opt.akt.-2-Cyclohexyl-butyl-(2)-amin | 24325-59-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: opt.akt.-2-Cyclohexyl-butyl-(2)-amin
• 英文别名: rac.-2-Cyclohexyl-butyl-(2)-amin；2-Cyclohexylbutan-2-amine
• CAS: 24325-59-5；24325-60-8
• 化学式: C₁₀H₂₁N
• 分子量: 155.283
• InChiKey: BFPPTCKLRGQYKE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.8
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  26
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1-methyl-1-phenyl-n-propylamine 在 platinum(IV) oxide 盐酸 、 氢气 作用下， 生成 opt.akt.-2-Cyclohexyl-butyl-(2)-amin
  参考文献：
  名称：

  Diazenes. IV. Circular dichroism of dialkyldiazenes (azoalkanes)

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01035a020

文献信息

• TETRAZINE-CONTAINING COMPOUNDS AND SYNTHETIC METHODS THEREOF
  申请人：The Regents of the University of California

  公开号：US20160223559A1

  公开（公告）日：2016-08-04

  Described herein are tetrazine derivatives and efficient synthetic methods of synthesis thereof using elimination-Heck cascade reaction. Provided herein is the synthesis of conjugated tetrazines from the tetrazine derivatives. Also provided herein are methods of use of the conjugated tetrazines as fluorogenic probes for live-cell imaging.

  本文描述了四唑衍生物及利用消除-Heck级联反应的高效合成方法。本文提供了从四唑衍生物合成共轭四唑的方法。本文还提供了将共轭四唑用作活细胞成像的荧光探针的使用方法。
• [EN] RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR PRODUCING COMPOUNDS, INTERMEDIATE, AND COMPOUNDS<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE COMPOSÉS, INTERMÉDIAIRE ET COMPOSÉS<br/>[JA] レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物の製造方法、中間体及び化合物
  申请人：[en]TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.;[ja]東京応化工業株式会社

  公开号：WO2022265034A1

  公开（公告）日：2022-12-22

  樹脂成分（Ａ１）と、一般式（ｂ０）で表される化合物（Ｂ０）を含む、レジスト組成物（式中、Ｘ０は、臭素原子又はヨウ素原子である。Ｒｍは、ヒドロキシ基等である。ｎｂ１は、１～５であり、ｎｂ２は、０～４であり、１≦ｎｂ１＋ｎｂ２≦５である。Ｙｂ０は、２価の連結基又は単結合である。Ｖｂ０は、単結合、アルキレン基又はフッ素化アルキレン基である。Ｒ０は、水素原子、炭素数１～５のフッ素化アルキル基又はフッ素原子である。Ｒｂ１～Ｒｂ１５は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基である。ただし、Ｒｂ１～Ｒｂ５の少なくとも２つがフッ素原子であるか、Ｒｂ１～Ｒｂ５の少なくとも１つがパーフルオロアルキル基である）。
• WO2022270627A1
  申请人：——

  公开号：WO2022270627A1

  公开（公告）日：2022-12-29
• [EN] RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE<br/>[JA] レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
  申请人：[en]TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.;[ja]東京応化工業株式会社

  公开号：WO2022264845A1

  公开（公告）日：2022-12-22

  露光により分解して酸拡散制御性を失う光崩壊性塩基を含む構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ１）と、一般式（ｂ０）で表される化合物（Ｂ０）を含む酸発生剤成分（Ｂ）とを含有する、レジスト組成物（式中、Ｘ０は、臭素原子又はヨウ素原子である。Ｒｍは、ヒドロキシ基、アルキル基、フッ素原子、又は、塩素原子である。ｎｂ１は、１～５の整数であり、ｎｂ２は、０～４の整数であり、１≦ｎｂ１＋ｎｂ２≦５である。Ｙｂ０は、２価の連結基又は単結合である。Ｖｂ０は、単結合、アルキレン基又はフッ素化アルキレン基である。Ｒ０は、水素原子、炭素数１～５のフッ素化アルキル基又はフッ素原子である。Ｍｍ＋は、ｍ価の有機カチオンを表す。ｍは１以上の整数である。）。
• Diazenes. IV. Circular dichroism of dialkyldiazenes (azoalkanes)
  作者：David J. Severn、Edward M. Kosower

  DOI：10.1021/ja01035a020

  日期：1969.3