| 1420559-72-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 酚类
• CAS: 1420559-72-3
• 化学式: C₅₂H₅₆O₁₂
• 分子量: 873.009
• InChiKey: VNKXCXUALNYJGA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  10.42
• 重原子数：
  64.0
• 可旋转键数：
  4.0
• 环数：
  9.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.38
• 拓扑面积：
  242.76
• 氢给体数：
  12.0
• 氢受体数：
  12.0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  间苯三酚 、 3-环己烯甲醛 以 乙醇 、 水 为溶剂， 以80.3%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  New calix[4]arene derivatives as maskless and development-free laser thermal lithography materials for fabricating micro/nano-patterns

  摘要：

  过去的 40 年见证了光刻技术的飞速发展。该领域的新技术层出不穷。一种工艺步骤简单、成本低、产出高的技术一直是业界梦寐以求的目标。本文提出了一种以两种新的钙钛矿[4]炔衍生物为抗蚀剂的无掩模、免显影光刻方法。通过这种方法，可以用简单的工艺、较短的时间和相对较低的成本制造出微/纳米图案结构。要实现这一目标，抗蚀剂材料必须满足一定的要求，而文献中涉及该方法的论文很少，因为一般的抗蚀剂无法满足所有要求。为了满足这些要求，我们选择了两种经过设计和优化分子结构的钙[4]炔衍生物作为抗蚀剂，它们因分子结构不同而表现出不同的性能。使用两种钙[4]炔衍生物薄膜，即 TCHC 和 THMC 薄膜，通过直接激光写入光刻法获得凹凸图案结构。基于激光诱导热效应，通过直接蒸发 TCHC 薄膜，在 TCHC 薄膜上形成凹形图案结构，而由于可塑性的增强，在 THMC 薄膜上形成凸形图案结构。

  DOI：

  10.1039/c3tc00274h