1,6-bis(2'-propynyloxy)naphthalene | 20009-41-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 1,6-bis(2'-propynyloxy)naphthalene
• 英文别名: 1,6-Dipropinyloxynaphthalin；1,6-Bis(prop-2-yn-1-yloxy)naphthalene；1,6-bis(prop-2-ynoxy)naphthalene
• CAS: 20009-41-0
• 化学式: C₁₆H₁₂O₂
• 分子量: 236.27
• InChiKey: NLMHZWUEMAMZAM-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  402.3±35.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.151±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.3
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.12
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1,6-二羟基萘 、 3-溴丙炔 在 potassium carbonate 作用下， 以 丙酮 为溶剂， 生成 1,6-bis(2'-propynyloxy)naphthalene
  参考文献：
  名称：

  Venugopalan, Bindumadhavan; Balasubramanian,Kalpattu Kuppuswamy, Heterocycles, 1985, vol. 23, # 1, p. 81 - 92

  摘要：

  DOI：

文献信息

• COMPOUND FOR FORMING ORGANIC FILM, COMPOSITION FOR FORMING ORGANIC FILM, METHOD FOR FORMING ORGANIC FILM, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20170184968A1

  公开（公告）日：2017-06-29

  A compound for forming an organic film shown by the formula (1A), R—(—X) m1 (1A) wherein R represents a single bond or an organic group having 1 to 50 carbon atoms; X represents a group shown by formula (1B); and ml represents an integer satisfying 2≦m1≦10, wherein X 2 represents a divalent organic group having 1 to 10 carbon atoms; n1 represents 0 or 1; n2 represents 1 or 2; X 3 represents a group shown by the formula (1C); and n5 represents 0, 1, or 2, wherein R 10 represents a hydrogen atom or a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, wherein a hydrogen atom of the benzene ring in formula (1C) may be substituted with a methyl group or methoxy group. This compound for forming an organic film can provide organic film composition having good dry etching resistance, heat resistance to 400° C. or higher, high filling and planarizing properties.

  一种用于形成有机薄膜的化合物，其化学式为(1A)，R—(—X)m1(1A)，其中R代表一个单键或具有1至50个碳原子的有机基团；X代表化学式(1B)所示的基团；m1代表满足2≦m1≦10的整数，其中X2代表具有1至10个碳原子的二价有机基团；n1代表0或1；n2代表1或2；X3代表化学式(1C)所示的基团；n5代表0、1或2，其中R10代表氢原子或具有1至10个碳原子的饱和或不饱和碳氢基团，化学式(1C)中苯环的氢原子可能被甲基基团或甲氧基取代。这种用于形成有机薄膜的化合物可以提供具有良好干法刻蚀抗性、耐高温至400°C或更高、高填充和平整化性能的有机薄膜组合物。
• Compound for forming organic film, composition for forming organic film, method for forming organic film, and patterning process
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US10444628B2

  公开（公告）日：2019-10-15

  A compound for forming an organic film shown by the formula (1A), RX)m1  (1A) wherein R represents a single bond or an organic group having 1 to 50 carbon atoms; X represents a group shown by formula (1B); and m1 represents an integer satisfying 2≤m1≤10, wherein X2 represents a divalent organic group having 1 to 10 carbon atoms; n1 represents 0 or 1; n2 represents 1 or 2; X3 represents a group shown by the formula (1C); and n5 represents 0, 1, or 2, wherein R10 represents a hydrogen atom or a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, wherein a hydrogen atom of the benzene ring in formula (1C) may be substituted with a methyl group or methoxy group. This compound for forming an organic film can provide organic film composition having good dry etching resistance, heat resistance to 400° C. or higher, high filling and planarizing properties.

  一种用于形成式 (1A) 所示有机薄膜的化合物、 RX)m1 (1A) 其中 R 代表单键或具有 1 至 50 个碳原子的有机基团；X 代表式 (1B) 所示的基团；m1 代表满足 2≤m1≤10 的整数、 其中 X2 代表具有 1 至 10 个碳原子的二价有机基团；n1 代表 0 或 1；n2 代表 1 或 2；X3 代表式（1C）所示的基团；n5 代表 0、1 或 2、 其中 R10 代表氢原子或具有 1 至 10 个碳原子的饱和或不饱和烃基，其中式（1C）中苯环的氢原子可被甲基或甲氧基取代。这种用于形成有机薄膜的化合物可提供具有良好耐干蚀刻性、400° C 或更高耐热性、高填充性和平面化性能的有机薄膜组合物。
• VENUGAPELEN, SINDUMADHAVAN;SALASUBRAMANIAN, KALPATTU, KUPPUSWAMY, HETEROCYCLES, 1985, 23, N 1, 81-92
  作者：VENUGAPELEN, SINDUMADHAVAN、SALASUBRAMANIAN, KALPATTU, KUPPUSWAMY

  DOI：——

  日期：——
• Venugopalan, Bindumadhavan; Balasubramanian,Kalpattu Kuppuswamy, Heterocycles, 1985, vol. 23, # 1, p. 81 - 92
  作者：Venugopalan, Bindumadhavan、Balasubramanian,Kalpattu Kuppuswamy

  DOI：——

  日期：——