1,3-bis(hepta(3,3,3-trifluoropropyl)-T8-silsesquioxyl)propane | 1313193-29-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: 1,3-bis(hepta(3,3,3-trifluoropropyl)-T8-silsesquioxyl)propane
• 英文别名: POSS-DP
• CAS: 1313193-29-1
• 化学式: C₄₅H₆₂F₄₂O₂₄Si₁₆
• 分子量: 2234.27
• InChiKey: QDQFZEPPZYFMND-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  20.27
• 重原子数：
  127.0
• 可旋转键数：
  32.0
• 环数：
  12.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  221.52
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  24.0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  hepta(3,3,3-trifluoropropyl)tricycloheptasiloxane trisodium silanolate 、 1,3-双(三氯甲硅烷基)丙烷 在 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 以12%的产率得到1,3-bis(hepta(3,3,3-trifluoropropyl)-T8-silsesquioxyl)propane
  参考文献：
  名称：

  由简单脂肪链连接的哑铃形三氟丙基取代的POSS衍生物及其光学透明热塑性薄膜的合成。

  摘要：

  哑铃形三氟丙基取代的三氟丙基取代的C2连接的POSS（POSS-DE），C3连接的POSS（POSS-DP）和C6连接的POSS（POSS-DH）是通过对角庚烷（3,3,3）进行封端制备的-三氟丙基）三环庚硅氧烷硅烷醇三钠（F7-Na）分别与1,2-双（三氯甲硅烷基）乙烷，1,3-双（三氯甲硅烷基）丙烷和1,6-双（三氯甲硅烷基）己烷。这些获得的化合物的结构通过1 H，13 C和29确证Si NMR光谱和MALDI–TOF–MS分析。对于POSS-DP和POSS-DH，旋涂六氟苯溶液，然后在100°C烘烤3分钟，得到光学透明薄膜。但是，POSS-DE形成不透明的发白薄膜。透明膜的折射率在1.38至1.39的范围内，与通过在250℃下烘烤而制备的相应的无规倍半硅氧烷的折射率相同。POSS-DP和POSS-DH被视为低温加工低折射材料。哑铃形POSS衍生物的热稳定性高于烯丙基庚（3,3,3-三

  DOI：

  10.1021/ma2008095