N,N'-di(β-naphthyl)-1,3-phenylenediamine | 5862-75-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: N,N'-di(β-naphthyl)-1,3-phenylenediamine
• 英文别名: N,N'-di-[2]naphthyl-m-phenylenediamine；N,N'-Di-[2]naphthyl-m-phenylendiamin；N.N'-Di-β-naphthyl-m-phenylendiamin；N,N'-di-2-naphthyl-m-phenylenediamine；m-Phenylenediamine,N'-di-2-naphthyl-；1-N,3-N-dinaphthalen-2-ylbenzene-1,3-diamine
• CAS: 5862-75-9
• 化学式: C₂₆H₂₀N₂
• 分子量: 360.458
• InChiKey: AJOAZEMNFCIPMQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  7.5
• 重原子数：
  28
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  5.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  24.1
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N,N'-di(β-naphthyl)-1,3-phenylenediamine 在 碘 作用下， 以 丙酮 为溶剂， 反应 0.02h， 以89%的产率得到16H,18H-dibenzo-[c,l]-7,9-dithia-16,18-diazapentacene
  参考文献：
  名称：

  二苯胺硫代化制备微波辅助吩噻嗪

  摘要：

  摘要 介绍了一种在“干燥介质”中通过使用微波活化二苯胺硫化作用制备吩噻嗪衍生物的方法。该方法允许制备 2,4,6,8-四-叔丁基-10H-吩噻嗪 2e，这是该杂环的第一个 2,4,6,8-四取代衍生物，其他硫化过程几乎无法获得。

  DOI：

  10.1080/00397919808005727
• 作为产物：
  描述：

  间苯二胺 、 2-萘酚 生成 N,N'-di(β-naphthyl)-1,3-phenylenediamine
  参考文献：
  名称：

  Fischer,O.; Schuette, Chemische Berichte, 1893, vol. 26, p. 3086

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Bis(3,4-methylenedioxyphenylamino) derivatives and electrophotographic photoreceptor containing the derivatives
  申请人：Takasago International Corporation

  公开号：US06228547B1

  公开（公告）日：2001-05-08

  Disclosed are novel compounds useful in electrophotographic photoreceptors as charge-transporting materials having good miscibility with binder polymers and capable of forming a thin stable organic film having a high concentration; and an electrophotographic photoreceptor containing the same. The compounds are bis(3,4-methylenedioxyphenylamino) derivatives represented by general formula (1): wherein Ar1 and Ar2 each is an optionally substituted aryl group and Ar3 is a phenylene group or an optionally substituted biphenylene group.

  本发明涉及一种新型化合物，可用作电子摄影感光体中的电荷传输材料，具有良好的与粘结聚合物混溶性，能够形成高浓度的薄稳定有机膜；以及含有该化合物的电子摄影感光体。该化合物是由通式（1）表示的双(3,4-亚甲二氧基苯基氨基)衍生物，其中Ar1和Ar2各是可选取代的芳基基团，而Ar3是一个苯基团或可选取代的联苯基团。
• COATING-TYPE COMPOSITION FOR FORMING ORIGINAL FILM, PATTERNING PROCESS, POLYMER, AND METHOD FOR MANUFACTURING POLYMER
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP3876035A1

  公开（公告）日：2021-09-08

  The present invention provides a coating-type composition for forming an organic film containing: a polymer having a structure shown by the following general formula (1) as a partial structure; and an organic solvent, where in the formula (1), ring structures Ar1 and Ar2 represent a benzene ring or a naphthalene ring optionally having a substituent, and W1 represents an aryl group having 6 to 30 carbon atoms and optionally having a substituent. This provides a coating-type composition for forming an organic film that can form an organic film having high patterncurving resistance and high dry-etching resistance, the composition being excellent in solvent solubility and having a low generation of defects.

  本发明提供了一种用于形成有机薄膜的涂层型组合物，该组合物包含：具有以下通式（1）所示结构的聚合物，作为部分结构；以及有机溶剂，其中在式（1）中，环结构 Ar1 和 Ar2 代表可选具有取代基的苯环或萘环，W1 代表具有 6 至 30 个碳原子且可选具有取代基的芳基。这就提供了一种用于形成有机薄膜的涂层型组合物，该组合物可以形成具有高抗图案弯曲性和高抗干蚀刻性的有机薄膜，而且该组合物具有优异的溶剂溶解性和较低的缺陷产生率。
• Polymer and composition for forming organic film, substrate for manufacturing semiconductor apparatus, method for forming organic film, and patterning process
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US10998197B2

  公开（公告）日：2021-05-04

  The invention provides a composition for forming an organic film, which generates no by-product even under such a film formation condition in an inert gas to prevent substrate corrosion, which is capable of forming an organic film not only excellent in properties of filling and planarizing a pattern formed on a substrate but also favorable for dry etching resistance during substrate processing, and further which causes no fluctuation in film thickness of the film due to thermal decomposition even when a CVD hard mask is formed on the organic film. The composition for forming an organic film includes (A) a polymer having a repeating unit shown by the following general formula (1) and (B) an organic solvent.

  本发明提供了一种用于形成有机薄膜的组合物，该组合物即使在惰性气体中的成膜条件下也不会产生副产物，以防止基底腐蚀；该组合物不仅能够形成在基底上形成的图案的填充和平面化性能优异的有机薄膜，而且在基底加工过程中还有利于耐干蚀刻；此外，即使在有机薄膜上形成 CVD 硬掩膜，也不会因热分解而导致薄膜厚度波动。用于形成有机薄膜的组合物包括 (A) 具有以下通式 (1) 所示重复单元的聚合物和 (B) 有机溶剂。
• Ruhemann, Chemische Berichte, 1881, vol. 14, p. 2655
  作者：Ruhemann

  DOI：——

  日期：——
• Fischer,O.; Schuette, Chemische Berichte, 1893, vol. 26, p. 3086
  作者：Fischer,O.、Schuette

  DOI：——

  日期：——

表征谱图