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1-hexoxy-3,5-bis(trimethylsilyl)benzene | 569672-64-6

中文名称
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中文别名
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英文名称
1-hexoxy-3,5-bis(trimethylsilyl)benzene
英文别名
(3-hexoxy-5-trimethylsilylphenyl)-trimethylsilane
1-hexoxy-3,5-bis(trimethylsilyl)benzene化学式
CAS
569672-64-6
化学式
C18H34OSi2
mdl
——
分子量
322.638
InChiKey
AXYXXCKBCXBCAS-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.74
  • 重原子数:
    21
  • 可旋转键数:
    8
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.67
  • 拓扑面积:
    9.2
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    1-hexoxy-3,5-bis(trimethylsilyl)benzene一氯化碘 作用下, 以 二氯甲烷 为溶剂, 以93%的产率得到1,3-diiodo-5-hexoxybenzene
    参考文献:
    名称:
    具有三联吡啶单元的形状持久性大环化合物:晶体中的合成、表征和结构
    摘要:
    描述了具有一个 (1a-d, 2) 或两个 (相对的) 三联吡啶单元 (3, 4, 5a-c) 和内径高达 2 nm 的各种形状持久性大环的合成。这些序列主要基于过渡金属交叉偶联反应,并在适当的时候就它们各自的效率相互比较。典型的总产率和制备量范围分别为 8% (4) 至 27% (3) 和 25 mg (1a) 至 290 mg (1b)。对于目标循环的溶解性和加工,所有前体都已经用柔性侧链(己氧基或己氧基甲基)修饰。循环的表征基于 MALDI-TOF 质谱、2D 核磁共振光谱和/或低温单晶 X 射线衍射。它们在晶体中的堆积是根据侧链的数量和长度来讨论的。循环 1d 在溶液-HOPG 界面被物理吸附成有序结构,并通过扫描隧道显微镜 (STM) 进行研究。
    DOI:
    10.1021/ja034029p
  • 作为产物:
    描述:
    溴己烷正丁基锂18-冠醚-6potassium carbonate 作用下, 以 乙醚正己烷 为溶剂, 反应 19.5h, 生成 1-hexoxy-3,5-bis(trimethylsilyl)benzene
    参考文献:
    名称:
    具有三联吡啶单元的形状持久性大环化合物:晶体中的合成、表征和结构
    摘要:
    描述了具有一个 (1a-d, 2) 或两个 (相对的) 三联吡啶单元 (3, 4, 5a-c) 和内径高达 2 nm 的各种形状持久性大环的合成。这些序列主要基于过渡金属交叉偶联反应,并在适当的时候就它们各自的效率相互比较。典型的总产率和制备量范围分别为 8% (4) 至 27% (3) 和 25 mg (1a) 至 290 mg (1b)。对于目标循环的溶解性和加工,所有前体都已经用柔性侧链(己氧基或己氧基甲基)修饰。循环的表征基于 MALDI-TOF 质谱、2D 核磁共振光谱和/或低温单晶 X 射线衍射。它们在晶体中的堆积是根据侧链的数量和长度来讨论的。循环 1d 在溶液-HOPG 界面被物理吸附成有序结构,并通过扫描隧道显微镜 (STM) 进行研究。
    DOI:
    10.1021/ja034029p
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