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三(N,N''-二异丙基甲酰胺基)镧(III) | 1034537-36-4

中文名称
三(N,N''-二异丙基甲酰胺基)镧(III)
中文别名
——
英文名称
lanthanum tris(N,N'-diisopropylformamidinate)
英文别名
lanthanum(3+);propan-2-yl(propan-2-yliminomethyl)azanide
三(N,N''-二异丙基甲酰胺基)镧(III)化学式
CAS
1034537-36-4
化学式
C21H45LaN6
mdl
——
分子量
520.534
InChiKey
NOIHKHLSQPSBHG-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    6.62
  • 重原子数:
    28
  • 可旋转键数:
    6
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.86
  • 拓扑面积:
    40.1
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    6

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    lutetium tris(N,N'-diethylformamidinate) 、 三(N,N''-二异丙基甲酰胺基)镧(III) 以 neat (no solvent, gas phase) 为溶剂, 生成 lanthanum lutetium oxide
    参考文献:
    名称:
    超薄Al2O3阻挡层对LaLuO3金属氧化物半导体器件电性能的影响
    摘要:
    温度相关的电流-电压测量显示了 Poole-Frenkel 导电行为通过在 Si 上原子层沉积制成的高 κ LaLuO3 薄膜。俘获电子的能级比导带低 0.66 eV 左右,被确定为氧空位能级。进行氧处理以减少氧空位,但形成界面层并且界面态密度(Dit)增加。因此,在氧处理过程中使用超薄 Al2O3 来保护界面。电性能得到改善并且没有形成界面层。Dit 低于 9×1011 eV-1 cm-2 并且在 1 V 下对于 1 nm 等效氧化物厚度的泄漏为 5×10-4 A/cm2。
    DOI:
    10.1063/1.3563713
  • 作为产物:
    描述:
    N,N'-Diisopropylformamidin 在 potassium hydride 作用下, 以 四氢呋喃 为溶剂, 反应 29.0h, 以63.46 g的产率得到三(N,N''-二异丙基甲酰胺基)镧(III)
    参考文献:
    名称:
    一种有机镧前驱体La(iPr2-FMD)3的制备方法
    摘要:
    本发明公开一种有机镧前驱体La(iPr2‑FMD)3的制备方法,通过N,N'‑二异丙基甲脒、ML和LaCl3·xTHF反应制备La(iPr2‑FMD)3,ML为金属氢化物或氨基金属,M为金属钠或钾,L为H、NH2或N(SiMe3)2,LaCl3·xTHF中x值为0.7‑1.5。本发明通过使用N,N'‑二异丙基甲脒钠盐或钾盐,可以与LaCl3·xTHF反应制得La(iPr2‑FMD)3,升华提纯时,由于N,N'‑二异丙基甲脒钠盐或钾盐的蒸气压比锂盐低,可较易实现与产品La(iPr2‑FMD)3的分离,提高了产品的纯度,产率也比使用锂盐时更高。
    公开号:
    CN113582879A
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