1-(2-(2-methoxyethoxy)ethoxy)naphthalene | 264217-04-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 1-(2-(2-methoxyethoxy)ethoxy)naphthalene
• 英文别名: 1-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]naphthalene
• CAS: 264217-04-1
• 化学式: C₁₅H₁₈O₃
• mdl: MFCD21435384
• 分子量: 246.306
• InChiKey: MPBHHDQAUYMBQB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.3
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.333
• 拓扑面积：
  27.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  四甲基亚砜 、 1-(2-(2-methoxyethoxy)ethoxy)naphthalene 、 triethylammonium 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-(adamantane-1-carbonyloxy)propanesulfonate 在 Eaton’s reagent 作用下， 以 水 为溶剂， 以72%的产率得到4-(2-(2-methoxyethoxy)ethoxy)naphthyl-1-tetrahydrothiophenium 2-(adamantane-1-carbonyloxy)-1,1,3,3,3-pentafluoropropanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  술포늄염, 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법

  摘要：

  本发明提供了用以下化学式（1a）或（1b）表示的锡盐。在上述式中，R表示直链、支链或环状的1个碳氢基，其包括杂原子，碳数为7〜30，n'表示1〜4的整数。本发明的锡盐具有与通常的锡盐不同的高亲水性酚性羟基或乙二醇醚，并且当将本发明的锡盐与特定阴离子组合并用于光刻胶材料时，其溶出度低，并且具有较小的模式依赖性（暗亮度），因此作为化学放大型光刻胶材料的光敏剂非常有用。

  公开号：

  KR101498326B1
• 作为产物：
  描述：

  萘酚 、 2-(2-甲氧基乙氧基)乙基4-甲基苯磺酸负离子 在 potassium carbonate 作用下， 以 二甲基亚砜 为溶剂， 反应 3.0h， 以75%的产率得到1-(2-(2-methoxyethoxy)ethoxy)naphthalene
  参考文献：
  名称：

  술포늄염, 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법

  摘要：

  本发明提供了用以下化学式（1a）或（1b）表示的锡盐。在上述式中，R表示直链、支链或环状的1个碳氢基，其包括杂原子，碳数为7〜30，n'表示1〜4的整数。本发明的锡盐具有与通常的锡盐不同的高亲水性酚性羟基或乙二醇醚，并且当将本发明的锡盐与特定阴离子组合并用于光刻胶材料时，其溶出度低，并且具有较小的模式依赖性（暗亮度），因此作为化学放大型光刻胶材料的光敏剂非常有用。

  公开号：

  KR101498326B1

文献信息

• SULFONIUM SALT, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：OHSAWA Youichi

  公开号：US20120045724A1

  公开（公告）日：2012-02-23

  A sulfonium salt of a naphthylsulfonium cation having a hydrophilic phenolic hydroxyl group or ethylene glycol chain with a specific anion is provided. The sulfonium salt is used as a photoacid generator to form a resist composition which when processed by immersion lithography, offers advantages of restrained dissolution in the immersion water and less pattern dependence or dark-bright difference.

  提供了一种具有亲水性酚羟基或乙二醇链的萘基磺鎓阳离子的磺鎓盐，带有特定阴离子。该磺鎓盐用作光酸发生剂，形成一种抗蚀剂组合物，当通过浸没光刻法处理时，具有在浸没水中受限溶解和较少的图案依赖性或暗亮差异的优点。
• Sulfonium salt, resist composition, and patterning process
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US08535869B2

  公开（公告）日：2013-09-17

  A sulfonium salt of a naphthylsulfonium cation having a hydrophilic phenolic hydroxyl group or ethylene glycol chain with a specific anion is provided. The sulfonium salt is used as a photoacid generator to form a resist composition which when processed by immersion lithography, offers advantages of restrained dissolution in the immersion water and less pattern dependence or dark-bright difference.

  提供了一种具有亲水性酚酸羟基或乙二醇链的萘基磺鎓阳离子的磺鎓盐，其中具有特定阴离子。该磺鎓盐用作光酸发生剂，形成一种抗蚀剂组合物，该组合物在浸润光刻工艺中加工时，具有抑制在浸润水中的溶解和较少的图案依赖性或暗亮差异的优点。
• ジアリール化合物の製造方法
  申请人：——

  公开号：JP2001039898A

  公开（公告）日：2001-02-13

  (57)【要約】\n【課題】安価で、毒性の少ない試薬を使ったジアリール化合物の製造法を提供すること。\n【解決手段】炭化水素系の芳香族性化合物と下記式（２）で示される超原子価ヨウ素化合物\nΦ Ｉ（ＯＲ１）（ＯＳＯ２Ｒ２） （２）\n（式中、Ｒ１は水素原子、メチル基、エチル基又はプロピル基を表し、Ｒ２はメチル基、トリフルオロメチル基、フェニル基又はトリル基を表し、Φは置換基を有しててもよいフェニル基、トリル基、クメニル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基を示す。）を反応させることを特徴とするジアリール化合物の製造法。

  (57) [摘要] Јn[问题] 提供一种使用廉价且毒性较小的试剂生产二芳基化合物的方法。\解决方法] 下式（2）所示的烃类芳香族化合物和高价碘化合物 ЈnΦ I(OR1)(OSO2R2) (2)Јn （其中 R1 代表氢原子、甲基、乙基或丙基，R2 代表甲基、三氟甲基、苯基或甲苯基Φ 代表苯基、甲苯基、丁烯基、辛基、甲苯甲基或萘基，这些基团可带有取代基)。一种生产二芳基化合物的方法，其特征在于：使下列物质反应
• US8535869B2
  申请人：——

  公开号：US8535869B2

  公开（公告）日：2013-09-17