N-(3-benzenesulfonyl-propyl)-phthalimide | 85053-11-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 异吲哚及其衍生物
• 英文名称: N-(3-benzenesulfonyl-propyl)-phthalimide
• 英文别名: N-(3-Benzolsulfonyl-propyl)-phthalimid；2-[3-(Phenylsulfonyl)propyl]-1H-isoindole-1,3-(2H)dione；2-[3-(Benzenesulfonyl)propyl]isoindole-1,3-dione
• CAS: 85053-11-8
• 化学式: C₁₇H₁₅NO₄S
• 分子量: 329.376
• InChiKey: IVQKVVQRGGUTJX-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.8
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.18
• 拓扑面积：
  79.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-(3-(phenylthio)propyl)isoindoline-1,3-dione 生成 N-(3-benzenesulfonyl-propyl)-phthalimide
  参考文献：
  名称：

  SHANKLIN, JAMES R. , JR.;JOHNSON, CHRISTOPHER P. , III

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Photochemical generation of radicals from alkyl electrophiles using a nucleophilic organic catalyst
  作者：Bertrand Schweitzer-Chaput、Matthew A. Horwitz、Eduardo de Pedro Beato、Paolo Melchiorre

  DOI：10.1038/s41557-018-0173-x

  日期：2019.2

  extensively use free radical reactivity for applications in organic synthesis, materials science, and life science. Traditionally, generating radicals requires strategies that exploit the bond dissociation energy or the redox properties of the precursors. Here, we disclose a photochemical catalytic approach that harnesses different physical properties of the substrate to form carbon radicals. We use a nucleophilic

  化学家在有机合成，材料科学和生命科学中广泛使用自由基反应性。传统上，产生自由基需要利用键解离能或前体的氧化还原特性的策略。在这里，我们公开了一种光化学催化方法，该方法利用了基材的不同物理特性来形成碳自由基。我们使用亲核性的二硫代氨基甲酸酯阴离子催化剂，配以量身定制的发色单元，以通过S N 2途径活化烷基亲电体。所得的吸收光子的中间体在由可见光诱导的均相裂解时提供自由基。此催化性S N基于2的策略利用了离子化学的基本机理过程，可以从各种底物中获得与经典自由基生成策略不兼容或惰性的开壳中间体的访问权限。我们还描述了该方法温和的反应条件和较高的官能团耐受性如何有利于开发C–C键形成反应，简化市售药物的制备，生物相关化合物的后期精制以及对映选择性自由基催化。
• N-(arylthioalkyl)-N'-(aminoalkyl)ureas
  申请人：A. H. Robins Company, Incorporated

  公开号：US04597902A1

  公开（公告）日：1986-07-01

  N-(arylthioalkyl)-N'-(aminoalkyl)ureas and thioureas and oxidation derivatives having the formula ##STR1## wherein B is thio, sulfinyl or sulfonyl; R.sup.1 and R.sup.2 are hydrogen, loweralkyl, cycloalkyl, 2-furanyl, phenyl, substituted phenyl or phenyl-loweralkyl and R.sup.3 and R.sup.4 are hydrogen, loweralkyl, phenyl or phenyl-loweralkyl wherein phenyl is optionally substituted, or R.sup.3 and R.sup.4 taken with the adjacent nitrogen form a heterocyclic residue.

  N-(芳基硫代烷基)-N'-(氨基烷基)脲和硫脲以及具有以下结构式的氧化衍生物 其中B为硫、亚硫酰基或磺酰基；R.sup.1和R.sup.2为氢、较低烷基、环烷基、2-呋喃基、苯基、取代苯基或苯基-较低烷基，R.sup.3和R.sup.4为氢、较低烷基、苯基或苯基-较低烷基，其中苯基可选择性地取代，或R.sup.3和R.sup.4与相邻的氮形成杂环残基。
• Gabriel; Colman, Chemische Berichte, 1911, vol. 44, p. 3632
  作者：Gabriel、Colman

  DOI：——

  日期：——
• SHANKLIN, JAMES R. , JR.;JOHNSON, CHRISTOPHER P. , III
  作者：SHANKLIN, JAMES R. , JR.、JOHNSON, CHRISTOPHER P. , III

  DOI：——

  日期：——
• US4597902A
  申请人：——

  公开号：US4597902A

  公开（公告）日：1986-07-01