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trimethyl[N-((1-naphthyl)methyl)thiocarbamoyl]silane | 1219505-23-3

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
trimethyl[N-((1-naphthyl)methyl)thiocarbamoyl]silane
英文别名
N-(naphthalen-1-ylmethyl)-1-trimethylsilylmethanethioamide
trimethyl[N-((1-naphthyl)methyl)thiocarbamoyl]silane化学式
CAS
1219505-23-3
化学式
C15H19NSSi
mdl
——
分子量
273.474
InChiKey
FTOMTFAIFDSHPL-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.13
  • 重原子数:
    18
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.27
  • 拓扑面积:
    44.1
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    1

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    三甲基氯硅烷N-[(1-naphthyl)methyl]thioformamide正丁基锂二异丙胺 作用下, 以 四氢呋喃正己烷 为溶剂, 反应 24.17h, 以46%的产率得到trimethyl[N-((1-naphthyl)methyl)thiocarbamoyl]silane
    参考文献:
    名称:
    仲硫代氨基甲酰基硅烷的合成与性能
    摘要:
    二级硫代甲酰胺与过量的 LDA 和 Me 3 SiCl 在 -78 °C 下反应。甲硅烷基被选择性地引入到硫代羰基碳原子上,得到仲硫代氨基甲酰基硅烷。Me 2 PhSiCl 和 t-BuMe 2 SiCl 的使用产生了产率降低的类似产品。虽然多种N-芳基甲基硫代甲酰胺参与了硅烷化反应,但产物的产率受芳环上取代基的影响:吸电子基团降低了产率。与氮原子上具有仲烷基的硫代甲酰胺不发生反应,而具有伯烷基的硫代甲酰胺反应顺利进行,形成相应的硫代氨基甲酰基硅烷。最初,在氮原子上发生去质子化以生成硫代亚胺酸锂,然后用氯硅烷甲硅烷基化,形成硫代亚胺甲硅烷酯。过量的 LDA 使亚胺酸碳原子上的硫代亚胺甲硅烷基去质子化,生成硫代亚胺甲硅烷基锂,其经历反向布鲁克重排以形成在亚胺碳原子上带有甲硅烷基的硫代亚胺酸锂。中间体的水解可能导致二级硫代氨基甲酰基硅烷的形成。在硫代氨基甲酰基硅烷的紫外-可见光谱中,归因于 n-π*
    DOI:
    10.1246/bcsj.20090231
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