摘要:
已确定基态 Si/sup +/(/sup 2/P) 离子与氨和胺 (CH/sub 3/)/sub x/NH/sub 3 的气相反应的速率常数和产物分布-x/ (x = 1-3) 在 296 +- 2 K 下使用选择离子流管技术。观察到所有反应都很快,可以理解为 Si/sup +/ 插入 NH 和 CN 键以形成 SiNR/sub 1/R/sub 2//sup +/ (r/sub 1 /, R/sub 2/ = H, CH/sub 3/) 与氢阴离子转移竞争(在胺的情况下)形成 CH/sub 2/NR/sub 1/R/ 类型的亚铵离子sub 2//sup +/ (R/sub 1/, R/sub 2/ = H, CH/sub 3/)。CN 键插入似乎比 NH 键插入更有效。氢化物离子转移的贡献随着亚铵离子稳定性的增加而增加。后一个反应直接导致 SiH 作为中性产物。观察到直接或间接导致SiCH和SiCH/sub