4-Phenoxathiin-10-ium-10-ylphenol | 47124-90-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 苯并噻嗪类
• 英文名称: 4-Phenoxathiin-10-ium-10-ylphenol
• CAS: 47124-90-3
• 化学式: C₁₈H₁₃O₂S
• 分子量: 293.366
• InChiKey: PHPCQMHKZDKELT-UHFFFAOYSA-O

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.8
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  30.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  吩恶噻 、 苯酚 以 乙腈 为溶剂， 生成 4-Phenoxathiin-10-ium-10-ylphenol 、
  参考文献：
  名称：

  熔融液滴电喷雾电离质谱法研究常温下长寿命吩恶噻英自由基阳离子与脂肪醇、苯酚和卤代苯的反应

  摘要：

  通过使用熔融液滴电喷雾电离质谱法，在环境条件下吩恶硫因自由基阳离子与多种有机化合物的反应得以实现。在研究中，吩恶噻英自由基阳离子是通过电喷雾电离制备的。反应物包括脂肪醇、苯酚和苯基卤化物，反应研究表明吩恶噻英自由基阳离子在环境条件下对中性有机化合物具有独特的反应性，这在以前的研究中没有揭示。

  DOI：

  10.1255/ejms.1136

文献信息

• SALT, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160052877A1

  公开（公告）日：2016-02-25

  A salt represented by the formula (I); wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, L b1 represents a single bond or a divalent C 1 to C 24 saturated hydrocarbon groupwhere a methylene group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group and where a hydrogen atom may be replaced by a hydroxyl group or a fluorine atom, and Y represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or an optionally substituted C 3 to C 18 alicyclic hydrocarbon groupwhere a methylene group may be replaced by an oxygen atom, a carbonyl group or a sulfonyl group; and Ar represents a divalent C 6 to C 20 aromatic hydrocarbon group, and Z + represents an organic sulfonium cation or an organic iodonium cation.

  根据您的要求，以下是化合物的中文翻译： 由公式(I)表示的盐； 其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子或一个C1至C6的过氟代烷基团，Lb1代表一个单键或一个二价的C1至C24的饱和烃基团，其中甲基烯基团可以被一个氧原子或一个羰基团所取代，并且其中氢原子可以被一个羟基或一个氟原子所取代，并且Y代表一个氢原子，一个氟原子，或一个可选地被取代的C3至C18的芳环烃基团，其中甲基烯基团可以被一个氧原子，一个羰基团或一个磺酰基团所取代；并且Ar代表一个二价的C6至C20的芳香烃基团，以及Z+代表一个有机硫正离子或一个有机碘正离子。
• SALT, ACID GENERATOR, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160200702A1

  公开（公告）日：2016-07-14

  A salt represented by the formula (I): wherein R 1 represents a C1 to C12 alkyl group in which a methylene group can be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group; Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1 to C6 perfluoroalkyl group; A 1 represents a lactone ring-containing group which has 4 to 24 carbon atoms; R 2 represents an acid-labile group; and “m” represents an integer of 0 to 3.

  由公式(I)表示的盐： 其中 R1 代表一个C1至C12的烷基，其中一个亚甲基基团可以被一个氧原子或一个羰基团所取代； Q1 和 Q2 各自独立地代表一个氟原子或一个C1至C6的全氟烷基团； A1 代表一个含有内酯环的基团，该基团有4到24个碳原子； R2 代表一个酸不稳定的基团；并且 “m”代表一个0到3之间的整数。
• COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160130210A1

  公开（公告）日：2016-05-12

  A compound represented by formula (I), a resin including a structural unit derived from the compound and a resist composition including the resin: wherein R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C 1 to C 6 alkyl group in which a hydrogen atom may be replaced by a halogen atom, R 2 represents a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group or *—CHR f1 R f2 , * represents a binding site to a carbonyl group, R f1 and R f2 each independently represent a C 1 to C 4 perfluoroalkyl group or R f1 and R f2 may be bonded together with a carbon atom bonded thereto to form a ring, A 1 represents a single bond, a C 1 to C 6 alkanediyl group or **-A 3 -X 1 -(A 4 -X 2 ) a -(A 5 ) b -, ** represents a binding site to an oxygen atom, A 2 , A 3 , A 4 and A 5 each independently represent a C 1 to C 6 alkanediyl group, X 1 and X 2 each independently represent —O—, —CO—O— or —O—CO—, a and b each represent 0 or 1, and W 1 represents a C 5 to C 18 divalent alicyclic hydrocarbon group.

  化合物的化学式为（I），包括从该化合物衍生的结构单元的树脂和包括该树脂的抗蚀组合物： 其中R 1 代表氢原子、卤素原子或C 1 到C 6 烷基基团，其中氢原子可以被卤素原子取代，R 2 代表C 1 到C 6 全氟烷基基团或*—CHR f1 R f2 ，*代表与羰基结合位点，R f1 和R f2 各自独立代表C 1 到C 4 全氟烷基基团或R f1 和R f2 可以与结合在一起的碳原子形成环，A 1 代表单键，C 1 到C 6 烷二基基团或**-A 3 -X 1 -(A 4 -X 2 ) a -(A 5 ) b -，**代表与氧原子结合位点，A 2 、A 3 、A 4 和A 5 各自独立代表C 1 到C 6 烷二基基团，X 1 和X 2 各自独立代表—O—、—CO—O—或—O—CO—，a和b各自代表0或1，W 1 代表C 5 到C 18 的二价脂环烃基团。
• NON-IONIC COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160145186A1

  公开（公告）日：2016-05-26

  A compound which is non-ionic compound, the compound has a group represented by formula (Ia): wherein R 2 represents a group having a C 3 to C 18 alicyclic hydrocarbon group where a methylene group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group, Rf 1 and Rf 2 each independently represent a C 1 to C 4 perfluoroalkyl group, and * represents a binding site.

  一种非离子化合物，该化合物具有由式(Ia)表示的基团：其中R2代表具有C3到C18脂环烃基团的基团，其中亚甲基基团可以被氧原子或羰基取代，Rf1和Rf2分别独立地代表C1到C4全氟烷基基团，*代表一个结合位点。
• COMPOUND, RESIN AND PHOTORESIST COMPOSITION
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160244400A1

  公开（公告）日：2016-08-25

  A compound represented by formula (I): wherein R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group where a hydrogen atom can be replaced by a halogen atom, L 1 represents a C1-C8 fluorinated alkanediyl group, X 1 represents *—CO—O—, *—O—CO—, *—O—CO—O— or *—O— where * represents a binding site to L 1 , and R 2 represents a C1-C18 hydrocarbon group in which a methylene group can be replaced by an oxygen atom, a carbonyl group or a sulfonyl group and in which a hydrogen atom can be replaced by a hydroxy group, or in which two hydrogen atoms can be each replaced by an oxygen atom forming one ketal structure together with a C1-C8 alkanediyl group bonded to the oxygen atom and a hydrogen atom in said ketal structure can be replaced by a fluorine atom.

  化合物的化学式（I）表示如下： 其中，R1代表氢原子、卤素原子或C1-C6烷基，其中氢原子可以被卤素原子取代，L1代表C1-C8氟代烷二基基团，X1代表*—CO—O—、*—O—CO—、*—O—CO—O—或*—O—，其中*代表与L1结合位点，R2代表C1-C18烃基团，其中亚甲基基团可以被氧原子、羰基团或磺酰基团取代，其中氢原子可以被羟基取代，或其中两个氢原子可以分别被氧原子取代，与氧原子结合形成一个与氧原子结合的C1-C8烷二基基团一起形成一个缩醛结构，所述缩醛结构中的氢原子可以被氟原子取代。