case of storage for a long period of time in a mixed state with the base-reactive compound, such as an epoxy-based compound, as well as capable of generating a strong base (guanidines, biguanides, phosphazenes or phosphoniums) by irradiation of light (active energy rays) or heating; a base generator comprising the compound; and a base-reactive composition comprising the base generator and the base-reactive compound. The present invention relates to the compound represented by the general formula (A); the base generator comprising the compound; and the base-reactive composition comprising the base generator and the base-reactive compound. (wherein R 1 represents an alkyl group; an arylalkynyl group which may be substituted with a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, or an alkylthio group; an alkenyl group; a 2-furylethynyl group; a 2-thiophenylethynyl group; or a 2,6-dithianyl group; R 2 to R 4 each independently represent an alkyl group; an arylalkynyl group which may be substituted with a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, or an alkylthio group; the aryl group which may be substituted with a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, or an alkylthio group; a furanyl group; a thienyl group; or an N-alkyl-substituted pyrrolyl group; Z + represents an ammonium cation having a guanidinium group, a biguanidium group or a phosphazenium group, or a phosphonium cation.)

  本发明的目的是提供一种化合物，能够在与碱反应性化合物混合状态长时间存储的情况下，仍能获得具有高储存稳定性的组合物，而不与碱反应性化合物发生反应，同时还能通过光照（活性能量射线）或加热产生强碱（胍胺、双胍胺、磷氮烷或磷銨）；包括该化合物的碱发生器；以及包括该碱发生器和碱反应性化合物的碱反应性组合物。本发明涉及由通式（A）表示的化合物；包括该化合物的碱发生器；以及包括该碱发生器和碱反应性化合物的碱反应性组合物。（其中R1代表烷基；可能被卤素原子、烷基、烷氧基或烷硫基取代的芳基炔基；烯基；2-呋喃基炔基；2-噻吩基炔基；或2,6-二硫基基；R2到R4各自独立地代表烷基；可能被卤素原子、烷基、烷氧基或烷硫基取代的芳基炔基；可能被卤素原子、烷基、烷氧基或烷硫基取代的芳基；呋喃基；噻吩基；或N-烷基取代的吡咯基；Z+代表具有胍胺基团、双胍胺基团或磷氮烷基团的铵阳离子，或磷銨阳离子。）
• ACID-RESISTANT BASE AND/OR RADICAL GENERATOR, AND CURABLE RESIN COMPOSITION CONTAINING SAID BASE AND/OR RADICAL GENERATOR
  申请人：WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

  公开号：US20190002403A1

  公开（公告）日：2019-01-03

  The present invention relates to a compound represented by the general formula (A), a base- and/or radical-generating agent comprising the compound, and so on. In the formula, four pieces of R 1 each independently represents a hydrogen atom or a fluorine atom; four pieces of R 2 each independently represent a fluorine atom or a trifluoromethyl group; R 3 , R 6 , R 7 and R 10 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or R 4 and R 5 are bonded to each other to represent an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms; and R 8 and R 9 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms and optionally having a substituent selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 6 carbon atoms, a dialkylamino group having 2 to 12 carbon atoms, a halogen atom, and a nitro group, or R 8 and R 9 are bonded to each other to represent an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms; provided that two or three of the eight groups R 3 to R 10 are each a hydrogen atom, and, in a case where two of the eight groups are each a hydrogen atom, then three to six of the remaining groups are each an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and, in a case where three of the eight groups are each a hydrogen atom, then four or five of the remaining groups are each an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.

  本发明涉及一种由通式（A）表示的化合物，包括该化合物的生成碱基和/或基团产生剂等。在该式中，四个R1分别独立表示氢原子或氟原子；四个R2分别独立表示氟原子或三氟甲基基团；R3、R6、R7和R10分别独立表示氢原子或具有1至12个碳原子的烷基基团；R4和R5分别独立表示氢原子或具有1至12个碳原子的烷基基团，或者R4和R5相互连接表示具有2至4个碳原子的亚烷基基团；R8和R9分别独立表示氢原子、具有1至12个碳原子的烷基基团或具有6至14个碳原子且可选地具有选自包括具有1至6个碳原子的烷基基团、具有1至6个碳原子的烷氧基团、具有1至6个碳原子的烷硫基团、具有2至12个碳原子的二烷基氨基团、卤素原子和硝基基团的取代基的芳基团，或者R8和R9相互连接表示具有2至4个碳原子的亚烷基基团；前提是八个基团R3至R10中的两个或三个分别是氢原子，并且在其中两个基团分别是氢原子的情况下，其余基团中的三到六个分别是具有1至12个碳原子的烷基基团，而在其中三个基团分别是氢原子的情况下，其余基团中的四个或五个分别是具有1至12个碳原子的烷基基团。
• PHOTOCURING METHOD, COMPOUND AND COMPOSITION USED THEREIN
  申请人：FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation

  公开号：US20190055210A1

  公开（公告）日：2019-02-21

  An object of the present invention is to provide a photocuring method, which makes it possible to rapidly and efficiently obtain a crosslinked product (resin), a compound used in the photocuring method, and a photocuring resin composition containing the compound. The present invention relates to a photocuring method, which comprises a step 1 and a step 2 performed after the step 1, a compound used in the photocuring method, and a photocuring resin composition containing the compound. Step 1: this is a step in which in the presence of (A) compound having a carbonyl group generating a radical by photoirradiation and a carboxyl group decarboxylated by photoirradiation, (B) silane coupling agent having a mercapto group or a (meth)acryl group is reacted with (C) water under acidic conditions to obtain (D) silane compound having a mercapto group or a (meth)acryl group and at least one silanol group. Step 2: this is a step in which in the presence of the compound (A) and (E) compound having a carbonyl group generating a radical by photoirradiation and a group generating a base by being decarboxylated by photoirradiation, the compound (A) and the compound (E) are irradiated with light to create alkaline conditions in a reaction system by decarboxylating the carboxyl group of the compound (A) and generating a base from the compound (E), and radicals are generated from the compound (A) and the compound (E) to generate a crosslinked product containing a constitutional unit derived from the silane compound (D) from the silane compound (D) and, if necessary, from (F) compound having two or more polymerizable unsaturated groups.

  本发明的一个目标是提供一种光固化方法，该方法使得能够快速高效地获得交联产物（树脂），以及用于光固化方法的化合物和含有该化合物的光固化树脂组合物。本发明涉及一种光固化方法，该方法包括在步骤1和步骤2之后执行的步骤1和步骤2，以及用于光固化方法的化合物和含有该化合物的光固化树脂组合物。步骤1：这是一个步骤，在该步骤中，在（A）具有通过光照生成自由基的羰基和通过光照脱羧生成羧基的化合物的存在下，（B）具有巯基或（甲基）丙烯基的硅烷偶联剂在酸性条件下与（C）水反应，以获得具有巯基或（甲基）丙烯基和至少一个硅醇基团的（D）硅烷化合物。步骤2：这是一个步骤，在该步骤中，在化合物（A）和（E）具有通过光照生成自由基的羰基和通过光照脱羧生成碱基的化合物的存在下，通过照射光线使化合物（A）和化合物（E）在反应系统中产生碱性条件，通过脱羧化合物（A）的羧基并从化合物（E）中生成碱基，并从化合物（A）和化合物（E）中生成自由基，从而生成包含从硅烷化合物（D）派生的构造单元的交联产物，如果需要，还可以从具有两个或更多可聚合不饱和基团的化合物（F）中派生。
• BASE GENERATOR, BASE-REACTIVE COMPOSITION CONTAINING SAID BASE GENERATOR, AND BASE GENERATION METHOD
  申请人：WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

  公开号：US20160122292A1

  公开（公告）日：2016-05-05

  It is a subject of the present invention to provide a base generator which has high solubility to general-purpose organic solvents, can dissolve directly into a base-reactive compound, such as an epoxy-based compound, further is provided with both performance of high heat resistance and low nucleophilicity, and generates a strong base, a base-reactive composition comprising the base generator and a base-reactive compound, as well as a method for generating a base, etc. The present invention relates to a compound represented by the general formula (A), a base generator comprising the compound, a base-reactive composition which comprises the base generator and a base-reactive compound, as well as a method for generating a base, etc. (wherein R 1 to R 5 each independently represent a hydrogen atom; an alkyl group; an aryl group which may have a substituent; or an arylalkyl group which may have a substituent, R 6 represents a hydrogen atom; an alkyl group which may have a substituent; an alkenyl group; an alkynyl group; an aryl group which may have a substituent; or an arylalkyl group which may have a substituent, R 7 represents a hydrogen atom; an alkyl group which may have an amino group; an aryl group which may have a substituent; or an arylalkyl group which may have a substituent, and Z − represents an anion derived from a carboxylic acid having a specific structure.)

  本发明的一个目的是提供一种基发生剂，其对通用有机溶剂具有高溶解度，可以直接溶解为一种碱反应性化合物，例如基于环氧树脂的化合物，进一步具有高耐热性和低亲核性的性能，并生成强碱，包括基发生剂和碱反应性化合物的碱反应性组合物，以及生成碱的方法等。本发明涉及一种由通式（A）表示的化合物，包括该化合物的基发生剂，包括基发生剂和碱反应性化合物的碱反应性组合物，以及生成碱的方法等。（其中R1至R5各自独立地表示氢原子；烷基基团；可能具有取代基的芳基团；或可能具有取代基的芳基烷基基团，R6表示氢原子；可能具有取代基的烷基基团；烯基基团；炔基基团；可能具有取代基的芳基团；或可能具有取代基的芳基烷基基团，R7表示氢原子；可能具有氨基的烷基基团；可能具有取代基的芳基团；或可能具有取代基的芳基烷基基团，Z-表示从具有特定结构的羧酸衍生的阴离子。）
• 염기 발생제, 이 염기 발생제를 함유하는 염기 반응성 조성물 및 염기 발생 방법
  申请人：FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation 후지필름 와코 준야꾸 가부시키가이샤(519980757503)

  公开号：KR20160025587A

  公开（公告）日：2016-03-08

  본 발명은 널리 사용되고 있는 유기용제에 대한 용해성이 높고, 에폭시계 화합물 등의 염기 반응성 화합물에 직접 용해시킬 수 있으며, 나아가 고내열성과 저친핵성의 양쪽 성능을 구비하는, 강염기를 발생하는 염기 발생제, 당해 염기 발생제와 염기 반응성 화합물을 함유하는 염기 반응성 조성물, 및 염기 발생 방법 등을 제공하는 것을 과제로 한다. 본 발명은 일반식 (A)로 표시되는 화합물, 당해 화합물을 포함하여 이루어진 염기 발생제, 당해 염기 발생제 및 염기 반응성 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 염기 반응성 조성물, 및 염기 발생 방법 등에 관한 것이다. (상기 식에서, R~R는 각각 독립적으로, 수소 원자, 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 좋은 아릴기 또는 치환기를 가지고 있어도 좋은 아릴알킬기를 나타내고, R은 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 좋은 알킬기, 알케닐기, 알키닐기, 치환기를 가지고 있어도 좋은 아릴기 또는 치환기를 가지고 있어도 좋은 아릴알킬기를 나타내며, R은 수소 원자, 아미노기를 가지고 있어도 좋은 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 좋은 아릴기 또는 치환기를 가지고 있어도 좋은 아릴알킬기를 나타내고, Z는 특정구조의 카르복실산 유래의 음이온을 나타낸다.)

  本发明旨在提供一种广泛用于有机溶剂中的高溶解度，可直接溶解环氧化合物等碱性反应性化合物，并具有高热稳定性和低核碱性性能的强碱生成剂，含有该碱生成剂和碱性反应性化合物的碱性反应性组合物，以及生成碱的方法。 本发明涉及一种以通式（A）表示的化合物，包括该化合物的碱生成剂，含有该碱生成剂和碱性反应性化合物的碱性反应性组合物，以及生成碱的方法等。（在上述式中，R～R分别独立地表示氢原子，烷基，取代基或含取代基的芳基或含取代基的芳基烷基，R表示氢原子，烷基，烯基，烷烃基，取代基或含取代基的芳基或含取代基的芳基烷基， R表示氢原子，氨基，烷基，取代基或含取代基的芳基或含取代基的芳基烷基，Z表示特定结构的羧酸衍生物的阴离子。）