合成了一系列甲基取代的环庚-2-烯基三甲基锡和三甲基硅烷,并通过1 H,13 C和119 Sn(或29 Si)nmr光谱表征。讨论了其中一些化合物的关键构象特征。这些锡烷和硅烷的酸解反应(使用CF 3 COOD)可以干净地进行,以提供2 H取代的甲基环庚烯,这是由于亲电子的烯丙基重排(即区域特异性γ攻击)引起的(S E ')。对甲基环庚烯的2 H nmr光谱进行详细检查,建立了高度优选的γ-抗(如果不是特异性的话)亲电传递模式。因此,该γ-抗-S E '方法可以形成有时在用于功能化的笨拙的环系统中的合成有用的应用的基础。