cis-cyclohexane-1,4-dicarbonitrile | 6550-96-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: cis-cyclohexane-1,4-dicarbonitrile
• 英文别名: trans-1,4-dicyanocyclohexane；cis-1,4-dicyanocyclohexane；cis-cyclohexane-dicarbonitrile-(1.4)；cis-Cyclohexan-dicarbonitril-(1.4)；cis-1,4-Cyclohexandicarbonitril
• CAS: 6550-96-5
• 化学式: C₈H₁₀N₂
• 分子量: 134.181
• InChiKey: MGWYSXZGBRHJNE-OCAPTIKFSA-N

物化性质

• 沸点：
  311.5±35.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.02±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.84
• 重原子数：
  10.0
• 可旋转键数：
  0.0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  47.58
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  2.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  cis-cyclohexane-1,4-dicarbonitrile 在 盐酸 、 乙酸酐 、 铂 作用下， 生成 1,4-Bis-(benzoylaminomethyl)-cyclohexan
  参考文献：
  名称：

  Malachowski; Jankiewicz; Wasowska, Chemische Berichte, 1938, vol. 71, p. 759,760, 764

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  trans-1,4-cyclohexanedicarboxylic acid dichloride 在 伯吉斯试剂 、 氨 作用下， 以 二氯甲烷 、 乙腈 为溶剂， 反应 16.0h， 生成 cis-cyclohexane-1,4-dicarbonitrile
  参考文献：
  名称：

  乙酰辅酶A羧化酶1和2的小分子抑制剂的设计显示了肥胖Zucker大鼠体内肝丙二酰辅酶A水平的降低

  摘要：

  抑制乙酰辅酶A羧化酶具有调节长链脂肪酸生物合成和线粒体脂肪酸氧化的潜力。ACC2弱抑制剂的杂交提供了一个新颖的，中等效力但亲脂的系列。优化产生化合物33和37，它们显示出对人ACC2的有效抑制作用，选择性比对人ACC1的抑制作用高10倍，具有良好的物理和体外ADME性质以及良好的生物利用度。X射线晶体学表明该系列结合在ACC2的CT域中，并揭示了两个关键的氢键相互作用。两个33倍37下部的水平在体内在肥胖Zucker大鼠肝丙二酰-CoA。

  DOI：

  10.1016/j.bmc.2011.04.014

文献信息

• METHOD FOR PRODUCING TRANS-BIS(AMINOMETHYL)CYCLOHEXANE, METHOD FOR PRODUCING BIS(ISOCYANATOMETHYL)CYCLOHEXANE, BIS(ISOCYANATOMETHYL)CYCLOHEXANE, POLYISOCYANATE COMPOSITION, AND POLYURETHANE RESIN
  申请人：MITSUI CHEMICALS, INC.

  公开号：US20160207875A1

  公开（公告）日：2016-07-21

  A method for producing trans-bis(aminomethyl)cyclohexane includes a trans-isomerization step in which cis-dicyanocyclohexane is isomerized into trans-dicyanocyclohexane by heating dicyanocyclohexane containing cis-dicyanocyclohexane in the presence of a tar component produced by distillation of dicyanocyclohexane; and an aminomethylation step in which trans-dicyanocyclohexane produced by the trans-isomerization step is allowed to contact with hydrogen to produce trans-bis(aminomethyl)cyclohexane.

  生产反式-双(氨甲基)环己烷的方法包括以下步骤：在一个反式异构化步骤中，通过加热含有顺-二氰基环己烷的二氰基环己烷，在二氰基环己烷的蒸馏产生的焦油组分的存在下，将顺-二氰基环己烷异构化为反-二氰基环己烷；以及在一个氨甲基化步骤中，通过让通过反式异构化步骤产生的反-二氰基环己烷与氢接触来产生反式-双(氨甲基)环己烷。
• METHOD FOR PRODUCING TRANS-1,4-BIS(AMINOMETHYL) CYCLOHEXANE
  申请人：Yoshimura Naritoshi

  公开号：US20130197270A1

  公开（公告）日：2013-08-01

  A method for producing trans-1,4-bis(aminomethyl)cyclohexane includes a nuclear hydrogenation step of producing a hydrogenated terephthalic acid or terephthalic acid derivative by nuclear hydrogenation of a terephthalic acid or terephthalic acid derivative, the terephthalic acid or terephthalic acid derivative being at least one selected from the group consisting of terephthalic acid, terephthalic acid ester, and terephthalic acid amide; a cyanation step of treating the hydrogenated terephthalic acid or terephthalic acid derivative with ammonia, thereby producing 1,4-dicyanocyclohexane, and producing trans-1,4-dicyanocyclohexane from the obtained 1,4-dicyanocyclohexane; and an aminomethylation step of treating the trans-1,4-dicyanocyclohexane with hydrogen, thereby producing trans-1,4-bis(aminomethyl)cyclohexane. Metal oxide is used as a catalyst in the cyanation step, and the obtained trans-1,4-dicyanocyclohexane has a metal content of 3000 ppm or less.

  生产trans-1,4-双(氨甲基)环己烷的方法包括以下步骤：通过对苯二甲酸或苯二甲酸衍生物进行核氢化反应，生产氢化苯二甲酸或苯二甲酸衍生物，所述苯二甲酸或苯二甲酸衍生物至少选自苯二甲酸、苯二甲酸酯和苯二甲酸酰胺组成的群体；通过将氢化的苯二甲酸或苯二甲酸衍生物与氨处理，从而生产1,4-二氰基环己烷，并从获得的1,4-二氰基环己烷生产trans-1,4-二氰基环己烷；通过将trans-1,4-二氰基环己烷与氢处理，从而生产trans-1,4-双(氨甲基)环己烷。在氰化步骤中使用金属氧化物作为催化剂，获得的trans-1,4-二氰基环己烷金属含量不超过3000 ppm。
• METHOD FOR PRODUCING BIS(AMINOMETHYL)CYCLOHEXANES
  申请人：Yoshimura Naritoshi

  公开号：US20130197269A1

  公开（公告）日：2013-08-01

  A method for producing bis(aminomethyl)cyclohexanes includes a nuclear hydrogenation step of producing hydrogenated phthalic acids or phthalic acid derivatives by nuclear hydrogenation of phthalic acids or phthalic acid derivatives of at least one selected from the group consisting of phthalic acids, phthalic acid esters, and phthalic acid amides; a cyanation step of treating the hydrogenated phthalic acids or phthalic acid derivatives obtained in the nuclear hydrogenation step with ammonia, thereby producing dicyanocyclohexanes; and an aminomethylation step of treating the dicyanocyclohexanes obtained in the cyanation step with hydrogen, thereby producing bis(aminomethyl)cyclohexanes. In the cyanation step, metal oxide is used as a catalyst, and the obtained dicyanocyclohexanes have a metal content of 3000 ppm or less.

  一种生产双(氨甲基)环己烷的方法，包括以下步骤：核氢化步骤，通过对邻苯二甲酸或邻苯二甲酸衍生物进行核氢化，得到氢化的邻苯二甲酸或邻苯二甲酸衍生物，所述邻苯二甲酸或邻苯二甲酸衍生物至少选自邻苯二甲酸、邻苯二甲酸酯和邻苯二甲酸酰胺组成的群体；青化步骤，将在核氢化步骤中获得的氢化邻苯二甲酸或邻苯二甲酸衍生物与氨处理，从而产生二氰基环己烷；氨甲基化步骤，将在青化步骤中获得的二氰基环己烷与氢处理，从而产生双(氨甲基)环己烷。在青化步骤中，使用金属氧化物作为催化剂，所获得的二氰基环己烷的金属含量为3000 ppm或更低。
• CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND WAFER CLEANING COMPOSITION COMPRISING AMIDOXIME COMPOUNDS AND ASSOCIATED METHOD FOR USE
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20090130849A1

  公开（公告）日：2009-05-21

  A composition and associated method for chemical mechanical planarization (or other polishing) is described. The composition contains an amidoxime compound and water. The composition may also contain an abrasive and a compound with oxidation and reduction potential. The composition is useful for attaining improved removal rates for metal, including copper, barrier material, and dielectric layer materials in metal CMP. The composition is particularly useful in conjunction with the associated method for metal CMP applications.

  本文描述了一种化学机械平整化（或其他抛光）的组合物及其相关方法。该组合物含有一种酰胺肟化合物和水。该组合物还可以含有磨料和具有氧化还原潜力的化合物。该组合物可用于在金属CMP中获得改进的金属去除速率，包括铜、屏障材料和金属CMP中的介电层材料。该组合物在金属CMP应用的相关方法中特别有用。
• METHODS OF CLEANING SEMICONDUCTOR DEVICES AT THE BACK END OF LINE USING AMIDOXIME COMOSITIONS
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20100043823A1

  公开（公告）日：2010-02-25

  The present invention relates to aqueous compositions comprising amidoxime compounds and methods for cleaning plasma etch residue from semiconductor substrates including such dilute aqueous solutions. The compositions of the invention may optionally contain one or more other acid compounds, one or more basic compounds, and a fluoride-containing compound and additional components such as organic solvents, chelating agents, amines, and surfactants. The invention also relates to a method of removing residue from a substrate during integrated circuit fabrication.

  本发明涉及含有酰胺肟化合物的水性组合物及其清洗半导体衬底上等离子体刻蚀残留物的方法，包括这种稀释的水性溶液。本发明的组合物可以选择性地含有一种或多种其他酸性化合物、一种或多种碱性化合物、含氟化合物和其他成分，如有机溶剂、螯合剂、胺和表面活性剂。本发明还涉及一种在集成电路制造过程中从衬底上去除残留物的方法。

表征谱图