| 1552284-30-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 苯并恶唑类
• CAS: 1552284-30-6
• 化学式: C₂₀H₃₂NO*I
• 分子量: 429.385
• InChiKey: PWVNPURJKIWFFI-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.95
• 重原子数：
  23.0
• 可旋转键数：
  11.0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.65
• 拓扑面积：
  17.02
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  1.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  在 吡啶 作用下， 生成 1,1'-didodecylbenzoxazolium carbocyanine bis(perfluorobutylsulfonyl)imide
  参考文献：
  名称：

  液态花菁染料的调查，荧光光谱和溶解度†

  摘要：

  我们合成了四种液体花青染料，分别是N，N'-二十二烷基44，N，N'-二十八烷基吲哚45，N，N'-双（2,5,8-三恶唑-10-十八烷基）苯并恶唑50和苯并噻唑鎓51，其具有双（全氟丁基磺酰基）酰亚胺阴离子。以纯净的形式，这些液体染料在-196°C处比在25°C下表现出更强的荧光。液态的N，N'-二烷基化的吲哚衍生物44和45在己烷中的溶解度大于相应的固态衍生物。另外，液态氮，N′-双（2,5,8-三氧杂-10-十八烷基）苯并恶唑鎓和苯并噻唑鎓衍生物50和51比相应的固体衍生物更易溶于丙醇。

  DOI：

  10.1039/c6nj02160c
• 作为产物：
  描述：

  2-甲基苯并唑 、 1-碘十二烷 以 氯仿 为溶剂， 反应 48.0h， 以22%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  液态花菁染料的调查，荧光光谱和溶解度†

  摘要：

  我们合成了四种液体花青染料，分别是N，N'-二十二烷基44，N，N'-二十八烷基吲哚45，N，N'-双（2,5,8-三恶唑-10-十八烷基）苯并恶唑50和苯并噻唑鎓51，其具有双（全氟丁基磺酰基）酰亚胺阴离子。以纯净的形式，这些液体染料在-196°C处比在25°C下表现出更强的荧光。液态的N，N'-二烷基化的吲哚衍生物44和45在己烷中的溶解度大于相应的固态衍生物。另外，液态氮，N′-双（2,5,8-三氧杂-10-十八烷基）苯并恶唑鎓和苯并噻唑鎓衍生物50和51比相应的固体衍生物更易溶于丙醇。

  DOI：

  10.1039/c6nj02160c

文献信息

• High-Performance Organic Thin-Film Transistors of J-Stacked Squaraine Dyes
  作者：Marcel Gsänger、Eva Kirchner、Matthias Stolte、Christian Burschka、Vladimir Stepanenko、Jens Pflaum、Frank Würthner

  DOI：10.1021/ja409496r

  日期：2014.2.12

  solution-sheared OTFTs of selenium squaraine bearing dodecyl substituents (denoted as Se-SQ-C12) performed best with a maximum hole mobility of 0.45 cm(2) V(-1) s(-1), which is by far the highest value yet reported for OTFTs based on squaraines. This value was even surpassed by vacuum-deposited thin films of n-butyl-substituted selenium squaraine Se-SQ-C4, the only sublimable compound in this series, exhibiting

  我们合成了一系列偶极方酸菁染料，这些染料含有双氰基乙烯基作为受体，并以不同长度的烷基链作为供体部分的苯并环化五元环杂环。基于这些方酸，通过旋涂和溶液剪切制造薄膜晶体管（TFT）。此外，还使用这些方酸衍生物之一制备了真空沉积的 TFT。我们的详细研究表明，目前系列方酸的晶体管性能在很大程度上取决于它们的结构特征以及薄膜的加工方法。因此，带有十二烷基取代基的硒方酸的溶液剪切 OTFT（表示为 Se-SQ-C12）表现最佳，最大空穴迁移率为 0.45 cm(2) V(-1) s(-1)，这是迄今为止迄今为止报告的基于方酸的 OTFT 的最高值。该值甚至被真空沉积的正丁基取代的硒方酸硒 Se-SQ-C4 薄膜所超越，这是该系列中唯一的可升华化合物，其空穴迁移率为 1.3 cm(2) V(-1) s (-1)。此外，我们通过光谱学、原子力显微镜和 X 射线衍射研究了薄膜的形态和这些方酸染料的分子堆积