bisphenol F benzoxazine | 137836-80-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 苯并恶嗪类
• 英文名称: bisphenol F benzoxazine
• 英文别名: 6,6'-Methylenebis(3-phenyl-3,4-dihydro-2H-1,3-benzoxazine)；3-phenyl-6-[(3-phenyl-2,4-dihydro-1,3-benzoxazin-6-yl)methyl]-2,4-dihydro-1,3-benzoxazine
• CAS: 137836-80-7
• 化学式: C₂₉H₂₆N₂O₂
• 分子量: 434.538
• InChiKey: LVGAZNUUPCRHIJ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  634.5±55.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.223±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.8
• 重原子数：
  33
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  6.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.17
• 拓扑面积：
  24.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  聚合甲醛 、 4,4'-二羟基二苯甲烷 、 苯胺 在 水 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 5.0h， 以83%的产率得到bisphenol F benzoxazine
  参考文献：
  名称：

  桥联基团的电子效应对双酚基苯并恶嗪的合成反应和热活化聚合的影响

  摘要：

  基于具有不同桥联基团的双酚六双-苯并恶嗪， C（CH 3）2 ， CH 2 ， ö ， CO ， SO 2 ，和单键，在甲苯中合成。相对详细地讨论了桥接基团的电子效应对成环反应和热开环聚合的影响。其结构通过高效液相色谱，傅立叶变换红外光谱仪1表征。1 H NMR，差示扫描量热法和元素分析。通过分子模拟计算了双酚和双苯并恶嗪的量子化学参数。结果表明，吸电子基团通过降低双酚α-Cs的电荷密度和增加合成反应的能垒来抑制合成反应。然而，吸电子基团促进了热活化聚合，这导致从它们的活化能和固化温度下降通过增加键长和降低C的键能恶嗪环上的O。此外，由于较强的吸电子砜基团，聚苯并恶嗪中有更多的芳胺亚甲基曼尼希桥结构。©2011 Wiley Periodicals，Inc. J Polym Sci A部分：Polym Chem，2011年

  DOI：

  10.1002/pola.24566

文献信息

• COMPOUND, RESIN, COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20210070727A1

  公开（公告）日：2021-03-11

  The present invention provides a compound represented by following formula (0):

  本发明提供了以下式（0）表示的化合物。
• COMPOUND, RESIN, COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD AND CIRCUIT PATTERN FORMATION METHOD
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20210070685A1

  公开（公告）日：2021-03-11

  The present invention provides a compound having a specific structure represented by the following formula (0), a resin having a constituent unit derived from the compound, various compositions containing the compound and/or the resin, and various methods using the compositions.

  本发明提供一种具有以下式（0）所代表的特定结构的化合物，具有从该化合物衍生的组分单元的树脂，含有该化合物和/或树脂的各种组合物，以及使用这些组合物的各种方法。
• BENZOXAZINE BLENDS
  申请人：WESTERN WASHINGTON UNIVERSITY

  公开号：US20210147601A1

  公开（公告）日：2021-05-20

  Provided herein are blends of benzoxazine-containing monomers with polymer having one or more leaving groups, such as tosylated polymers (e.g., tosylated polyethylene glycol (PEG)); or blends of benzoxazine-containing monomers with particles/fibers having one or more leaving groups.

  本文提供了含苯并噁嗪单体的混合物，其中与具有一个或多个离去基团的聚合物混合，例如甲苯磺酸基聚合物（例如，甲苯磺酸基聚乙二醇（PEG））；或者含有一个或多个离去基团的颗粒/纤维与含苯并噁嗪单体的混合物。
• Fast-curing benzoxazine compounds
  申请人：Henkel AG & Co. KGaA

  公开号：EP2314579A1

  公开（公告）日：2011-04-27

  The present invention relates to a specific benzoxazine compound A of formula (I), wherein q is an integer from 1 to 4, M is hydrogen, a monovalent cation, or an equivalent of a polyvalent cation, Z is selected from the group consisting of a direct bond (when q is 2), hydrogen (when q is 1), alkyl (when q is 1), alkylene (when q is 2 to 4), carbonyl (when q is 2), oxygen (when q is 2), thiol (when q is 1), sulfur (when q is 2), sulfoxide (when q is 2), and sulfone (when q is 2), R6 is a linear or branched divalent alkylene group, comprising 1 to 15 carbon atoms, which may be interrupted by one or more heteroatom(s), selected from oxygen, nitrogen and sulfur, and R5 is selected from hydrogen, halogen, alkyl, alkenyl or R5 is a divalent residue creating a naphthoxazine residue out of the benzoxazine structure. A further object of the present invention is a polymerizable composition and a cured product obtained from the polymerizable composition, wherein said composition comprises at least one benzoxazine compound A and at least one benzoxazine compound B, which is different from benzoxazine compound A.

  本发明涉及一种特定的苯并噁啉化合物A，其化学式为(I)，其中q为1到4的整数，M为氢、一价阳离子或多价阳离子的等价物，Z选自以下组成的一组：直接键（当q为2时）、氢（当q为1时）、烷基（当q为1时）、烷烃（当q为2到4时）、酰基（当q为2时）、氧（当q为2时）、硫醇（当q为1时）、硫（当q为2时）、亚砜（当q为2时）和砜（当q为2时），R6为线性或支链的二价烷基烷基，包括1到15个碳原子，可以被一个或多个氧、氮和硫等杂原子打断，R5选自氢、卤素、烷基、烯基或R5是一个二价残基，使苯并噁啉结构变为萘噁啉残基。本发明的另一个目的是一种可聚合的组合物和从该可聚合组合物获得的固化产物，其中所述组合物至少包括一种苯并噁啉化合物A和至少一种与苯并噁啉化合物A不同的苯并噁啉化合物B。
• FILM FORMING MATERIAL FOR LITHOGRAPHY, COMPOSITION FOR FILM FORMATION FOR LITHOGRAPHY, UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, AND METHOD FOR FORMING PATTERN
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20210165327A1

  公开（公告）日：2021-06-03

  An object of the present invention is to provide a film forming material for lithography that is applicable to a wet process, and is useful for forming a photoresist underlayer film excellent in heat resistance, etching resistance, embedding properties to a supporting material having difference in level, and film flatness; and the like. The problem described above can be solved by the following film forming material for lithography. A film forming material for lithography comprising: a compound having a group of formula (0A): (In formula (0A), R A is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; and R B is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.); and a compound having a group of formula (0B):

  本发明的目的是提供一种适用于湿法的光刻膜材料，用于形成具有良好耐热性、耐蚀性、嵌入性和膜平整度的光刻胶底层膜，以及支撑材料之间高度差异的问题。以上所述的问题可以通过以下的光刻膜材料来解决。一种光刻膜材料，包括：具有公式（0A）组的化合物：（在公式（0A）中，RA是氢原子或具有1至4个碳原子的烷基；RB是具有1至4个碳原子的烷基。）；以及具有公式（0B）组的化合物：