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4,4,4-三羟基三甲苯 | 603-44-1

中文名称
4,4,4-三羟基三甲苯
中文别名
4,4',4''-亚甲基三苯酚;4,4’,4’’-亚甲基三苯酚;4,4',4''-三羟基三甲苯;4,4,4-亚甲基三苯酚
英文名称
4,4',4''-methylidynetrisphenol
英文别名
4,4',4''-trihydroxytriphenylmethane;4,4',4''-Methanetriyltriphenol;4-[bis(4-hydroxyphenyl)methyl]phenol
4,4,4-三羟基三甲苯化学式
CAS
603-44-1;25639-41-2
化学式
C19H16O3
mdl
MFCD00191589
分子量
292.334
InChiKey
WFCQTAXSWSWIHS-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 熔点:
    247 °C
  • 沸点:
    503.8±45.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.282±0.06 g/cm3(Predicted)
  • 溶解度:
    溶于甲醇

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.9
  • 重原子数:
    22
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    3.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.052
  • 拓扑面积:
    60.7
  • 氢给体数:
    3
  • 氢受体数:
    3

安全信息

  • 危险性防范说明:
    P305+P351+P338
  • 危险性描述:
    H315,H319

SDS

SDS:e8edc098c6a3cefc4500e9bc6fee8336
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上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量
  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    4,4,4-三羟基三甲苯硫酰氟三乙胺 作用下, 以 二氯甲烷 为溶剂, 反应 12.0h, 以93%的产率得到1-[Bis(4-fluorosulfonyloxyphenyl)methyl]-4-fluorosulfonyloxybenzene
    参考文献:
    名称:
    高分子凝胶用单体及高分子凝胶与制备方法
    摘要:
    本发明公开了高分子凝胶用单体及高分子凝胶与制备方法,4,4',4''‑三羟基三苯甲烷与叔丁基二甲基氯硅烷反应,得到TPC‑OTBS;在三乙胺存在下,4,4',4''‑三羟基三苯甲烷与硫酰氟反应,制备TPC‑OSO2F;将TPC‑OTBS、TPC‑OSO2F溶解在DMF中,加入DBU超声分散均匀,静置,得到高分子凝胶。本发明获得的凝胶通过静电作用和范德华力可选择性吸附有机溶剂。用SEM和TEM对固体材料的表明和内部形貌进行了表征,发现了其多孔的形貌,且较多为大孔。用红外,核磁表征了交联聚硫酸酯的结构,通过固体核磁氟谱和XPS元素证明了单体磺酰氟基团完全反应,交联聚硫酸酯与溶剂之间的相互作用力使其在吸附方面有较好的应用前景。
    公开号:
    CN113150024B
  • 作为产物:
    参考文献:
    名称:
    Panda, Gautam; Parai, Maloy Kumar; Srivastava, Ajay Kumar, Indian Journal of Chemistry - Section B Organic and Medicinal Chemistry, 2009, vol. 48, # 8, p. 1121 - 1127
    摘要:
    DOI:
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文献信息

  • [EN] CROSS-LINKING COMPOUNDS AND METHODS OF USE THEREOF<br/>[FR] COMPOSÉS DE RÉTICULATION ET PROCÉDÉS D'UTILISATION
    申请人:UNIV NORTH CAROLINA STATE
    公开号:WO2021016537A1
    公开(公告)日:2021-01-28
    Compounds comprising a cross-linking moiety and a protecting group are described herein along with their methods of use. The cross-linking moiety may comprise an indoxyl and the protecting group may comprise a sugar (e.g., a glucuronide or glucoside), phosphoester, or sulfoester group. The cross-linking moiety and protecting group may be attached to each other via an oxygen atom, sulfur atom, or linker. In some embodiments, the linker attaching the cross-linking moiety and protecting group is a self-immolative linker. A compound of the present invention may cross-link under physiological conditions and/or in vivo.
    本文描述了包含交联基团和保护基团的化合物,以及它们的使用方法。交联基团可能包括吲哚基团,保护基团可能包括糖类(例如葡萄糖醛酸盐或葡萄糖苷)、磷酸酯或磺酸酯基团。交联基团和保护基团可以通过氧原子、硫原子或连接剂相互连接。在某些实施例中,连接交联基团和保护基团的连接剂是自解离连接剂。本发明的化合物可能在生理条件和/或体内发生交联。
  • PHOTOACID GENERATOR, AND RESIN COMPOSITION FOR PHOTOLITHOGRAPHY
    申请人:SAN-APRO LTD.
    公开号:US20160368879A1
    公开(公告)日:2016-12-22
    Provided is a non-ionic photoacid generator (A) expressed by general formula (1). R1 and R2 each independently represents an alkyl group having 1-18 carbons or a fluoroalkyl group having 1-18 carbons, an alkenyl group having 2-18 carbons, an alkynyl group having 2-18 carbons, an aryl group having 6-18 carbons, a silyl group, or the like; m and n respectively represent the number of R1s and R2s, each number being an integer from 0 to 3, and the total number (m+n) of R1s and R2s being an integer from 1 to 6. The m number of R1s and the n number of R2s may each be the same or different. R3 represents a hydrocarbon having 1-18 carbons wherein one part or all of the hydrogen may be substituted by fluorine.
    提供的非离子光酸发生剂(A)由通式(1)表示。R1和R2分别独立表示具有1-18个碳原子的烷基基团或具有1-18个碳原子的氟烷基基团,具有2-18个碳原子的烯基基团,具有2-18个碳原子的炔基基团,具有6-18个碳原子的芳基基团,硅基团等;m和n分别表示R1和R2的数量,每个数字为0到3的整数,R1和R2的总数(m+n)为1到6的整数。R1的数量m和R2的数量n可以相同也可以不同。R3表示具有1-18个碳原子的碳氢化合物,其中氢的一部分或全部可以被氟取代。
  • RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYPHENOLIC COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION, AND ALCOHOLIC COMPOUND THAT CAN BE DERIVED THEREFROM
    申请人:Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
    公开号:US20160145231A1
    公开(公告)日:2016-05-26
    A resist composition containing a compound represented by the general formula (1) or (2), a method for forming a resist pattern using the composition, a polyphenolic compound for use in the composition, and an alcoholic compound that can be derived therefrom are described.
    描述了一种包含由通式(1)或(2)表示的化合物的光刻胶组合物,使用该组合物形成光刻胶图案的方法,用于该组合物的多酚化合物,以及可以由其衍生的醇化合物。
  • Catalytic selective bis-arylation of imines with anisole, phenol, thioanisole and analogues
    作者:Cong-Rong Liu、Man-Bo Li、Cui-Feng Yang、Shi-Kai Tian
    DOI:10.1039/b800066b
    日期:——
    The first highly efficient double Friedel–Crafts reaction of N-tosyl imines with anisole, phenol, thioanisole and analogues has been developed to produce the corresponding symmetric diarylmethanes and triarylmethanes with high regioselectivity in the presence of a catalytic amount of Bi2(SO4)3–TMSCl at room temperature.
    首次开发了一种高效的N-甲苯磺酰亚胺与茴香醚、苯酚、硫代茴香醚及其类似物的双弗里德尔-克拉夫茨反应,在室温下,使用催化量的Bi2(SO4)3-TMSCl,以高区域选择性制备相应的对称二芳基甲烷和三芳基甲烷。
  • Novel sulfonyldiazomethanes, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
    申请人:——
    公开号:US20040167322A1
    公开(公告)日:2004-08-26
    A chemical amplification type resist composition comprising a specific benzenesulfonyldiazomethane containing a long-chain alkoxyl group at the 2-position on benzene ring has many advantages including improved resolution, improved focus latitude, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, minimized debris left after coating, development and peeling, and improved pattern profile after development and is thus suited for microfabrication.
    一种化学放大型抗蚀组合物,包括在苯环上的2-位含有长链烷氧基基团的特定苯磺酰二氮甲烷,具有许多优点,包括提高分辨率,改善焦点宽度,即使在长期PED上也减少线宽变化或形状退化,涂层、显影和剥离后减少残留物,并在显影后改善图案轮廓,因此适用于微加工。
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表征谱图

  • 氢谱
    1HNMR
  • 质谱
    MS
  • 碳谱
    13CNMR
  • 红外
    IR
  • 拉曼
    Raman
hnmr
mass
cnmr
ir
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  • 峰位数据
  • 峰位匹配
  • 表征信息
Shift(ppm)
Intensity
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Assign
Shift(ppm)
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测试频率
样品用量
溶剂
溶剂用量
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同类化合物

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