2,7,12-Trimethoxy-4,9,14-trimethyl-10,15-dihydro-5H-tribenzo[a,d,g]cyclononene-1,6,11-triol | 42214-47-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 酚类
• 英文名称: 2,7,12-Trimethoxy-4,9,14-trimethyl-10,15-dihydro-5H-tribenzo[a,d,g]cyclononene-1,6,11-triol
• 英文别名: 5,12,19-trimethoxy-7,14,21-trimethyltetracyclo[15.4.0.03,8.010,15]henicosa-1(17),3(8),4,6,10(15),11,13,18,20-nonaene-4,11,18-triol
• CAS: 42214-47-1
• 化学式: C₂₇H₃₀O₆
• mdl: MFCD30711884
• 分子量: 450.532
• InChiKey: CLUZMSUEWAQUQR-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.7
• 重原子数：
  33
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  88.4
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-Hydroxy-3-methoxy-5-methylbenzylalkohol 在 盐酸 作用下， 生成 2,7,12-Trimethoxy-4,9,14-trimethyl-10,15-dihydro-5H-tribenzo[a,d,g]cyclononene-1,6,11-triol
  参考文献：
  名称：

  Synthesis, structure, and conformation of 10,15-dihydro-1,6,11-trihydroxy-2,7,12-trimethoxy-4,9,14-trimethyl-5H-tribenzo[a,d,g]cyclononene and its tripropyl analog

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo00964a015

文献信息

• Positive type photoresist composition
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：EP0445819A2

  公开（公告）日：1991-09-11

  A novel positive type photoresist composition is provided comprising a quinodiazide compound and an alkali-soluble resin as essential components, characterized in that there is contained at least one of compounds represented by formulae (I) to (VI): The positive type photoresist of the present invention exhibits excellent sensitivity, percent film remaining, resolution, heat resistance, resist shape and developability.

  本发明提供了一种新型正型光刻胶组合物，该组合物由一种喹吖啶化合物和一种碱溶性树脂作为基本成分组成，其特征在于其中含有至少一种由式（I）至（VI）表示的化合物： 本发明的正型光刻胶具有优异的灵敏度、残膜率、分辨率、耐热性、抗蚀剂形状和显影性。