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N,N'-bis(4-methylpentan-2-yl)ethane-1,2-diamine | 3964-15-6

中文名称
——
中文别名
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英文名称
N,N'-bis(4-methylpentan-2-yl)ethane-1,2-diamine
英文别名
N,N'-Bis-(1,3-dimethyl-butyl)-ethylendiamin;N,N'-bis-(1,3-dimethyl-butyl)-ethylenediamine;N,N'-Bis-(1,3-dimethyl-butyl)-aethylendiamin;1,2-Ethanediamine, N,N'-bis(1,3-dimethylbutyl)-
N,N'-bis(4-methylpentan-2-yl)ethane-1,2-diamine化学式
CAS
3964-15-6
化学式
C14H32N2
mdl
——
分子量
228.421
InChiKey
LCKHBYOSKOUPOT-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.6
  • 重原子数:
    16
  • 可旋转键数:
    9
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    24.1
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    2

安全信息

  • 海关编码:
    2921290000

SDS

SDS:3d134e688cbebebf51f0db8f7a223498
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上下游信息

  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    参考文献:
    名称:
    Schusteritz et al., Arzneimittel-Forschung/Drug Research, 1959, vol. 9, p. 628,629, 632
    摘要:
    DOI:
  • 作为产物:
    描述:
    乙二胺4-甲基-2-戊酮三乙酰氧基硼氢化钠 作用下, 以 二氯甲烷 为溶剂, 反应 20.0h, 以3.774 g的产率得到N,N'-bis(4-methylpentan-2-yl)ethane-1,2-diamine
    参考文献:
    名称:
    [EN] NONIONIC SURFACTANT COMPOSITIONS
    [FR] COMPOSITIONS DE TENSIOACTIFS NON IONIQUES
    摘要:
    本发明提供了非离子表面活性剂,包括这些表面活性剂的组合物,以及制备和使用这些表面活性剂和组合物的相关方法。这些非离子表面活性剂表现出优异的平衡和动态表面张力性能,以及优异的润湿性能。此外,表面活性剂的代表性实施例表现出低起泡特性,表明这些表面活性剂适用于需要抗起泡性能的应用中。这些表面活性剂可以单独使用,也可以根据需要与其他非离子和/或离子表面活性剂组合使用。总体而言,本发明的非离子表面活性剂具有一种结构,其中表面活性剂骨架包括一个或多个胺基团。至少一个,最好是两个或更多的分支、环状、融合环状和/或螺环疏水基团悬挂在至少一个胺基团中。此外,至少一个,最好是两个或更多的亲水基团,最好是烷氧基(即聚醚)链也悬挂在至少一个胺基团中。
    公开号:
    WO2013123153A1
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文献信息

  • [EN] NONIONIC SURFACTANT COMPOSITIONS<br/>[FR] COMPOSITIONS DE TENSIOACTIFS NON IONIQUES
    申请人:DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC
    公开号:WO2013123153A1
    公开(公告)日:2013-08-22
    The present invention provides nonionic surfactants, compositions incorporating these surfactants, and related methods of making and using such surfactants and compositions. The nonionic surfactants demonstrate excellent equilibrium and dynamic surface tension properties as well as excellent wetting properties. Further, representative embodiments of the surfactants have shown low foaming characteristics, indicating that the surfactants would be suitable in applications where resistance to foaming is desired. The surfactants can be used singly or in combination with other nonionic and/or ionic surfactants as desired. As an overview, the nonionic surfactants of the present invention have a structure in which the surfactant backbone includes one or more amine moieties. At least one, preferably two or more branched, cyclic, fused cyclic, and/or spyro hydrophobic moieties are pendant from at least one of the amine moieties. Additionally, at least one, preferably two or more hydrophilic moieties, preferably alkylene oxide (i.e., polyether) chains also are pendant from at least one of the amine moieties.
    本发明提供了非离子表面活性剂,包括这些表面活性剂的组合物,以及制备和使用这些表面活性剂和组合物的相关方法。这些非离子表面活性剂表现出优异的平衡和动态表面张力性能,以及优异的润湿性能。此外,表面活性剂的代表性实施例表现出低起泡特性,表明这些表面活性剂适用于需要抗起泡性能的应用中。这些表面活性剂可以单独使用,也可以根据需要与其他非离子和/或离子表面活性剂组合使用。总体而言,本发明的非离子表面活性剂具有一种结构,其中表面活性剂骨架包括一个或多个胺基团。至少一个,最好是两个或更多的分支、环状、融合环状和/或螺环疏水基团悬挂在至少一个胺基团中。此外,至少一个,最好是两个或更多的亲水基团,最好是烷氧基(即聚醚)链也悬挂在至少一个胺基团中。
  • Crosslinkers for improving stability of polyurethane foams
    申请人:Vedage Gamini Ananda
    公开号:US20080090922A1
    公开(公告)日:2008-04-17
    A composition for making a polyurethane foam includes a non-fugitive tertiary amine urethane catalyst and an alkylated polyamine crosslinking additives. Foams prepared from the reaction of a polyol and an organic isocyanate in the presence of these ingredients show improved resistance to deterioration of physical properties upon humid aging.
    一种制备聚氨酯泡沫的配方包括非挥发性三级胺脲催化剂和烷基化聚胺交联添加剂。在这些成分的存在下,聚醚和有机异氰酸酯反应制备的泡沫在湿度老化时显示出改善的物理性能耐久性。
  • Process solutions containing surfactants
    申请人:AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
    公开号:EP1389746A2
    公开(公告)日:2004-02-18
    Process solutions comprising one or more surfactants are used to reduce the number of defects in the manufacture of semiconductor devices. In certain preferred embodiments, the process solution of the present invention may reduce post-development defects such as pattern collapse when employed as a rinse solution either during or after the development of the patterned photoresist layer. Also disclosed is a method for reducing the number of pattern collapse defects on a plurality of photoresist coated substrates employing the process solution of the present invention.
    包含一种或多种表面活性剂的工艺溶液用于减少半导体器件制造过程中的缺陷数量。在某些优选的实施方案中,本发明的工艺溶液在图案化光刻胶层显影期间或之后用作冲洗溶液时,可减少显影后缺陷,如图案塌陷。本发明还公开了一种采用本发明工艺溶液减少多个光刻胶涂层基底上图案塌陷缺陷数量的方法。
  • Process solutions containing surfactants used as post-chemical mechanical planarization treatment
    申请人:AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
    公开号:EP1530232A2
    公开(公告)日:2005-05-11
    Process solutions comprising one or more surfactants are used to reduce the number of defects in the manufacture of semiconductor devices. In certain preferred embodiments, the process solution of the present invention may reduce defects when employed as a rinse solution either during or after the development of the CMP processing. Also disclosed is a method for reducing the number of defects on a plurality of post-CMP processed substrates employing the process solution of the present invention.
    包含一种或多种表面活性剂的工艺溶液用于减少半导体器件制造过程中的缺陷数量。在某些优选的实施方案中,本发明的工艺溶液在 CMP 加工过程中或加工后作为冲洗溶液使用时,可减少缺陷。此外,还公开了一种采用本发明工艺溶液减少经 CMP 处理后的多个基板上缺陷数量的方法。
  • Compositions and methods using same for flowable oxide deposition
    申请人:AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
    公开号:US10170297B2
    公开(公告)日:2019-01-01
    Described herein are compositions or formulations for forming a film in a semiconductor deposition process, such as without limitation, a flowable chemical vapor deposition of silicon oxide. Also described herein is a method to improve the surface wetting by incorporating an acetylenic alcohol or diol surfactant such as without limitation 3,5-dimethyl-1-hexyn-3-ol, 2,4,7,9-tetramethyl-5-decyn-4,7-diol, 4-ethyl-1-octyn-3-ol, and 2,5-dimethylhexan-2,5-diol, and other related compounds.
    本文描述了用于在半导体沉积工艺中形成薄膜的组合物或配方,例如但不限于氧化硅的可流动化学气相沉积。本文还描述了一种通过加入乙炔醇或二元醇表面活性剂(如但不限于 3,5-二甲基-1-己炔-3-醇、2,4,7,9-四甲基-5-癸炔-4,7-二醇、4-乙基-1-辛炔-3-醇和 2,5-二甲基己-2,5-二醇及其他相关化合物)来改善表面润湿性的方法。
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