(4-tert-butylphenyl)dinaphthalen-2-yl-sulfonium 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate | 1379476-06-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 卤代烷
• 英文名称: (4-tert-butylphenyl)dinaphthalen-2-yl-sulfonium 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate
• 英文别名: (4-Tert-butylphenyl)-dinaphthalen-2-ylsulfanium;1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate；(4-tert-butylphenyl)-dinaphthalen-2-ylsulfanium;1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate
• CAS: 1379476-06-8
• 化学式: C₄F₉O₃S*C₃₀H₂₇S
• 分子量: 718.704
• InChiKey: BHDLGMQDDOMQGD-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  10.34
• 重原子数：
  48
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  5.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.24
• 拓扑面积：
  66.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  12

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-萘硫醇 、 2-萘酚 在 碳酸氢钠 、 对甲苯磺酸 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 以52 g (79%)的产率得到(4-tert-butylphenyl)dinaphthalen-2-yl-sulfonium 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  PHOTOACID GENERATORS

  摘要：

  一种光酸发生剂化合物具有以下式(I)：G+Z−(I)，其中G具有以下式(II)： 在式(II)中，X为S或I，每个R0通常连接到X，并且独立地为C1-30烷基；多环或单环的C3-30环烷基；多环或单环的C6-30芳基；或包含至少其中一种上述基团的组合。G的分子量大于263.4克/摩尔，或小于263.4克/摩尔。一个或多个R0基团进一步连接到相邻的R0基团，a为2或3，其中当X为I时，a为2，或当X为S时，a为2或3。式(I)中的Z包括磺酸盐、磺酰亚胺或磺酰胺的阴离子。光阻剂和涂层膜还包括该光酸发生剂，并且形成电子器件的方法使用该光阻剂。

  公开号：

  US20120141939A1

文献信息

• Photoacid generators
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：EP2458440A1

  公开（公告）日：2012-05-30

  A photoacid generator compound has the formula (I):          G+ Z-     (I) wherein G has the formula (II): wherein in formula (II), X is S or I, each R0 is commonly attached to X and is independently a C1-30 alkyl group; a polycyclic or monocyclic C3-30 cycloalkyl group; a polycyclic or monocyclic C6-30 aryl group; or a combination comprising at least one of the foregoing, G has a molecular weight of greater than 263.4 g/mol, or G has a molecular weight of less than 263.4 g/mol and one or more R0 groups are further attached to an adjacent R0 group, a is 2 or 3, wherein when X is I, a is 2, or when X is S, a is 2 or 3, and Z in formula (I) comprises the anion of a sulfonic acid, a sulfonimide, or a sulfonamide. A photoresist and coated film also includes the photoacid generator and a polymer, and a method of forming an electronic device uses the photoresist.

  一种光酸发生器化合物具有式 (I)： G+ Z- (I) 其中 G 具有式 (II)： 其中，在式 (II) 中，X 是 S 或 I，每个 R0 通常连接到 X 并独立地是 C1-30 烷基；多环或单环的 C3-30 环烷基；多环或单环的 C6-30 芳基；或包含至少一种上述基团的组合，G 的分子量大于 263.4 g/mol，或G的分子量小于263.4 g/mol，且一个或多个R0基团进一步连接到相邻的R0基团，a为2或3，其中当X为I时，a为2，或当X为S时，a为2或3，且式(I)中的Z包括磺酸、磺酰亚胺或磺酰胺的阴离子。光刻胶和涂膜还包括光酸发生器和聚合物，以及使用该光刻胶形成电子设备的方法。
• US8932797B2
  申请人：——

  公开号：US8932797B2

  公开（公告）日：2015-01-13
• PHOTOACID GENERATORS
  申请人：Thackeray James W.

  公开号：US20120141939A1

  公开（公告）日：2012-06-07

  A photoacid generator compound has formula (I): G + Z − (I) wherein G has formula (II): In formula (II), X is S or I, each R 0 is commonly attached to X and is independently C 1-30 alkyl; polycyclic or monocyclic C 3-30 cycloalkyl; polycyclic or monocyclic C 6-30 aryl; or a combination comprising at least one of the foregoing groups. G has a molecular weight greater than 263.4 g/mol, or less than 263.4 g/mol. One or more R 0 groups are further attached to an adjacent R 0 group, a is 2 or 3, wherein when X is I, a is 2, or when X is S, a is 2 or 3. Z in formula (I) comprises the anion of a sulfonic acid, a sulfonimide, or a sulfonamide. A photoresist and coated film also includes the photoacid generator, and a method of forming an electronic device uses the photoresist.

  一种光酸发生剂化合物具有以下式(I)：G+Z−(I)，其中G具有以下式(II)： 在式(II)中，X为S或I，每个R0通常连接到X，并且独立地为C1-30烷基；多环或单环的C3-30环烷基；多环或单环的C6-30芳基；或包含至少其中一种上述基团的组合。G的分子量大于263.4克/摩尔，或小于263.4克/摩尔。一个或多个R0基团进一步连接到相邻的R0基团，a为2或3，其中当X为I时，a为2，或当X为S时，a为2或3。式(I)中的Z包括磺酸盐、磺酰亚胺或磺酰胺的阴离子。光阻剂和涂层膜还包括该光酸发生剂，并且形成电子器件的方法使用该光阻剂。