持久性基团R” 2 C ^ 。MR 3(I),R'C 。(MR 3)2(II)和RC ???(MR 3)OMR 3(III)中,R '大多博士而且叔卜,H,R' 2 也9-
芴基或9-呫吨基,男Si,Ge,Sn是由相应的CH或CHal化合物或通过添加R 3 M生成的。去酮。自由基I,II和III通过ESR光谱法研究。据研究,在这些自由基和它们的二聚体(IV)之间发现了温度相关的平衡。二聚体IV用酸重排,得到二芳基
甲烷。自由基I在80°C时会自动氧化,生成苯并
频哪醇衍
生物,其自由基再次被氧化,并经历不同的裂解过程。在室温下,然而,二聚体IV是被O攻击2形成通过碎裂
金属化
二苯甲酮衍
生物,其可通过UV光分裂成基团R 3中号。(MSi,Ge,Sn)和氧自由基,这些氧自由基通过介晶作用而高度稳定。