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2-[2-[2-氯-3-[2-(1,3-二氢-1,1,3-三甲基-2H-苯并[e]吲哚-2-亚基)乙亚基]-1-环己烯-1-基l]乙烯基]-1,1,3-三甲基-1H-苯并[e]吲哚鎓氯化物 | 297173-98-9

中文名称
2-[2-[2-氯-3-[2-(1,3-二氢-1,1,3-三甲基-2H-苯并[e]吲哚-2-亚基)乙亚基]-1-环己烯-1-基l]乙烯基]-1,1,3-三甲基-1H-苯并[e]吲哚鎓氯化物
中文别名
——
英文名称
(2E)-2-[(2E)-2-[2-chloro-3-[(E)-2-(1,1,3-trimethylbenzo[e]indol-3-ium-2-yl)ethenyl]cyclohex-2-en-1-ylidene]ethylidene]-1,1,3-trimethylbenzo[e]indole;chloride
英文别名
——
2-[2-[2-氯-3-[2-(1,3-二氢-1,1,3-三甲基-2H-苯并[e]吲哚-2-亚基)乙亚基]-1-环己烯-1-基l]乙烯基]-1,1,3-三甲基-1H-苯并[e]吲哚鎓氯化物化学式
CAS
297173-98-9
化学式
C40H40ClN2*Cl
mdl
——
分子量
619.677
InChiKey
OCMNNFAQKDCLFG-UHFFFAOYSA-M
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    7.47
  • 重原子数:
    44
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    7.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.28
  • 拓扑面积:
    6.2
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

反应信息

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文献信息

  • THERMALLY REACTIVE NEAR INFRARED ABSORPTION POLYMER COATINGS, METHOD OF PREPARING AND METHODS OF USE
    申请人:American Dye Source, Inc.
    公开号:EP1161469A1
    公开(公告)日:2001-12-12
  • US6124425A
    申请人:——
    公开号:US6124425A
    公开(公告)日:2000-09-26
  • US6177182B1
    申请人:——
    公开号:US6177182B1
    公开(公告)日:2001-01-23
  • [EN] THERMALLY REACTIVE NEAR INFRARED ABSORPTION POLYMER COATINGS, METHOD OF PREPARING AND METHODS OF USE<br/>[FR] REVETEMENTS POLYMERES THERMOREACTIFS ABSORBANT LE PROCHE INFRAROUGE, MODES DE PREPARATION ET D'UTILISATION
    申请人:AMERICAN DYE SOURCE INC
    公开号:WO2000056791A1
    公开(公告)日:2000-09-28
    Provided herein are novel polymeric coating materials for direct digital imaging by laser. More specifically the novel coating materials are thermally reactive near infrared absorption polymers designed for use with near infrared laser imaging devices. This invention further extends to the preparation and methods of use of the novel materials. The invention is particularly useful in the preparation of lithographic printing plates for computer-to-plate and digital-offset-press technologies. The invention extends to photoresist applications, to rapid prototyping of printed circuit boards and to chemical sensor development.
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