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2,2-difluoro-3-hydroxy-5-methylhexanoic acid | 1248009-70-2

中文名称
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中文别名
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英文名称
2,2-difluoro-3-hydroxy-5-methylhexanoic acid
英文别名
——
2,2-difluoro-3-hydroxy-5-methylhexanoic acid化学式
CAS
1248009-70-2
化学式
C7H12F2O3
mdl
——
分子量
182.167
InChiKey
YZSBYFDDBFWMDT-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.5
  • 重原子数:
    12
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.86
  • 拓扑面积:
    57.5
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    5

上下游信息

  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    2,2-difluoro-3-hydroxy-5-methylhexanoic acid对甲苯磺酸一水合物 作用下, 以 乙醇 为溶剂, 以85%的产率得到ethyl 2,2-difluoro-3-hydroxy-5-methylhexanoate
    参考文献:
    名称:
    Fluorinated ester monomer, making method, fluorinated ester polymer, and difluorohydroxycarboxylic acid
    摘要:
    提供一种具有公式(1)的氟化酯单体,其中R1为H、CH3或CF3,R2和R3为H或单价烃基,或R2和R3形成烃环,R4为单价烃基,k为0或1。从该单体获得的聚合物具有对波长高达200纳米的辐射透明度和适当的碱性水解性能,其结构可以通过选择进行任何的防水性、水滑性和表面分离调整,并且在形成ArF浸没光刻材料方面非常有用。
    公开号:
    US08697903B2
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文献信息

  • FLUORINATED ESTER MONOMER, MAKING METHOD, FLUORINATED ESTER POLYMER, AND DIFLUOROHYDROXYCARBOXYLIC ACID
    申请人:KINSHO Takeshi
    公开号:US20120083580A1
    公开(公告)日:2012-04-05
    A fluorinated ester monomer is provided having formula (1) wherein R 1 is H, CH 3 or CF 3 , R 2 and R 3 are H or a monovalent hydrocarbon group, or R 2 and R 3 forms a hydrocarbon ring, R 4 is a monovalent hydrocarbon group, and k is 0 or 1. A polymer obtained from the monomer has transparency to radiation with a wavelength of up to 200 nm and appropriate alkaline hydrolysis, is constructed such that any of water repellency, water slip and surface segregation may be adjusted by a choice of its structure, and is useful in forming ArF immersion lithography materials.
    提供了一种单体,其化学式为(1),其中R1为H、CH3CF3,R2和R3为H或单价基团,或R2和R3形成环,R4为单价基团,k为0或1。从该单体中获得的聚合物具有对波长达200纳米的辐射透明度和适当的碱性解性,其结构可以通过选择来调节任何的防性、滑性和表面分离性,可用于制备ArF浸没光刻材料。
  • ONIUM SALT, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
    申请人:Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
    公开号:US20220127225A1
    公开(公告)日:2022-04-28
    An onium salt having formula (1) serving as an acid diffusion inhibitor and a chemically amplified resist composition comprising the acid diffusion inhibitor are provided. When processed by lithography, the resist composition forms a pattern having minimal defects and excellent lithography performance factors such as CDU, LWR and DOF.
    提供一种化学式为(1)的盐类,作为酸扩散抑制剂,并提供一种化学增强型光刻胶组合物,其中包括该酸扩散抑制剂。当通过光刻技术进行加工时,该光刻胶组合物形成的图案具有最小的缺陷和出色的光刻性能因子,如CDU、LWR和DOF。
  • Novel peptidase inhibitors
    申请人:MERRELL DOW PHARMACEUTICALS INC.
    公开号:EP0195212A2
    公开(公告)日:1986-09-24
    This invention relates to analogs of peptidase substrates in which the amide group containing the scissile amide bond of the substrate peptide has been replaced by an activated electrophilic ketone moiety. These analogs of the peptidase substrates provide specific enzyme inhibitors for a variety of proteases, the inhibition of which will have useful physiological consequences in a variety of disease states.
    本发明涉及肽酶底物的类似物,在这些类似物中,含有底物肽的巯基酰胺键的酰胺基团已被活化的亲电分子取代。这些肽酶底物类似物为多种蛋白酶提供了特异性酶抑制剂,其抑制作用将对多种疾病产生有益的生理影响。
  • US5496927A
    申请人:——
    公开号:US5496927A
    公开(公告)日:1996-03-05
  • US5849866A
    申请人:——
    公开号:US5849866A
    公开(公告)日:1998-12-15
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