methyl 5-(chlorosulfonyl)-2-naphthoate | 141952-11-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: methyl 5-(chlorosulfonyl)-2-naphthoate
• 英文别名: methyl 5-chlorosulfonylnaphthalene-2-carboxylate
• CAS: 141952-11-6
• 化学式: C₁₂H₉ClO₄S
• 分子量: 284.72
• InChiKey: YLKRKYJVJHEZKB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.08
• 拓扑面积：
  68.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (1R,3r,5S,8s)-3-((5-cyclopropyl-3-(2-(trifluoromethoxy)phenyl)isoxazol-4-yl)methoxy)bicyclo[3.2.1]octan-8-amine 、 methyl 5-(chlorosulfonyl)-2-naphthoate 在 水 、 1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯 、 sodium hydroxide 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲醇 、 二氯甲烷 为溶剂， 反应 2.0h， 生成 5-(N-((1R,3r,5S,8s)-3-((5-cyclopropyl-3-(2-(trifluoromethoxy)phenyl)isoxazol-4-yl)methoxy)bicyclo[3.2.1]octan-8-yl)sulfamoyl)-2-naphthoic acid
  参考文献：
  名称：

  [EN] ISOXAZOLE DERIVATIVES AS FXR AGONISTS AND METHODS OF USE THEREOF
  [FR] DÉRIVÉS D'ISOXAZOLE UTILISÉS EN TANT QU'AGONISTES DE FXR ET LEURS PROCÉDÉS D'UTILISATION

  摘要：

  本发明公开了化合物的结构式（I），以及这些化合物的药用盐和酯：结构式（I）的药物组合物，包括这些化合物的使用方法，用于治疗或预防作为FXR调节剂介导的疾病或紊乱。具体而言，本发明涉及用作FXR激动剂的异恶唑衍生物，以及其制备和使用方法。

  公开号：

  WO2020231917A1
• 作为产物：
  描述：

  2-萘甲酸甲酯 在 氯磺酸 作用下， 以11.54 g的产率得到methyl 5-(chlorosulfonyl)-2-naphthoate
  参考文献：
  名称：

  通过核超载增强测量确定取代萘的结构

  摘要：

  通过案例研究描述了方法，该方法结合现代1 H NMR方法确定萘，尤其是萘磺酸衍生物衍生产品中取代基的方向。

  DOI：

  10.1016/s0040-4020(01)88771-8

文献信息

• POLYMER, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERNING METHOD, METHOD OF FORMING CURED FILM, INTERLAYER INSULATING FILM, SURFACE PROTECTIVE FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP3896521A1

  公开（公告）日：2021-10-20

  Provided is a polymer that can be used as a base resin for a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition, wherein the positive photosensitive resin composition and the negative photosensitive resin composition are soluble in an aqueous alkaline solution, can form a fine pattern, can achieve high resolution, and have good mechanical properties even when they are cured at low temperature. Also provided are a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition using the polymer. The polymer is represented by general formulas (1) and/or (2): wherein T1 and T2 may be the same as, or different from, each other and represent any of -CO- and -SO2-; X1 is a tetravalent organic group; and 1 is 0 or 1; and X2 is a divalent organic group.

  本发明提供了一种聚合物，可用作正感光树脂组合物和负感光树脂组合物的基础树脂，其中正感光树脂组合物和负感光树脂组合物可溶于碱性水溶液，可形成精细图案，可实现高分辨率，即使在低温下固化也具有良好的机械性能。此外，还提供了使用该聚合物的正感光树脂组合物和负感光树脂组合物。该聚合物由通式（1）和/或（2）表示： 其中 T1 和 T2 可以彼此相同或不同，并代表 -CO- 和 -SO2- 中的任何一种；X1 是四价有机基团；1 是 0 或 1；X2 是二价有机基团。
• Polymer, photosensitive resin composition, patterning method, method of forming cured film, interlayer insulating film, surface protective film, and electronic component
  申请人：International Business Machines Corporation

  公开号：US11333975B2

  公开（公告）日：2022-05-17

  Provided is a polymer that can be used as a base resin for a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition, wherein the positive photosensitive resin composition and the negative photosensitive resin composition are soluble in an aqueous alkaline solution, can form a fine pattern, can achieve high resolution, and have good mechanical properties even when they are cured at low temperature. Also provided are a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition using the polymer. The polymer is represented by general formulas (1) and/or (2): wherein T1 and T2 may be the same as, or different from, each other and represent any of —CO— and —SO2—; X1 is a tetravalent organic group; and l is 0 or 1; and X2 is a divalent organic group.

  本发明提供了一种聚合物，可用作正感光树脂组合物和负感光树脂组合物的基础树脂，其中正感光树脂组合物和负感光树脂组合物可溶于碱性水溶液，可形成精细图案，可实现高分辨率，即使在低温下固化也具有良好的机械性能。此外，还提供了使用该聚合物的正感光树脂组合物和负感光树脂组合物。该聚合物由通式（1）和/或（2）表示： 其中 T1 和 T2 可以彼此相同或不同，并代表 -CO- 和 -SO2- 中的任意一种；X1 是四价有机基团；l 是 0 或 1；X2 是二价有机基团。
• ISOXAZOLE DERIVATIVES AS FXR AGONISTS AND METHODS OF USE THEREOF
  申请人：Enanta Pharmaceuticals, Inc.

  公开号：US20200361920A1

  公开（公告）日：2020-11-19

  The present invention discloses compounds of Formula (I), and pharmaceutically acceptable salts and esters thereof: pharmaceutical compositions comprising these compounds and methods of using these compounds to treat or prevent a disease or disorder mediated as FXR modulators. Specifically, the present invention relates to isoxazole derivatives useful as agonists for FXR, and methods for their preparation and use.