4,5-diphenyl-4,5-dihydro-oxazole | 339554-36-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯丙烷和聚酮 - 二苯乙烯类
• 英文名称: 4,5-diphenyl-4,5-dihydro-oxazole
• 英文别名: 4,5-Diphenyl-2-oxazolin；4,5-Diphenyl-4,5-dihydro-1,3-oxazole
• CAS: 339554-36-8
• 化学式: C₁₅H₁₃NO
• 分子量: 223.274
• InChiKey: JQSHDJRJMNIIKX-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  341.8±52.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.11±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.13
• 拓扑面积：
  21.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4,5-diphenyl-4,5-dihydro-oxazole 、 苯甲醛 生成 (4,5-diphenyl-4,5-dihydro-oxazol-2-yl)-phenyl-methanol
  参考文献：
  名称：

  Schoellkopf,U. et al., Justus Liebigs Annalen der Chemie, 1976, p. 183 - 202

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  苄胺 在 sodium hydroxide 、 苄基三乙基氯化铵 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 生成 4,5-diphenyl-4,5-dihydro-oxazole
  参考文献：
  名称：

  Schoellkopf,U. et al., Justus Liebigs Annalen der Chemie, 1976, p. 183 - 202

  摘要：

  DOI：

文献信息

• A cooperative water effect in proazaphosphatrane-catalysed heterocycle synthesis
  作者：Mark A. Honey、Yasuhiro Yamashita、Shū Kobayashi

  DOI：10.1039/c3cc49808e

  日期：——

  Water activated isocyanide is deprotonated by the organosuperbase proazaphosphatrane; no deprotonation of water could be observed.

  水活化异氰酸酯被有机超碱丙磷胺去质子化；未观察到水的去质子化。
• RESIST UNDERLAYER FILM COMPOSITION, PATTERNING PROCESS, AND METHOD FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20180284615A1

  公开（公告）日：2018-10-04

  Provided is a resist underlayer film composition which is excellent in resistance to a basic hydrogen peroxide aqueous solution, in gap-filling and planarization characteristics, and in dry etching characteristic, wherein the resist underlayer film composition is used for a multilayer resist method, comprising: (A1) a polymer (1A) comprising one, or two or more, of a repeating unit represented by following general formula (1); (A2) one, or two or more, of a polyphenol compound having a formula weight of 2,000 or less and not having a 3,4-dihydroxy phenyl group; and (B) an organic solvent.

  提供了一种抗碱性过氧化氢水溶液、填孔和平坦化特性以及干法蚀刻特性优异的抗蚀底层膜组合物，该抗蚀底层膜组合物用于多层光刻方法，包括：（A1）聚合物（1A），其包括由以下通式（1）表示的重复单元中的一个或两个或多个；（A2）一种或两种或多种分子量不超过2000且不具有3,4-二羟基苯基的多酚化合物；和（B）有机溶剂。
• Thermoplastic resin composition
  申请人：NIPPON NYUKAZAI CO., LTD.

  公开号：US10113049B2

  公开（公告）日：2018-10-30

  [Problem] Provided is a thermoplastic resin composition excellent in weather resistance. [Solution] A thermoplastic resin composition containing (a) a thermoplastic resin and (b) an ionically bonded salt represented by the following Chemical Formula (1) or (2): in the Chemical Formulae (1) and (2) above, R1 and R2 each independently represent a substituted or unsubstituted linear, branched, or cyclic alkyl group having from 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having from 6 to 30 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted arylalkyl group having from 7 to 31 carbon atoms, A is a linear or branched alkylene group having from 2 to 4 carbon atoms, n represents an integer of 0 to 50, Q1 and Q2 each independently represent at least one kind selected from the group consisting of an ammonium ion, an imidazolium ion, a pyridinium ion, a pyrrolidinium ion, a pyrrolinium ion, a piperidinium ion, a pyrazinium ion, a pyrimidinium ion, a triazolium ion, a triazinium ion, a quinolinium ion, an isoquinolinium ion, an indolinium ion, a quinoxalinium ion, a piperazinium ion, an oxazolinium ion, a thiazolinium ion, and a morpholinium ion.

  [问题]提供一种耐候性优异的热塑性树脂组合物。 [解决方案] 一种热塑性树脂组合物，含有 (a) 热塑性树脂和 (b) 由以下化学式（1）或（2）表示的离子键盐： 在上述化学式（1）和（2）中，R1 和 R2 各自独立地代表具有 1 至 30 个碳原子的取代或 未取代的直链、支链或环状烷基、具有 6 至 30 个碳原子的取代或未取代的芳基或具有 7 至 31 个碳原子的取代或未取代的芳烷基，A 是具有 2 至 4 个碳原子的直链或支链亚烷基，n 代表 0 至 50 的整数、Q1 和 Q2 各自独立地代表至少一种选自以下组成的组的物质：铵离子、咪唑鎓离子、吡啶鎓离子、吡咯烷鎓离子、吡咯烷鎓离子、哌啶鎓离子、吡嗪鎓离子嘧啶鎓离子、三唑鎓离子、三嗪鎓离子、喹啉鎓离子、异喹啉鎓离子、吲哚鎓离子、喹喔啉鎓离子、哌嗪鎓离子、噁唑啉鎓离子、噻唑啉鎓离子和吗啉鎓离子。
• Resist underlayer film composition, patterning process, and method for forming resist underlayer film
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US10241412B2

  公开（公告）日：2019-03-26

  Provided is a resist underlayer film composition which is excellent in resistance to a basic hydrogen peroxide aqueous solution, in gap-filling and planarization characteristics, and in dry etching characteristic, wherein the resist underlayer film composition is used for a multilayer resist method, comprising: (A1) a polymer (1A) comprising one, or two or more, of a repeating unit represented by following general formula (1); (A2) one, or two or more, of a polyphenol compound having a formula weight of 2,000 or less and not having a 3,4-dihydroxy phenyl group; and (B) an organic solvent.

  本发明提供了一种抗蚀剂底层薄膜组合物，该组合物具有优异的抗碱性过氧化氢水溶液性能、间隙填充和平面化特性以及干蚀刻特性，其中该抗蚀剂底层薄膜组合物用于多层抗蚀剂方法，该抗蚀剂底层薄膜组合物包括：(A1) 聚合物 (1A)，包括一个或两个或两个以上由以下通式 (1) 代表的重复单元；(A2) 一个或两个或两个以上的多酚化合物，其式重为 2,000 或以下，且不具有 3,4- 二羟基苯基；以及 (B) 有机溶剂。
• SCHOELLKOPF U.; GERHART F.; HOPPE I.; HARMS R.; HANTKE K.; SCHEUNEMANN K.+, J. LIEBIGS ANN. CHEM. <JLAC-BF>, 1976, NO 1, 183-202
  作者：SCHOELLKOPF U.、 GERHART F.、 HOPPE I.、 HARMS R.、 HANTKE K.、 SCHEUNEMANN K.+

  DOI：——

  日期：——