2-phenethylbenzenethiol | 1289560-60-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯丙烷和聚酮 - 二苯乙烯类
• 英文名称: 2-phenethylbenzenethiol
• 英文别名: Phenethylthiophenol；2-(2-phenylethyl)benzenethiol
• CAS: 1289560-60-6
• 化学式: C₁₄H₁₄S
• 分子量: 214.331
• InChiKey: VCTWTJMLKSXBHT-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.3
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  1
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  trans-6,13-dihydroxy-6,13-dihydropentacene 、 2-phenethylbenzenethiol 、 在 碘化锌 氩 、 水 、 二氯甲烷 、 Brine 、 silica gel 、 n-hexanes-CH2Cl2 、 product 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 2.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  Class of soluble, photooxidatively resistant acene derivatives

  摘要：

  本发明涉及一种新型的半导体蒽衍生物。这些化合物都是可溶性的物种，它们都具有比缺乏本文所披露的取代模式的对应物更优异的抗光氧化性能。

  公开号：

  US08513466B2
• 作为产物：
  描述：

  2-(苯基亚磺酰)吡啶 在 碘苯二乙酸 、 palladium diacetate 、 magnesium 作用下， 以 甲醇 、 1,2-二氯乙烷 为溶剂， 反应 20.0h， 生成 2-phenethylbenzenethiol
  参考文献：
  名称：

  2-吡啶基亚砜：PdII催化的直接C的通用且可移动的导向基团。芳烃的H烯烃化

  摘要：

  可移动的和多功能的：2-吡啶基亚硫组已被证明是在PD的有效定向基团II催化的芳基邻位Ç  ħ烯。这种催化剂系统使连续双烯给不对称二邻-功能化芳烃。亚硫酰基导向基团可以很容易地裂解，从而可以接近1,3-二取代的芳烃，或者可以转化为硫醇基团。

  DOI：

  10.1002/chem.201003633

文献信息

• CLASS OF SOLUBLE, PHOTOOXIDATIVELY RESISTANT ACENE DERIVATIVES
  申请人：Miller Glen P.

  公开号：US20110130594A1

  公开（公告）日：2011-06-02

  The present invention is directed towards a new class of semi-conducting acene derivatives. These compounds are all soluble species and they all possess superior resistance to photooxidation as compared to their counterparts that lack the substitution patterns disclosed herein.

  本发明针对一种新型半导体芳香烃衍生物。这些化合物都是可溶性物种，与缺乏本文所披露的取代模式的对应物相比，它们都具有更优越的抗光氧化性能。
• US8513466B2
  申请人：——

  公开号：US8513466B2

  公开（公告）日：2013-08-20
• [EN] A NEW CLASS OF SOLUBLE, PHOTOOXIDATIVELY RESISTANT ACENE DERIVATIVES<br/>[FR] NOUVELLE CLASSE DE DÉRIVÉS D'ACÈNES SOLUBLES RÉSISTANT À LA PHOTO-OXYDATION
  申请人：UNIV NEW HAMPSHIRE

  公开号：WO2011066392A1

  公开（公告）日：2011-06-03

  The present invention is directed towards a new class of semi-conducting acene derivatives. These compounds are all soluble species and they all possess superior resistance to photooxidation as compared to their counterparts that lack the substitution patterns disclosed herein.